【課題】タクトの悪化及び印刷材料の表面状態の変化を抑えるとともに、被印刷体に塗布された後の印刷材料の膜厚を一定に近づけることのできる技術を提供する。
【解決手段】印刷装置１０は、表面上に隔壁６０の配列が形成された基板Ｗを保持するステージ２２と、所定のパターンが形成された印刷版１７を有し、有機ＥＬ材料のインク７０が塗布された印刷版１７から基板Ｗの隔壁６０間にインク７０のパターンを転写する版胴１４と、印刷版１７にインクを供給するインク供給ローラ１２と、インク供給スリットノズル１１がインク供給ローラ１２上に吐出したインク７０を非接触で加熱する赤外線ヒータ８０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】移動自在な垂直ベース５３に吐出ユニット３を取り付けた構成において、塗布液の吐出時に発生する反力に起因した吐出ユニット３の振動を抑制可能とする。
【解決手段】垂直ベース５３を、梁５１３により支持するのみならず、梁５１３の反対側から第２支持機構６によっても支持する。こうして、両側に配置された梁５１３と第２支持機構６で垂直ベース５３を強固に支持することが可能となり、その結果、垂直ベース５３に取り付けられた吐出ユニット３を吐出時に発生する反力に抗してしっかりと支持することができる。よって、塗布液の吐出時に発生する反力に起因した吐出ユニット３の振動を抑制することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】不純物の混入が抑えられるとともに、比較的均質な形状及び大きさに生成された金属のナノ粒子を含むナノ粒子インクで被印刷体にパターンの転写を行うことができる技術を提供する。
【解決手段】印刷装置１は、基板Ｗを保持する載置ステージ２０と、金属のイオンを含んだイオン溶液を供給する溶液供給部３０と、イオン溶液を通過させる溶液通過層１００を備える版胴１０と、を備える。溶液通過層１００はナノメートルオーダーの空孔が分布した多孔質材料によって形成されたナノ多孔質層１１２を備える。イオン溶液はナノ多孔質層１１２を通過することによって金属のナノ粒子を含むナノ粒子溶液に変化する。版胴１０は、溶液通過層１００の外側に形成された転写面１１３５から滲出したナノ粒子溶液の所定のパターンを基板Ｗに転写する。 （もっと読む）

【課題】ステージの駆動力が失われた場合に、部材同士の衝突事故の発生を回避しつつ、再開作業もスムースに行えるような技術を提供する。
【解決手段】基板移送装置１０は、基台１１と、上面に基板を載置する載置面１２０が形成されたステージ１２と、ステージ１２を基台１１に対して移動させるステージ駆動機構１５と、ステージ１２が、ステージ１２に対する基板Ｗの受け渡しが行われる受け渡し位置Ｑから移動しないように制動する制動部１６とを備える。制動部１６を制御する制動制御部９０１は、例えば、ステージ１２が受け渡し位置Ｑに配置されている状態において、ステージ駆動機構１５への電力の供給が遮断された場合に、制動部１６にステージ１２を支持するベースプレート１５４を制動させる。 （もっと読む）

【課題】ウェブの乾燥制御を迅速に行なうとともに、印刷の結果ウェブに生じた皺を解消する構成を備え、搬送機構の一部でもある乾燥装置を提供することを目的とする。
【解決手段】基材の液体付着面に対して非接触乾燥手段で一次乾燥処理を行なうことにより二次乾燥処理を行なう接触乾燥手段への液体付着を防止し、液体付着面に対してさらなる乾燥処理を行なう接触乾燥手段がしわ取り手段を備えているので、基材の乾燥を促進しつつ該基材に生じたしわを解消することが可能となり、基材の品質を低下させることがない。 （もっと読む）

【課題】担持体上に形成したポリシラザン膜を転写することにより、基板表面に良好な膜を形成することのできる技術を提供する。
【解決手段】ポリシラザン材料を含む塗布液が表面に塗布されてなる薄膜Ｒを担持するシートフィルムＦを処理チャンバ１内に収容し、処理チャンバ１内を排気する。加熱ヒータ５４１によってシートフィルムＦを所定温度に加熱しつつ、処理チャンバ１内に酸素を含む硬化促進ガスを導入して薄膜Ｒの粘度を増大させる。その後、ガスの供給を停止するとともに処理チャンバ１内を再び排気することで硬化促進ガスを除去し、硬化の進行を抑制する。この状態で、シートフィルムＦ上の薄膜Ｒと基板Ｗとを密着させ加圧することで、薄膜Ｒを基板Ｗに転写する。 （もっと読む）

【課題】フィルタの寿命を延ばすことができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１は、基板Ｗに供給される処理液をろ過するフィルタ１６を内部で保持するハウジング１７と、ハウジング１７に保持されている状態のフィルタ１６に液滴を衝突させるスプレーノズル２３とを含む。フィルタ１６に付着している異物は、液滴の衝突によって除去される。 （もっと読む）

【課題】基板に形成した液膜を冷却し凝固させる基板処理装置および基板処理方法において、ノズルに霜が付着するのを抑制し、霜に起因する基板の汚染を防止する。
【解決手段】基板上から側方に退避した退避位置において、冷却ガスノズル３のガス吐出口３０に対して上面３７ａが平面となった整流部材３７を近接対向配置し、ガス吐出口３０から少量の冷却ガスを吐出させる。不使用時にも冷却ガスを吐出させるアイドリングを行っておくことにより、ノズルの温度上昇を抑制し必要時に直ちに冷温の冷却ガスを吐出させることができる。また、アイドリング時に整流部材３７を配置し、ガス吐出口３０周りの隙間から冷却ガスを吹き出させることにより、高湿度の周囲雰囲気がノズル内に侵入するのを抑制し、ノズル内に下が付着するのを防止することができる。 （もっと読む）

【課題】吐出ユニット３とこの吐出ユニット３の位置を調整する微調ステージ９とを備えた構成において、吐出ユニット３および微調ステージ９を支持する垂直ベース５３の撓みを抑制する。
【解決手段】微調ステージ９の少なくとも一部は垂直ベース５３に対して水平方向（Ｙ軸方向）の一方側（正方向側）に位置するとともに、吐出ユニット３の少なくとも一部は垂直ベース５３に対して水平方向（Ｙ軸方向）の他方側（負方向側）に位置する。その結果、微調ステージ９および吐出ユニット３の重量が垂直ベース５３の水平方向（Ｙ軸方向）の両側に分散するため、垂直ベース５３に働く曲げモーメントの大きさを抑えて、垂直ベース５３の撓みを抑制することが可能となっている。 （もっと読む）

【課題】交換ヘッドにおける記録濃度の補正作業を簡素化する。
【解決手段】画像記録装置１は、インクを吐出するヘッド２１４、記録媒体を移動する移動機構２２およびこれらを制御する制御部３を備える。制御部３は情報記憶部１０３、変換部４２および補正部５を備える。変換部４２は、入力画像データを画像の記録に適した変換画像データへと変換する。情報記憶部１０３は、ヘッド２１４毎かつ記録媒体の種類毎の入力画像データと変換画像データとの関係を示すＬＵＴを記憶する。補正部５は、代表記録媒体上に記録された参照画像に従って決定された補正量に基づいて、代表記録媒体に関するＬＵＴを更新し、さらに、他の種類の記録媒体に関するＬＵＴも更新する。補正部５が設けられることにより、記録濃度の補正作業が簡素化される。 （もっと読む）