【課題】干渉計における位相シフトを複数の偏光板を用いて光学的に行う場合に生じる位相シフトの誤差の影響を受けない形状測定の結果を簡易に得る。
【解決手段】装置校正用工程において，物体光及び参照光の光路長を一定にし，物体光及び参照光各々を遮断したときの４つの光検出器の検出強度が一致するよう干渉光抽出用の４つの偏光板の保持角度を調節し（Ｓ１２），その後，物体光又は参照光の光路長に変動を与えつつ，４つの干渉光の強度の時系列変化の振幅が一致するよう光強度の線形補正のゲインを設定する（Ｓ１３）とともに，４つの干渉光それぞれの強度の時系列変化から得られるリサージュ波形に基づいて，３つの非基準の干渉光の位相シフトの誤差を算出し（Ｓ１４），被測定物について得られた干渉光の強度及び前記位相シフトの誤差とに基づいて，前記被測定物についての物体光と参照光との位相差を算出する（Ｓ１７）。 （もっと読む）

【課題】ベースワイヤの表面に有機皮膜または無機皮膜が被覆されており、砥粒を吹きつけながら切断するときに用いる被覆ソーワイヤとして、耐摩耗性に優れた被覆ソーワイヤを提供する。また、ワーク切断面の精度を良好にできる被覆ソーワイヤを提供する。
【解決手段】ベースワイヤの表面に有機皮膜または無機皮膜を被覆したソーワイヤであり、ナノインデンテーション法で測定したときに、皮膜表面のヤング率（ＧＰａ）と皮膜表面の硬さ（ＧＰａ）の比（ヤング率／硬さ）が６〜２５である被覆ソーワイヤ。 （もっと読む）

【課題】本発明は、被測定基材の物性値を変えることなしに、かつ、非接触で微小変位を測定可能とする基材、この基材の微小変位測定方法および測定装置を提供することを目的とする。
【解決手段】基材３の表面を観察する場合の所定の視野の大きさに対して、１／１０００〜１／１００程度の大きさの粒子が溶媒に分散した懸濁液を用いて形成された明暗のコントラストを有した所定のランダムパターン４が基材３の表面に付与されたランダムパターン付き基材に加熱または冷却により微小変形を与える微小変形付与手段を収容する容器１と、この微小変形付与手段により基材３に生じさせた微小変位をデジタル画像相関法により求めるための画像処理システム（５、６、７、８、９、１０）と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、蓄電デバイスを収容し、安全性評価試験を行なうために高耐圧かつ高容積な試験容器が不要でありながら、試験時に蓄電デバイスから発生したガスの全量を捕獲し、成分分析が可能な安全性評価試験方法およびその試験装置を提供することを目的とする。
【解決手段】Ａｒガスを満たした釘刺し用容器２内でＬｉイオン電池ユニット３の釘刺し試験を行ない、この釘刺し試験中にＬｉイオン電池ユニット３から発生したガスが釘刺し用容器２内に蓄積されるとともに、釘刺し用容器２から配管７０を通ってバッファタンク８０にも移動されるように構成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】膜の成分組成の均一性（膜均一性）に優れたＣｕ−Ｇａスパッタリング膜を形成でき、かつ、スパッタリング中のアーキング発生を低減できると共に、強度が高くスパッタリング中の割れを抑制できるＣｕ−Ｇａ合金スパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】Ｇａを含むＣｕ基合金からなるスパッタリングターゲットであって、その平均結晶粒径が１０μｍ以下であり、かつ気孔率が０．１％以下であることを特徴とするＣｕ−Ｇａ合金スパッタリングターゲット。 （もっと読む）

【課題】スキージが引っ掛かりやすいためにペーストを均等に引き伸ばし難い原因となるスキージ接触面での凹凸部がなく、厚さが２５μｍ以下で、メッシュ部材として必要で均一な強度を有し、高精細な印刷に必要なメッシュ数を有するスクリーン印刷用メッシュ部材を提供する。
【解決手段】本発明のスクリーン印刷用メッシュ部材は、圧延金属箔に多数の孔を開けることにより作製されると共に、線部を構成する少なくとも片面が平坦であり、且つ厚さが５μｍ以上、２５μｍ以下であると共に、引張試験を行ったときの破断荷重（Ｎ）を引張試験片の幅１ｃｍあたりに換算した引張強度が２０Ｎ／ｃｍ以上であり、メッシュ数が２５０（本／インチ）以上である。 （もっと読む）

【課題】不透明な基板上に形成された薄い被測定物であっても、当該被測定物に対する熱物性についての解析の精度を維持することができる熱物性解析方法を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明に係る熱物性解析方法は、被測定物３０の表面に金属膜ｆｉを形成する成膜工程と、この金属膜ｆｉの形成後、当該金属膜ｆｉに表面側から加熱用パルス光Ｂ１ａと検出光Ｂ２ａとを照射する光照射工程と、金属膜ｆｉ表面で反射された検出光Ｂ２ａを受光してその受光強度の変化から当該金属膜ｆｉ表面の温度変化を検出する温度変化検出工程と、前記検出した温度変化のうち加熱用パルス光Ｂ１ａの照射による熱が金属膜ｆｉの内部でのみ拡散している時間が経過した後の温度変化に基づいて被測定物３０の熱物性を解析する解析工程と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、金属体中に存在する拡散性水素の正確な局所定量分析が可能な金属体中の水素の局所分析方法を提供することを目的とする。
【解決手段】被測定金属体としての試料２０の表面の所定箇所を融点以下に加熱するために、所定条件下でレーザー光２ｇを断続的に照射し、レーザー光２ｇの照射の有無における試料２０の表面の所定箇所から放出される各水素放出速度をＡＰＩＭＳ１０で測定し、これらの測定された水素放出速度の偏差と予め求められた試料２０の表面の所定箇所から放出される水素放出速度の偏差と拡散性水素量との関係より、試料２０の表面の所定箇所に含有する拡散性水素量を求める工程を有したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】精度高く強度評価を行うことが可能な試験体の作成方法を提供すること。
【解決手段】本発明は、強度試験において用いられる試験体の形成方法に関する。まず、母材に対して人工傷を形成する（ステップＳ２ｂ）。人工傷が形成された試験体に対して所定荷重を付与して、当該人工傷を起点として実割れを形成する（ステップＳ３ｂ）。次に、人工傷が形成された領域を除去する（ステップＳ４ｂ）。その後に、焼き入れを行う（ステップＳ５ｂ）。焼き入れは例えば高周波焼入れである。 （もっと読む）

【課題】薄板状の被測定物の厚み分布の測定において，簡易な装置構成により，被測定物の振動の影響を受けずに高精度で厚み分布の測定を行うことができること。
【解決手段】被測定物１の表裏各面について，レーザ光源２の出射光を２分岐したビーム光をさらに２分岐させて参照面及び表裏相対する測定点１ａ，１ｂに反射させ，参照光と物体光とを直交する偏光成分とする非干渉光Ｐａｘ，Ｐｂｘを得て，それを複数に分岐させ，分岐光のうちの１つ以上について波長板ａ２６１，ａ２６３，ａ２６４等で直交する偏光成分の位相差に変化を与えて位相シフトを行い，位相シフト後の分岐光における参照光及び物体光の偏光方向を基準とする共通の偏光成分の抽出により干渉光Ｑａ１〜Ｑａ４，Ｑｂ１〜Ｑｂ４を得て，それらの強度から前記非干渉光における前記参照光及び前記物体光の偏光成分の位相差を算出し，その位相差の分布から被測定物１の厚み分布を算出する。 （もっと読む）