【課題】加圧を始めてから液体が供給口から押出されるまでの時間遅れを防止して設定量の液体を正確に塗布でき、耐久性の向上を図ることができる流体供給装置及び液体供給方法を提供する。
【解決手段】液体Ｌの供給口５１が設けられたシリンジ１を備え、シリンジ内に空気圧回路２を介してエアを供給することにより液体Ｌを供給口５１から押出す液体供給装置である。空気圧回路２は、シリンジ１に設定圧のエアを供給する第１エア供給部５と、設定圧のエアよりも高圧のエアを供給する第２エア供給部６とを備える。シリンジ１に所定の設定圧のエアを負荷する通常供給状態と、シリンジ１に前記設定圧よりも高圧エアを負荷する高圧供給状態との切換を行う切換手段４を備え、初期段階において第２エア供給部６による高圧供給状態として、設定圧に達した際に、第１エア供給部５による通常供給状態に切換える。 （もっと読む）

【課題】チップにダメージを与えることなく、チップを安定して剥離でき、しかも、剥離作業における動作も単純で高精度の制御も必要がなく、装置として安価に提供できるチップ剥離装置及びチップ剥離方法を提供する。
【解決手段】シート１２と反対側でチップ１１を吸着するコレット１３と、コレット１３にて吸着されているチップ１１をシート１２を介して受ける針状体１４と、チップ１１を針状体１４にて受けている状態のままシート１２を反チップ側へ吸引する吸引手段１５とを備える。剥離すべきチップ１１をシート１２を介して針状体１４にて受けている状態で、チップ１１をコレット１３にて反シート側から吸着する。次に、吸引手段１５を介してシート１２をチップ１１と反対側へ吸引して、シート１２をチップ１１から剥離する。 （もっと読む）

【課題】母材と一体化した酸化層を乾式処理によって形成し得る二酸化チタン光触媒の製造方法を提供する。
【解決手段】チタンまたはチタン合金からなる基材表面に、レーザを加工閾値近傍の照射強度で照射し、照射領域をオーバーラップさせながら基材表面に対して相対移動させることにより、基材表面に粗面構造を形成した後、酸化性雰囲気中で熱処理を施すことにより、ルチル型二酸化チタンを含有する酸化層を形成することを特徴とする二酸化チタン光触媒の製造方法。 （もっと読む）

【課題】小型化を図ることができ、少ないエネルギーで真空封止を行うことができる半導体封止装置を提供する。
【解決手段】基板上に半導体素子５０が搭載され、半導体素子５０を封止部材５３にて覆い、封止部材５３の周囲に付着させた紫外線硬化接着剤５１に紫外線照射を行うことによって半導体素子５０を封止する半導体封止装置である。半導体素子５０が搭載された基板５２及び封止部材５３を密閉状態として、紫外線透過窓１１が設けられる真空チャンバ１と、真空チャンバ内を真空にする真空手段３と、真空チャンバ１の外側から、紫外線光線を紫外線透過窓１１を介して封止部材５３の周囲に付着した紫外線硬化接着剤５１に照射する紫外線照射手段４とを備えた。 （もっと読む）

【課題】シリンダの外部における液溜まりの発生を防止することができる流体供給装置を提供する。
【解決手段】粘性流体Ｌが封入されて、粘性流体Ｌの供給口が設けられたシリンダ１と、シリンダ内に設けられ、軸方向において、前進することにより粘性流体Ｌを供給口から押出すピストンロッド２と、シリンダ１における反供給口側の開口部８を密封するとともに、径方向からピストンロッド２を押付る密封機構４とを備えた液体供給装置である。密封機構４のピストンロッド２に対する押付力を、ピストンロッド２前進時とピストンロッド２後退時とで差をもたせた。 （もっと読む）

【課題】線接触を伴う摺動機構にも適用でき、長寿命で安定した高い摩擦低減効果を発揮することのできる摺動面構造を提供する。
【解決手段】潤滑流体の介在下で相手部材と相対摺動を行う摺動面１に、相手部材２の摺動方向に対して傾斜する向きに伸び、かつ、緩斜面９を有する凹溝７からなる帯状領域４と、帯状領域４の間に、帯状領域４の伸展方向と同一方向に伸びる摺動平面３とを備え、緩斜面９には帯状領域４の伸展方向に対して傾斜して配置される複数の微小溝５が設けられる。 （もっと読む）

【課題】薄い油膜を安定して得ることができてシール性の高い平面摺動機構を提供する。
【解決手段】相対する平面間で潤滑流体の膜を介して相対回転摺動を行って、内径側と外径側とをシールする平面摺動機構である。何れか一方の平面に、内径側又は外径側の一方に開口し、かつその開口部と径方向逆方向の端部が平面内に存在して、開口側からの潤滑流体を相対する平面間のリング状の摺動部位に導入する流体導入溝３と、流体導入溝３よりも浅く、流体導入溝３に連通するとともに、相対する前記他方の平面の摺動方向に対して平行または９０°未満の傾斜角で傾斜する向きに周期性を有する複数の浅溝４とを備えた。 （もっと読む）

【課題】良品のワークがポケットに収納されている場合には安定したワークの外観観察を可能とするワーク検査装置およびワーク検査方法を提供する。
【解決手段】ワーク検査装置は、キャリアテープ１０のポケット１１に供給されたワークＷを、上方の検査用カメラ２０によって検査を行う。キャリアテープ１０を有するキャリアテープユニットＵを支持する支持台１７と、この支持台１７に水平方向の振動を付与してキャリアテープ１０のポケット１１に収容されるワークＷを正規姿勢に修正する振動機構１８とを備える。キャリアテープ１０に水平方向の振動を振動機構１８にて付与する。これによって、ポケット１１の底面１２ａのコーナ部に引っ掛かっているワークＷに対して、その引っ掛かりを解除する。 （もっと読む）

【課題】摺動条件を変更することなく流体潤滑状態にある２面間の摩擦を低減することができる摺動面構造及び軸受を提供する。
【解決手段】相対面する第１摺動面１ａと第２摺動面とを有し、液体の動圧作用で第１摺動面１ａと第２摺動面とが非接触で摺動する摺動面構造である。摺動面の少なくとも一方に、摺動面間の相対的な摺動によって液体を所定方向に案内する液体案内溝３を有する案内部４を設ける。案内部４によって案内された液体に接する摺動面部分の少なくとも一方に、液体に対するぬれ性が案内部４よりも小さい疎液性部分５が案内部４の下流側に設けられている。 （もっと読む）

【課題】半導体チップをウェーハシートから迅速確実に剥離し得るピックアップ装置を提供する。
【解決手段】ウェーハシートＳに貼り付けられた半導体チップＰを個々にウェーハシートから剥離するピックアップ装置であって、ピックアップステージ１に形成されウェーハシートＳと共に半導体チップＰ個片を受け入れる平面寸法を有した凹陥部１３と、ウェーハシートＳと共に半導体チップＰ個片を該凹陥部に挿入するための挿入手段と、凹陥部１３内の半導体チップＰを吸着してピックアップするコレット３とを備えたことを特徴とするピックアップ装置。 （もっと読む）