説明

大日本スクリーン製造株式会社により出願された特許

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【課題】選択されたパターンにおける特徴領域を示す画像を迅速に、かつ、容易に表示する。
【解決手段】データ変換部811では、各パターンの全体を示すベクトルデータをラスタ変換して描画ラスタデータが生成されるとともに、描画ラスタデータの生成時に当該パターンにおけるパターン識別用の特徴領域を示すラスタデータである部分ラスタデータが生成される。描画ラスタデータおよび部分ラスタデータを含む集合を描画データセット51として、複数のパターンにそれぞれ対応する複数の描画データセット51が記憶部821にて記憶される。表示制御部601は、複数のパターンのうち、選択されたパターンを示す描画ラスタデータと同じ描画データセット51に含まれる部分ラスタデータに基づいて、当該パターンにおける特徴領域を示す画像を迅速に、かつ、容易にディスプレイ602に表示する。 (もっと読む)


【課題】吐出ヘッド52に収容されるペーストPの材料の凝集に起因した吐出孔5204の目詰まりを抑制しつつ、吐出孔5204から吐出されるペーストPの粘性を抑えて、吐出孔5204からのペーストPのスムーズな吐出を可能とする。
【解決手段】シリンジポンプ520内部に収容される塗布液Pを冷却する水冷管521と、水冷管521により冷却された塗布液Pを吐出孔5206から吐出される前に加熱する加熱素子522とを備える。したがって、吐出ヘッド52に収容される塗布液Pの材料の凝集に起因した吐出孔5206の目詰まりが抑制されるとともに、吐出孔5206から吐出される塗布液Pの粘性が抑えられて、吐出孔5206からの塗布液Pのスムーズな吐出が可能となっている。 (もっと読む)


【課題】チップファースト型のFO−WLPにおいて、再配線層を適切に形成できる技術を提供する。
【解決手段】描画装置1は、複数の半導体チップ91が間隔をあけて配列された疑似ウェハ9を載置するステージ11と、ステージ11に載置された疑似ウェハ9を撮像する撮像ヘッド14と、再配線層の回路パターンを記述した描画データ8を記憶する記憶装置164と、撮像ヘッド14が取得した画像データに基づいて疑似ウェハに配置された各半導体チップ91の理想位置からの位置ずれ量を特定し、描画データ8に記述された回路パターンを、当該回路パターンが接続対象とする端子パッドが配置されている半導体チップ91の位置ずれ量に基づいて補正する補正処理部24と、ステージ11に載置された疑似ウェハ9に対して光を照射して、疑似ウェハ9に補正後の回路パターンを描画する光学ヘッド15とを備える。 (もっと読む)


【課題】高アスペクト比の凹凸構造を有する活物質部で構成された活物質層を含んでいても、セパレータを破損することなく、大容量で高速充放電特性に優れるセパレータタイプのリチウムイオン二次電池を提供する。
【解決手段】第1集電体に設けられた複数の略平行な凸状の線状第1活物質部と、を有する第1電極、第2集電体上に設けられた複数の略平行な凸状の線状第2活物質部と、を有する第2電極、及び、第1電極と第2電極との間に位置するセパレータ、を含み、第1電極及び第2電極は、線状第1活物質部と線状第2活物質部とが対向するように積層されており、第1集電体及び第2集電体の面に対して略垂直な方向からみた場合に、線状第1活物質部と線状第2活物質部とが交差する位置関係で、第1電極と第2電極とが重ねられていること、チウムイオン二次電池 (もっと読む)


【課題】試料保持プレートの窪部を撮像した画像から特定された領域の濃度値を、窪部壁面の影響を排除して精度よく算出することのできる技術を提供する。
【解決手段】マイクロプレートMに設けられたウェルの上方から光を入射させ、下面に透過した光を受光してウェルの原画像を得る(ステップS101)。原画像中の検出対象領域を適宜の画像処理によって特定するとともに(ステップS102)、各検出対象領域を取り囲む背景としての周囲領域を特定する(ステップS103)。各検出対象領域Riについて、当該検出対象領域のRiの輝度情報と、当該検出対象領域Riを取り囲む周囲領域Siの輝度情報とを用いて当該検出対象領域Riの濃度値を算出することで(ステップS105、S106)、背景に映り込むウェル壁面の影響を排除する。 (もっと読む)


