説明

大日本スクリーン製造株式会社により出願された特許

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【課題】ステージの駆動力が失われた場合に、部材同士の衝突事故の発生を回避しつつ、再開作業もスムースに行えるような技術を提供する。
【解決手段】基板移送装置10は、基台11と、上面に基板を載置する載置面120が形成されたステージ12と、ステージ12を基台11に対して移動させるステージ駆動機構15と、ステージ12が、ステージ12に対する基板Wの受け渡しが行われる受け渡し位置Qから移動しないように制動する制動部16とを備える。制動部16を制御する制動制御部901は、例えば、ステージ12が受け渡し位置Qに配置されている状態において、ステージ駆動機構15への電力の供給が遮断された場合に、制動部16にステージ12を支持するベースプレート154を制動させる。 (もっと読む)


【課題】ウェブの乾燥制御を迅速に行なうとともに、印刷の結果ウェブに生じた皺を解消する構成を備え、搬送機構の一部でもある乾燥装置を提供することを目的とする。
【解決手段】基材の液体付着面に対して非接触乾燥手段で一次乾燥処理を行なうことにより二次乾燥処理を行なう接触乾燥手段への液体付着を防止し、液体付着面に対してさらなる乾燥処理を行なう接触乾燥手段がしわ取り手段を備えているので、基材の乾燥を促進しつつ該基材に生じたしわを解消することが可能となり、基材の品質を低下させることがない。 (もっと読む)


【課題】担持体上に形成したポリシラザン膜を転写することにより、基板表面に良好な膜を形成することのできる技術を提供する。
【解決手段】ポリシラザン材料を含む塗布液が表面に塗布されてなる薄膜Rを担持するシートフィルムFを処理チャンバ1内に収容し、処理チャンバ1内を排気する。加熱ヒータ541によってシートフィルムFを所定温度に加熱しつつ、処理チャンバ1内に酸素を含む硬化促進ガスを導入して薄膜Rの粘度を増大させる。その後、ガスの供給を停止するとともに処理チャンバ1内を再び排気することで硬化促進ガスを除去し、硬化の進行を抑制する。この状態で、シートフィルムF上の薄膜Rと基板Wとを密着させ加圧することで、薄膜Rを基板Wに転写する。 (もっと読む)


【課題】フィルタの寿命を延ばすことができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置1は、基板Wに供給される処理液をろ過するフィルタ16を内部で保持するハウジング17と、ハウジング17に保持されている状態のフィルタ16に液滴を衝突させるスプレーノズル23とを含む。フィルタ16に付着している異物は、液滴の衝突によって除去される。 (もっと読む)


【課題】基板に形成した液膜を冷却し凝固させる基板処理装置および基板処理方法において、ノズルに霜が付着するのを抑制し、霜に起因する基板の汚染を防止する。
【解決手段】基板上から側方に退避した退避位置において、冷却ガスノズル3のガス吐出口30に対して上面37aが平面となった整流部材37を近接対向配置し、ガス吐出口30から少量の冷却ガスを吐出させる。不使用時にも冷却ガスを吐出させるアイドリングを行っておくことにより、ノズルの温度上昇を抑制し必要時に直ちに冷温の冷却ガスを吐出させることができる。また、アイドリング時に整流部材37を配置し、ガス吐出口30周りの隙間から冷却ガスを吹き出させることにより、高湿度の周囲雰囲気がノズル内に侵入するのを抑制し、ノズル内に下が付着するのを防止することができる。 (もっと読む)


【課題】吐出ユニット3とこの吐出ユニット3の位置を調整する微調ステージ9とを備えた構成において、吐出ユニット3および微調ステージ9を支持する垂直ベース53の撓みを抑制する。
【解決手段】微調ステージ9の少なくとも一部は垂直ベース53に対して水平方向(Y軸方向)の一方側(正方向側)に位置するとともに、吐出ユニット3の少なくとも一部は垂直ベース53に対して水平方向(Y軸方向)の他方側(負方向側)に位置する。その結果、微調ステージ9および吐出ユニット3の重量が垂直ベース53の水平方向(Y軸方向)の両側に分散するため、垂直ベース53に働く曲げモーメントの大きさを抑えて、垂直ベース53の撓みを抑制することが可能となっている。 (もっと読む)


