【課題】ガスの状態でＥＵＶ放射種が供給されても安定してＥＵＶ光を放射することができる放電電極が回転移動する極端紫外光光源装置を提供すること。
【解決手段】ガス導入口１０からＥＵＶ放射種のキセノンガスが導入される。主放電電極１は、モータ４により回転しており、電子線発生装置５ａから出射した電子線は、主放電電極１に形成されている多数の貫通孔１ａを通過して、貫通孔２ａ内とその近傍に照射されキセノンガスを電離させる。高電圧印加回路５０から、両電極１，２に高電圧パルス電圧を印加すると、両電極１，２間に放電が発生し、貫通孔２ａには電子線により電離したキセノンによる高密度高温プラズマが発生し、このプラズマから波長１３．５ｎｍのＥＵＶ光が放射される。プラズマから放射されたＥＵＶ光は、ＥＵＶ集光鏡３に入射して反射集光され、フィルタ６を介して、照射部に出射する。 （もっと読む）

【課題】 基体部側フランジ部を有する基体部と、蓋部側フランジ部を有する蓋部本体および嵌入部を有する蓋部とにより構成され、内部の密閉空間内に伝熱体が封入された構造を有する電極を有する放電ランプであって、点灯時に電極が破損することがなく、安定に作動する放電ランプを提供する。
【解決手段】 この放電ランプの電極において、基体部側平坦面と蓋部側平坦面とにおける環状の溶接部の径方向幅が０．８〜３．０ｍｍであり、また、基体部側フランジ部は、軸方向断面において基体部側平坦面と基体部側斜面とがなす基体部側フランジ頂角の角度αが３０°以上の鋭角であり、蓋部側フランジ部は、軸方向断面において蓋部側平坦面と蓋部側斜面とがなす蓋部側フランジ頂角の角度βが３０°以上の鋭角であり、かつ、角度αと角度βとの合計が１６０°以下である。 （もっと読む）

【課題】水銀封入量が０．２０ｍｇ／ｍｍ^３以上の高圧放電ランプの初期点灯期間において、光束の上昇時間を短縮するとともに、前記突起の溶融・変形を防止することである。
【解決手段】給電装置３０は、高圧放電ランプ１０に対して、放電開始からランプ電圧ＶＬが所定の電圧に到達して定電力制御に切り替えるまでの定電流制御期間（Ｔｉ）において、ランプ電圧ＶＬが５０Ｖに達するまでは、定電力制御期間（Ｔｗ）の最大電流値より大きい電流（Ｉ２）を供給し、その後の定電力制御に変わるまでの期間は、定常点灯時の最大電流値より小さい電流（Ｉ１）を供給することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】希ガス蛍光ランプをバースト調光によって減光しても、管軸方向の輝度分布の均一性を維持しチラツキを抑制すると共に、周波数増大期間におけるランプ電圧のサージ電圧の発生を防止する。
【解決手段】希ガス蛍光ランプ１と、ランプ１に交流高電圧を印加するインバーター回路１００とを有し、回路１００は、スイッチング素子動作信号を出力するインバーター制御回路１０２と、スイッチング素子動作信号に従いスイッチング素子をオン、オフ制御することにより直流電圧を交流電圧に変換するスイッチング素子回路１０１と、回路１０１からの交流電圧を昇圧するトランス１１１からなり、ランプ１の点灯期間と消灯期間の時間比率を制御してバースト調光を行う希ガス蛍光ランプ点灯装置において、バースト調光の点灯開始時点からランプ１が凡そ軸方向全体にわたり発光する全発光完了時点までの期間の内の少なくとも一部の期間のスイッチング素子動作信号の周波数を、定常時におけるスイッチング素子動作信号の周波数よりも高くした。 （もっと読む）

【課題】 高いピーク照度が得られ、しかも、光照射対象物に対する熱の影響の程度が低減される光照射器およびこの光照射器を備え、画質の高い画像が確実に形成され、しかも、記録媒体に対する熱の影響の程度の小さいインクジェットプリンタを提供すること。
【解決手段】 光照射器は、ショートアーク型の放電ランプおよびこの放電ランプからの光を反射する反射部材とを備えてなり、放電ランプからの光が、反射部材によって、光照射面において線状に伸びるよう集光された状態で、照射される。インクジェットプリンタは、上記光照射器を備えたヘッド部を備え、光照射器から照射される光によって記録媒体に着弾された光硬化型インクを硬化させる。 （もっと読む）