【課題】印刷時の動作シーケンスに異常が生じたことを検出することにより、動作シーケンスの異常に起因する印刷不良を防止することができる。
【解決手段】画像データ整形部21によって画像データから整形された印刷データに基づいて、シーケンス情報生成部23が印刷時の動作を表すシーケンス情報を生成する。印刷データとシーケンス情報に対して、これらから得られるデータ保証情報をデータ保証情報付加部25が付加する。読み出し部29により読み出されたデータ保証情報とシーケンス情報とに基づいて、情報検査部31が印刷情報の適否を検査する。したがって、印刷時の動作のシーケンスに異常が生じたことを検出できるので、印刷データによる印刷を継続することなく、動作シーケンスの異常に起因する印刷不良を防止できる。 (もっと読む)


【課題】高精度でしかも高速回転が可能な小型の一軸偏心ネジポンプおよび流体モータを提供する。
【解決手段】雌ネジ型ステータ20はペリトロコイド曲線により規定される内周面を有するとともに、雄ネジ型ロータ30は雌ネジ型ステータ20の内周面に内接する仮想正三角形の各辺を内周面側に膨らませた3つの曲線を外形としている。そして、雌ネジ型ステータ20および雄ネジ型ロータ30が延設される軸方向Xに直交する断面において、雄ネジ型ロータ30の3つの頂点が雌ネジ型ステータ20の内周面に内接しながら雄ネジ型ロータ30が雌ネジ型ステータ20に対して偏心して回転自在となっている。このように、雄ネジ型ロータ30は正三角形の各辺を内周面側に膨らませた略三角形断面を有しており、雄ネジ型ロータ30の剛性が高められている。 (もっと読む)


【課題】上部と下部のバネ定数を変えることにより、上部における破損を防止することができるベローズを提供することができる。
【解決手段】ベローズ1は、伸縮部7における上部と下部が中間部に比べてバネ定数が大きくなるように設定されている。したがって、ベローズ1を垂直姿勢で取り付けて伸長させた場合であっても、伸縮部7の上部は、中間部よりも山部23と谷部25とが拡がりにくく、上部が自重により中間部より拡がることがない。その結果、伸縮部7の上部が破損するのを防止できる。 (もっと読む)


【課題】液滴が衝突する基板の各位置での膜厚のばらつきを低減し、基板の処理品質を向上させること。
【解決手段】複数の噴射口28からそれぞれ基板の上面内の複数の噴射位置に向けて処理液の液滴が噴射される。これと並行して、複数の吐出口35からそれぞれ基板の上面内の複数の着液位置に向けて保護液が吐出される。複数の吐出口35から吐出された保護液は、複数の液膜を形成する。複数の液膜は、それぞれ異なる噴射位置を覆う。処理液の液滴は、保護液の液膜に覆われている噴射位置に向けて噴射される。 (もっと読む)


【課題】 基材上に良好に塗布膜を形成することができる塗布装置、この塗布装置を組み込んだ塗布膜形成システム、塗布方法および塗布膜形成方法を提供する。
【解決手段】 ノズル11が塗布液を吐出する吐出位置において、基材5を他方主面から支持しつつ、搬送経路8に沿って基材5を走行させる支持ローラ12に対して、振動付与部13が振動を付与することで、支持ローラ12に支持された基材5を介して、基材5の一方主面に塗布された塗布液に振動を付与することができる。これにより、基材5上に塗布された塗布液によって形成される塗布膜の膜厚のばらつきを平坦化することで塗布ムラを軽減することができる。 (もっと読む)


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