説明

光洋サーモシステム株式会社により出願された特許

161 - 170 / 180


【課題】平面視が被加熱物を含む矩形の加熱範囲においても被加熱物の全体が均一に加熱されるようにし、被加熱物の全体に均一な熱処理を施すことができるようにする。
【解決手段】均熱部材1を、加熱範囲10において領域12〜15によって構成される矩形の平面形状に近似した矩形の外縁形状とし、内部に半導体ウエハ21の平面形状に近似した円形の開口部2を外縁形状と中心位置を一致させて形成した。開口部2の開口径は、半導体ウエハ21の外径よりも僅かに大きくした。均熱部材1は、平面視において開口部2の中心位置が半導体ウエハ21の中心位置に一致するように配置した。領域12及び領域15において均熱部材1が占める面積は、領域13及び領域14において均熱部材1が占める面積よりも大きい。このため、均熱部材1と半導体ウエハ21とが占める面積は、領域12〜15のそれぞれにおいて互いに略一致する。 (もっと読む)


【課題】冷却室に収納されたワークから冷却体によって外部に放出される熱を有効に活用することができ、冷却室におけるワークの冷却効率を低下させることなく、冷却室から放出される熱によって十分な電力を得ることができるようにする。
【解決手段】光吸収体11によって構成された中空の冷却室12と、冷却室12の外表面を覆う冷却ジャケット13と、光吸収体11及び冷却ジャケット13の間に配置される熱電変換モジュール14と、を備えた。熱電変換モジュール14は、互いに平行にして所定の間隙を設けて配置された熱良導体からなる平板状の絶縁層31,32を備え、これらの間に、熱電変換素子33及び熱電変換素子34を交互に繰り返して平面状に配列した。絶縁層31は光吸収体11の外側面に密着し、絶縁層32は冷却ジャケット13の内側面に密着する。 (もっと読む)


【課題】 型および加工対象物を、高温かつ高速に加熱し、さらに、高速に冷却する。
【解決手段】型100によって超微細パターンを加工対象物200にナノインプリンティングする熱加熱装置は、前記型100を保持すると共に、熱を前記型100に伝熱可能な型保持部2と、前記型保持部2を加熱する型加熱用IHヒータ3と、前記加工対象物200を保持すると共に、熱を前記加工対象物200に伝熱可能な加工対象物保持部7と、前記加工対象物保持部7を加熱する加工対象物加熱用IHヒータ8と、前記型200と前記加工対象物100とを押圧する押圧手段50とを具備している。前記型保持部2の少なくとも一部および前記加工対象物保持部7の少なくとも一部は、比透磁率が0.99以上でありかつ電気抵抗率が1μΩ・cm以上の材料により形成されている。 (もっと読む)


【課題】 加工対象物を、高温かつ高速に加熱し、さらに、高速に冷却する。
【解決手段】型100によって超微細パターンがナノプリンティングされる加工対象物200を加熱するための加工対象物加熱装置は、前記加工対象物200を保持すると共に、熱を前記加工対象物200に伝熱可能な加工対象物保持部7と、前記加工対象物保持部7を加熱するIHヒータ8とを具備している。前記加工対象物保持部7の少なくとも一部は、比透磁率が0.99以上でありかつ電気抵抗率が1μΩ・cm以上の材料により形成されている。 (もっと読む)


【課題】 炉組立部品を、誰にでも安全に効率良く搬送する。
【解決手段】 炉組立部品搬送装置を有する連続焼成炉は、炉11、12または炉を形成するためのスペースの上方レベルにおいて炉長さ方向にのびた水平状レール42、43、45、46と、レール42、43、45、46にそって走行しうるように配置されているキャリヤ44、47、48と、キャリヤ44、47、48に装備されている巻上機61、91とを備えている。 (もっと読む)


ガス浸炭方法における第1の工程においては、浸炭ガスを含む浸炭雰囲気において、δ鉄と液相からγ鉄に変態する包晶点以下であって、液相からγ鉄とセメンタイトに変態する共晶点以上の初期設定温度に到達するまで、鋼製処理対象物をその表面炭素濃度が固容限を超えることがないように加熱する。第1の工程の後の第2の工程においては、浸炭温度を前記初期設定温度から漸減させることで、前記処理対象物の表面炭素濃度を固容限を超えない範囲で増加させると共に、前記処理対象物の浸炭深さを増加させる。
(もっと読む)


【課題】冷却ジャケットの内側面に熱電変換モジュールの低温側表面を密着させ、この熱電変換モジュールの高温側表面に放射熱反射膜を形成することにより、昇温・均熱時にはハウジング内の十分な保温を図り、降温時には効率良くエネルギーを回収することができる熱処理装置を提供する。
【解決手段】水冷式の冷却ジャケット1bを備えたハウジング1の内部に、主に放射熱の照射により加熱するハロゲンランプ2と、半導体ウエハWを収納するプロセスチューブ3とが配置された熱処理装置において、冷却ジャケット1bの内側面に、熱電変換モジュール4の低温側表面を密着させると共に、この熱電変換モジュール4の高温側表面に放射熱反射膜5を形成した構成とする。 (もっと読む)


【課題】処理対象物の表層の一部分にのみ浸炭を行う場合に、工程を簡単化することで作業負担を軽減し、コストを低減し、有害ガスの発生や処理対象物の表面性状の急変を防止できるガス浸炭方法を提供する。
【解決手段】処理対象物Wの表層の一部分である環状部位W′にのみガス浸炭装置1により浸炭処理を行う。ガス浸炭装置1は、浸炭処理用容器2内に設けられる加熱用コイル3と、処理対象物Wを支持する支持部材4を移動させる駆動機構5を備え、容器2内に浸炭雰囲気用ガスが供給される。コイル3により囲まれる加熱領域の寸法は、環状部位W′のみを浸炭温度まで加熱できるように設定される。加熱領域外で支持部材4により処理対象物Wを支持し、次に、駆動機構5により支持部材4を移動させることで環状部位W′を加熱領域に位置するように位置決めし、しかる後に、浸炭雰囲気下の容器2内で環状部位W′をコイル3により加熱することで浸炭処理を行う。 (もっと読む)


【課題】プロセスチューブ1を介して内部のガラス状炭素からなる加熱筒2を電磁誘導加熱することにより、温度制御を高速で行い熱処理作業のスループットを向上させることができる熱処理装置を提供する。
【解決手段】気密にしたプロセスチューブ1内を加熱して内部の被処理物Sを熱処理する熱処理装置において、プロセスチューブ1内にガラス状炭素からなる加熱筒2を配置すると共に、このプロセスチューブ1の外側に電磁誘導加熱コイル3を配置した構成とする。また、このプロセスチューブ1が石英ガラスからなり、電磁誘導加熱コイル3が水冷式による冷却装置を備えたものとする。 (もっと読む)


【課題】多孔質体の乾燥効率を向上させ、乾燥時間の短縮化を図りつつも、構成を簡素化させ、装置の設置面積を縮小でき、ランニングコストおよびイニシャルコストを低減させることのできる金属原料用のブリケットの製造方法を提供する。
【解決手段】金属粉末を含む再資源化用の材料を圧縮成形して多孔質体Cを得る。そして、圧縮成形した多孔質体Cを管状部材12に投入し、管状部材12に熱風を吹き込ませ多孔質体Cを乾燥させる。 (もっと読む)


161 - 170 / 180