【課題】交換ヘッドにおける記録濃度の補正作業を簡素化する。
【解決手段】画像記録装置1は、インクを吐出するヘッド214、記録媒体を移動する移動機構22およびこれらを制御する制御部3を備える。制御部3は情報記憶部103、変換部42および補正部5を備える。変換部42は、入力画像データを画像の記録に適した変換画像データへと変換する。情報記憶部103は、ヘッド214毎かつ記録媒体の種類毎の入力画像データと変換画像データとの関係を示すLUTを記憶する。補正部5は、代表記録媒体上に記録された参照画像に従って決定された補正量に基づいて、代表記録媒体に関するLUTを更新し、さらに、他の種類の記録媒体に関するLUTも更新する。補正部5が設けられることにより、記録濃度の補正作業が簡素化される。 (もっと読む)


【課題】洗浄後の吐出ヘッドから基板上に洗浄液が落下するのを防止することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板に処理液を吐出する処理が終了して待機位置に帰還した処理液ノズルの吐出ヘッド61を下降させて待機ポット70の収容部75に収容する。洗浄液噴出部76から吐出ヘッド61に向けて洗浄液を噴出し、処理中に吐出ヘッド61に付着した処理液を洗い流す。続いて、洗浄液噴出を停止し、待機ポット70に設けられた乾燥ガス噴出部77から斜め下方に向けて乾燥用ガスを噴出する。そして、収容部75から吐出ヘッド61を徐々に引き上げる。その吐出ヘッド61に乾燥用ガスを吹き付けることによって、吐出ヘッド61に付着していた洗浄液を吹き飛ばして乾燥させる。洗浄後に処理位置に移動した吐出ヘッド61から基板上に洗浄液が落下するのを防止することができる。 (もっと読む)


【課題】吐出ヘッドを保持するノズルアームに起因した汚染を防止することができる洗浄処理装置および洗浄処理方法を提供する。
【解決手段】吐出ヘッドを保持するノズルアーム62は、旋回駆動部63によって基板Wの上方の処理位置と基板Wを取り囲む処理カップよりも外側の待機位置との間で移動される。基板Wの洗浄処理を行ったノズルアーム62が待機位置に位置しているときに、シャワーノズル71から斜め下方のノズルアーム62に向けて洗浄液が噴出される。斜め下方に向けて噴出される洗浄液の液流を3本のノズルアーム62が横切るように昇降することにより、3本のノズルアーム62が順次に洗浄される。その後、乾燥ガスノズル76からノズルアーム62に窒素ガスを吹き付けてアームに付着している洗浄液を乾燥させる。 (もっと読む)


【課題】画像検査の検査精度を向上する。
【解決手段】画像検査装置では、撮像部により画像が撮像されて検査画像が取得されるとともに、元画像データに基づいて基準画像が生成される。第1積算部では、基準画像中の画像記録方向に並ぶ画素の値が積算されて基準積算値分布が取得される。第2積算部では、検査画像中の画像記録方向に並ぶ画素の値が積算されて検査積算値分布が取得される。感度補正部では、検査積算値分布の局所ピークを除去した後の検査積算値分布と基準積算値分布との比に基づいて、検査積算値分布60の局所ピーク以外の複数の積算値を、基準積算値分布の対応する複数の積算値に相対的に近づける感度補正が行われる。比較部では、感度補正後の検査積算値分布62から基準積算値分布が減算され、欠陥の検出が行われる。このように、画像検査部では、検査積算値分布60に対して感度補正を行うことにより、検査精度が向上される。 (もっと読む)


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