【課題】外部誘電体を処理対象物に更に接近させることができる処理ガス吐出装置などを提供する。
【解決手段】処理ガス吐出装置は、上部外周面に供給穴２３を、下部外周面に吐出穴２４を有する管状の外部誘電体２２と、外部誘電体２２の外周面に設けられ且つ接地された外部電極２６と、外部誘電体２２の内部にこれと一定間隔を隔てて同軸に設けられる管状の内部誘電体３０と、内部誘電体３０の内部にその軸線と平行に設けられる管状の内部電極３２と、内部電極３２と外部電極２６との間に高周波電圧を印加する高周波電源３４と、供給穴２３から外部誘電体２２と内部誘電体３０との間に処理ガスを供給するガス供給機構とを備える。内部電極３２は、その中心軸線に沿って下部外周部が内側に偏倚した形状に形成されて、当該下部外周部が内部誘電体３０の内周面から離隔した状態となるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】 高圧放電ランプと凹面反射鏡よりなる光源装置において、大型化することなくアルカリ金属イオンを含む水分の封止管部内部への滲入を確実に遮断することができ、発光管部のリークを防止できて、ランプが不点灯になることがない光源装置を提供すること。
【解決手段】 発光管部の両端に封止管部が連設され、該封止管部の端面から外部リード棒が突出した高圧放電ランプと、集光部および該集光部の後端に連設された筒状頸部を有する凹面反射鏡とを備えた光源装置であり、高圧放電ランプの一方の封止管部が筒状頸部の内部に挿通されて封止管部と筒状頸部との間に接着剤が充填されて高圧放電ランプが凹面反射鏡に固定され、高圧放電ランプの封止管部の後端面に耐水性絶縁膜が形成されていることを特徴とする。また、耐水性絶縁膜が接着剤の表面上にも形成されていることを特徴とする。また、耐水性絶縁膜に黒色系顔料が混入されてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 金属箔と外囲器を密着させて形成される封止部を有し、耐圧性に優れ、信頼性の高い放電ランプおよび放電ランプ装置を提供すること。
【解決手段】 金属箔と外囲器を密着させて封止部が形成される放電ランプにおいて、前記外囲器よりも線膨張率の大きいガラス帯を前記封止部の外周に囲繞したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ集光鏡によって集光されるＥＵＶ光の遠方配光分布を良好とし、照度ムラを抑制すること。
【解決手段】回転楕円面形状、回転放物面形状、ウォルター型形状等の複数枚の薄い凹面ミラーを入れ子状に高精度に配置したＥＵＶ集光鏡において、各ミラーｂ，ｃ，ｄ，ｅの光入射端の厚みにより遮光されないように、各ミラーａ〜ｅの光入射端の反射面でない側の形状をナイフエッジ状に形成する。同様に、各ミラーｂ，ｃ，ｄ，ｅの光出射端についても、光出射端の形状をナイフエッジ状の構成する。これにより、ＥＵＶ光源装置に使用したときの遠方配光分布を良好とし、光度の低下度は従来のものより小さくすることができる。 （もっと読む）

【課題】 大型化した放電ランプであっても、容易に放電ランプを固定することができ、また、反射ミラー等に傷をつけずに電気的接続を実現できる放電ランプ保持機構を提供すること。
【解決手段】 少なくとも一方の端部に口金が装着された放電ランプと、この放電ランプを垂直方向に立てるように保持し、かつ着脱可能に保持するホルダからなる放電ランプ保持機構であって、
前記放電ランプの口金は導電性部材からなる口金側平坦部を有し、
前記ホルダは当該口金側平坦部と係合する導電性部材からなるホルダ側平坦部を有し、
前記放電ランプの口金を、前記ホルダ側平坦部と垂直な方向から押さえて、口金側仮固定機構とホルダ側仮固定機構を作動させて両者の仮固定を行い、その後、口金側本固定機構とホルダ側本固定機構を作動させて、両者を本固定することを特徴とする。 （もっと読む）