【課題】異常放電や割れのない、金属酸化物および金属を含む光情報記録媒体用記録層などの形成に有用な、金属酸化物−金属複合スパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】スパッタリングターゲットは、金属酸化物Ａと、金属Ｂとを含む複合スパッタリングターゲットであって、金属酸化物の円相当直径の最大値が低く粒度調整された原料粉末の焼結により、前記金属酸化物Ａの円相当直径の最大値が２００μｍ以下に制御されている。前記金属酸化物Ａは凝集していても良い。 （もっと読む）

【課題】本発明は、製造ライン中での測定を可能とし、従来のような事前の前処理や拡散係数の仮定を必要とせず、キャリア寿命をより精度よく測定し得る半導体キャリア寿命測定装置および該方法を提供する。
【解決手段】本発明の半導体キャリア寿命測定装置Ａでは、マイクロ波光導電減衰法が利用されており、半導体の被測定試料Ｘが第１表面再結合速度状態である場合において、光照射部１によって互いに波長の異なる少なくとも２種類の光が被測定試料Ｘに照射されるとともに測定波入出力部２によって測定波が被測定試料Ｘに照射されて検出部３で検出された反射波または透過波の時間的な相対変化の第１差が求められ、前記第１差と同様に、第２表面再結合速度状態での第２差が求められ、これら第１および第２差に基づいて被測定試料Ｘのキャリア寿命が求められる。 （もっと読む）

【課題】半導体薄膜の膜厚の変動に関わらず、精度良く半導体薄膜の結晶性を評価することができる結晶性評価方法及び結晶性評価装置を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明は、半導体薄膜１２にキャリアを励起させるための励起光を照射すると共にこの励起光が照射された範囲を含む半導体薄膜１２の範囲にマイクロ波を照射して半導体薄膜１２からのマイクロ波の反射波の強度を測定し、データ収集用半導体薄膜の膜厚とこのデータ収集用半導体薄膜に前記マイクロ波を照射したときの反射波の強度の値との関係を収集し、この収集した膜厚と反射波の強度の値との関係と、半導体薄膜１２から得られた励起光及びマイクロ波が照射された範囲の膜厚の値Ｒ３ａとに基づいて前記得られた測定値Ｒ２を補正し、この補正された測定値Ｒ２ａに基づいて半導体薄膜１２の結晶性を評価することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】試料台への基材の配置が容易でありながら基材上に成膜された半導体薄膜の結晶性を高感度で評価可能な半導体薄膜の結晶性評価方法及び結晶性評価装置を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明は、試料台１４に基材１１が接するよう試料１３を配置し、半導体薄膜１２に励起光を照射し、特定波長のマイクロ波を励起光が照射された半導体薄膜１２の範囲に照射し、半導体薄膜１２からの反射波の強度を測定する。このとき照射されるマイクロ波は、半導体薄膜１２の表面から配置面１４ａまでの距離の４ｎ／（１＋２Ｎ）倍（ｎ：基材の屈折率、Ｎ：０又は任意の正の整数）の波長λを、又はこれに近似する波長であって波長λをもつマイクロ波を半導体薄膜１２に照射したときに得られる反射波の信号強度Ｒ２に対し、実際に得られる信号強度Ｒ２が９０％以上となる程度まで近似した波長をもつことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】き裂の部分の金属結晶が、き裂を導入する前の母相金属の金属結晶と実質的に同一であるき裂試験用中空金属管を、再現性良く製造することができる製造方法を提供すること。
【解決手段】中空金属管に少なくとも１回の圧延及び熱処理を行う工程と、中空金属管の面にき裂を与える工程を有するき裂試験用中空金属管の製造方法において、中空金属管の面にき裂を与える工程を、少なくとも最終回の圧延及び熱処理の工程前に行う。 （もっと読む）

【課題】導電性と耐久性を兼ね備えると共に、被検体（特に、それに含まれるＳｎ）の低付着性を実現して長期間に亘って安定な電気的接触を保つことのできるコンタクトプローブピンを提供する。
【解決手段】先端部から側面部に亘って表面に、金属および／またはその炭化物を含有する炭素皮膜が連続的に形成されており、炭素皮膜中の金属および／またはその炭化物の含有量は、前記先端部から側面部になるにつれて連続的または断続的に減少するように構成されたものである。 （もっと読む）

