説明

日新電機株式会社により出願された特許

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【課題】 系統過渡現象の影響を排除して誤検出の可能性を抑えて、単独運転検出時間を短縮することができる方法および装置を提供する。
【解決手段】 この発明に係る単独運転検出方法においては、配電系統にその基本波の非整数倍次数の注入電流を単相注入し、3相の計測電圧、計測電流から、注入次数の正相、逆相のアドミタンス、正相、逆相のサセプタンスを算出する。そして、両サセプタンスの少なくとも一方が判定値Bju以下となっても、両アドミタンスの少なくとも一方が基準値Yst以上の場合は、両アドミタンスの不一致度が判定値以下の場合にのみ分散電源の単独運転状態であると判定する。 (もっと読む)


【課題】ロゴスキーコイルの始端終端部位置を同一にし、両部間の距離を短縮し、均一な品質のロゴスキーコイルを実現するという課題を解決する。
【解決手段】ロゴスキーコイル1の始端終端部の巻線2及び巻戻し線3と、接続線7とをプリント基板10上で半田付けすることにより、ロゴスキーコイル1の始端終端部を容易に同一位置にして、ロゴスキーコイル1の品質の均一化を図る。さらに、巻芯6と巻戻し線3に絶縁ケーブルを用いることで、ロゴスキーコイル1のコスト低減も図る。 (もっと読む)


【課題】ロゴスキーコイルを用いて低電流計測を行う場合、検出信号に外部ノイズが発生するため、検出信号から外部ノイズをいかに除去するかが課題であった。
【解決手段】電流が流れる導体の周囲を取り囲むように配置したロゴスキーコイル2と、ロゴスキーコイル2の電圧信号を増幅したアナログ信号を出力するアナログ回路3と、アナログ信号をデジタル信号に変換するアナログデジタル変換器11と、デジタル信号を、回帰型DFT(離散フーリエ変換)によるデジタルフィルタ処理で特定周波数の信号を抽出するデジタルフィルタ手段、抽出信号をデジタル積分するデジタル積分手段、および、デジタル積分信号から導体の電流値を演算するマイクロプロセッサと、を備えて電流計測装置を構成する。 (もっと読む)


【課題】誘導結合型プラズマを発生させるプラズマ生成方法及び装置であって、プラズマ密度の低下を招くことなく、プラズマの電子温度を低く抑制することができる方法及び装置を提供する。かかるプラズマ生成装置を利用したプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】プラズマ生成室1内に複数本の高周波アンテナ2を設置し、高周波電力供給装置(電源41、42、位相制御部Cont等)から供給される高周波電力をアンテナ2から室1内ガスに印加して誘導結合型プラズマを発生させるプラズマ生成方法及び装置。複数本のアンテナ2は、各隣り合うもの同士が互いに向かい合った並列配置となるように設置される。高周波電力供給装置は、各アンテナ2に印加する高周波電圧の位相を制御することで誘導結合プラズマにおける電子温度を制御する。 (もっと読む)


【課題】 鉛蓄電池の代替品として、自動車、電動カートやアシスト機能付き自転車に搭載可能な蓄電システムを提供する。
【解決手段】 大容量コンデンサ11とその大容量コンデンサ11の充電電力を放電させるための放電回路16を、既存の蓄電池の外形規格に合致した寸法形状を有するケース18に収容させる。 (もっと読む)


【課題】誘導結合型プラズマを発生させるプラズマ生成方法及び装置であって、プラズマの電子温度を低く抑制することができる方法及び装置を提供する。かかるプラズマ生成装置を利用したプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】プラズマ生成室1、室1内に設置された少なくとも一本の高周波アンテナ2及び高周波電力供給装置(電源41等)を有し、高周波電力供給装置から供給される高周波電力を高周波アンテナ2から室1内ガスに印加して誘導結合型プラズマを発生させるプラズマ生成方法及び装置、並びに該装置を利用したプラズマ処理装置。高周波アンテナ2はインピーダンス45Ω以下に設定される。 (もっと読む)


【課題】 大型変圧器の排熱を有効利用する実用性の高い排熱回収利用システムの提供。
【解決手段】 電力機器の例えば変圧器1の排熱を給湯や暖房などに有効利用するシステムで、ヒートポンプ10と蓄熱器20を備える。ヒートポンプ10は、変圧器1の放熱部3を収納する膨張吸熱部10aと、蓄熱器20内の温水25中を蛇行する放熱凝縮部10cを有し、循環する冷媒を封入する。膨張吸熱部10aは放熱部3を収納する容器形状で、封入した冷媒と放熱部3との熱交換面積を大きくして、吸熱および放熱の熱交換効率を高くし、変圧器1の冷却効率と排熱有効利用率を上げる。 (もっと読む)


【課題】炭素系膜を生産性良好に形成することができる真空アーク蒸着装置を提供する。
【解決手段】炭素系膜を形成するための、炭素を主成分とするカソード11を真空アーク放電により蒸発させて炭素系膜を基材W上に形成する真空アーク蒸着装置。該装置は、100アンペア程度以下の低アーク電流で真空アーク放電を維持するためにアーク電源13とカソード11との間のリアクタンス成分発生回路Rを有しており、アーク放電回路におけるリアクタンス成分発生のためのインダクタンスは1mH以上10mH以下である。 (もっと読む)


【課題】誘導結合型プラズマを発生させるプラズマ生成装置であって、プラズマ発生室内に設置する高周波アンテナの本数に応じた高密度プラズマを発生させることができるプラズマ生成方法及び装置並びにプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】プラズマ生成室内に複数本の高周波アンテナ2を設置し、高周波電力供給装置(電源4、マッチングボックス3等)から供給される高周波電力をアンテナ2から室内ガスに印加して誘導結合型プラズマを発生させる。アンテナ2は、順次隣り合わせて、且つ、各隣り合うもの同士が互いに向かい合った並列配置となるように設置される。高周波電力供給装置は、各アンテナ2にそれらアンテナ2の同じ側から高周波電力を供給する。 (もっと読む)


【課題】従来のシリコンドット形成や結晶性シリコン薄膜形成と比べると、比較的低温下で、シリコン物体形成対象基体上に所望のシリコン物体(シリコンドットや結晶性シリコン薄膜)を形成できる方法及び装置を提供する。
【解決手段】シリコン物体形成対象基体Sを第1室1に配置し、第1室1に連設された第2室2にシリコンスパッタターゲットT1を設け、第2室2に水素ガスからケミカルスパッタリング用プラズマを生成させ、該プラズマにてシリコンスパッタターゲットT1をケミカルスパッタリングしてシリコン物体形成寄与粒子を生成させ、第2室2から第1室1へ到来する該シリコン物体形成寄与粒子により基体S上にシリコン物体を形成する。 (もっと読む)


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