【課題】コールドハース式電子ビーム溶解法における、酸化剤として酸化鉄などを用いる酸化精錬技術において、不純物元素である炭素を合金中から除去できる方法を明示すること、および、この酸化精錬技術を、製品鋳塊重量が例えば１０ｋｇ以上となる実用規模の精錬技術にまで発展させるための方法を明示すること。
【解決手段】コールドハース式電子ビーム溶解装置１１の水冷銅製皿状容器９に合金原料を供給して、５×１０^−４ｍｂａｒよりも低い気圧下において合金溶湯プール１３を形成する。その後、水冷銅製皿状容器９内の合金溶湯プール１３に酸化鉄を添加して、不純物元素である炭素を除去する。ここで、酸化鉄の添加重量を、合金溶湯プール１３中の不純物元素である炭素を全量酸化させるために算出される算出重量の１．０倍以上、４．０倍以下とする。 （もっと読む）

【課題】リン［Ｐ］などの不純物元素の金属Ｃａによる還元精錬技術などを、製品鋳塊重量が例えば１０ｋｇ以上となる実用規模の精錬技術にまで発展させるための具体的な方法を明示すること。
【解決手段】精錬剤は、金属ＣａとＣａハライド組成フラックスとの混合物である。Ｃａハライド組成フラックスは、フッ化カルシウムに酸化カルシウムを５〜３０ｗｔ％配合したＣａＦ_２-ＣａＯ、フッ化カルシウムに塩化カルシウムを５〜３０ｗｔ％配合したＣａＦ_２-ＣａＣｌ_２、または、フッ化カルシウムに酸化カルシウムおよび塩化カルシウムを５〜３０ｗｔ％配合したＣａＦ_２-（ＣａＯ＋ＣａＣｌ_２）である。合金溶湯プール６の重量に対する金属Ｃａの添加率を０．５ｗｔ％以上とし、合金溶湯プール６の重量に対するＣａハライド組成フラックスの添加率を、金属Ｃａの添加率以上とする。 （もっと読む）

【課題】コールドクルーシブル式誘導溶解法を利用した酸化精錬技術において、少なくとも炭素およびＣａを含む不純物元素を合金中から除去できる方法を明示すること、および、この酸化精錬技術を、製品鋳塊重量が例えば１０ｋｇ以上となる実用規模の精錬技術にまで発展させるための方法を明示すること。
【解決手段】精錬剤は、酸化鉄とＣａハライド組成フラックスとの混合物である。Ｃａハライド組成フラックスは、例えばフッ化カルシウムに酸化カルシウムを５〜３０ｗｔ％配合したＣａＦ_２-ＣａＯである。酸化鉄の添加重量を、合金溶湯プール６中の炭素およびカルシウムを含む不純物元素を全量酸化させるために算出される算出重量の０．２倍以上、４．０倍以下とする。また、合金溶湯プール６の重量に対するＣａハライド組成フラックスの添加率を、０．５ｗｔ％以上、５．０ｗｔ％以下とする。精錬工程では、チャンバー内の排気状態を１５分以上保持する。 （もっと読む）

【課題】被測定物の同一面に加熱光及び検出光を照射して当該試料の熱物性を解析しても、検出光の反射光強度の測定において加熱光の反射光の影響を受け難い熱物性解析装置及び熱物性解析方法を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明では、検出光Ｂ２を測定部位１１ａで焦点を結ぶように集光させて照射すると共に加熱光Ｂ１を当該測定部位１１ａに照射し、この測定部位１１ａからの反射検出光Ｂ２ａを測定部位１１ａとは異なる測定位置まで導光し、この測定位置に導光された反射検出光Ｂ２ａの強度を測定する。前記加熱光Ｂ１の照射は、測定部位１１ａにおいて加熱光Ｂ１が焦点を結ぶように照射する場合に比べ、測定位置に到達する反射加熱光Ｂ１ａの強度が小さくなるように測定部位１１ａにおいて焦点をぼかし且つその照射範囲ｓに検出光Ｂ２の照射範囲が含まれるように加熱光Ｂ１を集光するように照射する。 （もっと読む）