描画装置および描画方法
【課題】選択されたパターンにおける特徴領域を示す画像を迅速に、かつ、容易に表示する。
【解決手段】データ変換部８１１では、各パターンの全体を示すベクトルデータをラスタ変換して描画ラスタデータが生成されるとともに、描画ラスタデータの生成時に当該パターンにおけるパターン識別用の特徴領域を示すラスタデータである部分ラスタデータが生成される。描画ラスタデータおよび部分ラスタデータを含む集合を描画データセット５１として、複数のパターンにそれぞれ対応する複数の描画データセット５１が記憶部８２１にて記憶される。表示制御部６０１は、複数のパターンのうち、選択されたパターンを示す描画ラスタデータと同じ描画データセット５１に含まれる部分ラスタデータに基づいて、当該パターンにおける特徴領域を示す画像を迅速に、かつ、容易にディスプレイ６０２に表示する。
【解決手段】データ変換部８１１では、各パターンの全体を示すベクトルデータをラスタ変換して描画ラスタデータが生成されるとともに、描画ラスタデータの生成時に当該パターンにおけるパターン識別用の特徴領域を示すラスタデータである部分ラスタデータが生成される。描画ラスタデータおよび部分ラスタデータを含む集合を描画データセット５１として、複数のパターンにそれぞれ対応する複数の描画データセット５１が記憶部８２１にて記憶される。表示制御部６０１は、複数のパターンのうち、選択されたパターンを示す描画ラスタデータと同じ描画データセット５１に含まれる部分ラスタデータに基づいて、当該パターンにおける特徴領域を示す画像を迅速に、かつ、容易にディスプレイ６０２に表示する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パターンを描画する描画装置および描画方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＣＡＤ（computer aided design）により作成したパターンのベクトルデータをラスタ変換して描画ラスタデータを生成し、描画部において描画ラスタデータに従って基板上の感光材料に当該パターンを描画することが従来より行われている。また、パターンの描画および現像にはある程度の時間を要するため、パターン描画の前に、選択した描画ラスタデータが、所望のパターンを示すものであるか否かを確認する作業も必要に応じて行われる。
【０００３】
なお、特許文献１では、描画用ラスタデータに対する目視チェックの省力化を実現する手法が開示されている。本手法では、基板に直接描画する配線パターンを表すベクトル形式のガーバーデータがＲＩＰ処理によって描画用ラスタデータへ展開される前に、任意の詳細表示範囲が指定されると、ガーバーデータのうち指定された詳細表示範囲に相当するデータのみが高解像度のラスタデータへ展開され、詳細表示範囲内の配線パターンを示す詳細表示画像がラスタ表示画面内に表示される。また、特許文献２では、被検査物の表面上に形成されたアライメントマークの画像データを採取し、当該画像データから抽出される特徴点、および、予め登録されたアライメントマークの特徴点より相関値を算出し、相関値の閾値に基いて、アライメントに使用するアライメントマークの画像データを登録する手法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−３３０１８４号公報
【特許文献２】特開２００８−１５３５７２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、パターン描画の前に、選択した描画ラスタデータが示すパターンを確認するために、パターンの全体を示すサムネイル（全体を示す縮小画像）を準備してディスプレイに表示することが考えられるが、この場合、微細なパターン要素の相違を判別することができず、パターンの確認が不十分となる。また、描画ラスタデータ、あるいは、描画ラスタデータの解像度をある程度低下させた画像（例えば、画素を間引いた画像）をディスプレイに表示することも考えられるが、確認すべき特徴的な領域（以下、「特徴領域」という。）を見つけるために、表示画像の拡大や縮小、あるいは、表示する領域の移動を何度も繰り返す必要があり、確認作業に長時間を要してしまう。さらに、パターンが複雑な場合には、パターンの設計者自身でなければ、特徴領域を見つけることが困難である。同様に登録したマークより描画ラスタデータ中にある近似マークを抽出する場合も長時間を要してしまう。
【０００６】
本発明は上記課題に鑑みなされたものであり、選択されたパターンにおける特徴領域を示す画像を迅速に、かつ、容易に表示することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１に記載の発明は、パターンを描画する描画装置であって、各パターンの全体を示すベクトルデータをラスタ変換して描画ラスタデータを生成するとともに、前記描画ラスタデータの生成時に前記各パターンにおけるパターン識別用の特徴領域の位置データ、または、前記特徴領域を示すデータである部分データを生成するデータ変換部と、前記描画ラスタデータと、前記位置データまたは前記部分データとを含む集合を描画データセットとして、複数のパターンにそれぞれ対応する複数の描画データセットを記憶する記憶部と、前記複数のパターンのうち、選択されたパターンを示す描画ラスタデータと同じ描画データセットに含まれる位置データまたは部分データに基づいて、前記選択されたパターンにおける特徴領域を示す画像を表示部に表示する表示制御部と、描画ラスタデータに従って対象物上にパターンを描画する描画部とを備える。
【０００８】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の描画装置であって、一の描画データセットにおける部分データが、特徴領域を示す画像に参照情報を付加したものを示すラスタデータである。
【０００９】
請求項３に記載の発明は、請求項１または２に記載の描画装置であって、一の描画データセットが、描画ラスタデータと部分ラスタデータとを含み、前記描画データセットに対応するパターンを更新する際に、前記データ変換部が、更新済みのパターンの全体を示すベクトルデータをラスタ変換して更新済み描画ラスタデータを生成するとともに、前記更新済み描画ラスタデータの生成時に、前記更新済みのパターンにおける、前記部分ラスタデータと同じ特徴領域を示す更新済み部分ラスタデータを生成し、前記描画データセットにおいて、前記描画ラスタデータが前記更新済み描画ラスタデータに更新され、前記描画データセットが前記部分ラスタデータおよび前記更新済み部分ラスタデータの双方を含み、前記更新済みのパターンが選択された際に、前記部分ラスタデータが示す画像および前記更新済み部分ラスタデータが示す画像が、前記表示制御部により前記表示部に表示可能である。
【００１０】
請求項４に記載の発明は、請求項１ないし３のいずれかに記載の描画装置であって、各描画データセットが、複数の特徴領域の位置データ、または、前記複数の特徴領域のそれぞれを示す部分ラスタデータを含み、前記各描画データセットに対応するパターンが選択された際に、前記パターンにおける複数の特徴領域を示す複数の画像が、前記表示制御部により前記表示部に個別に表示可能である。
【００１１】
請求項５に記載の発明は、パターンを描画する描画方法であって、ａ）各パターンの全体を示すベクトルデータをラスタ変換して描画ラスタデータを生成するとともに、前記描画ラスタデータの生成時に前記各パターンにおけるパターン識別用の特徴領域の位置データ、または、前記特徴領域を示すデータである部分データを生成する工程と、ｂ）前記描画ラスタデータと、前記位置データまたは前記部分データとを含む集合を描画データセットとして、複数のパターンにそれぞれ対応する複数の描画データセットを記憶部にて記憶する工程と、ｃ）前記複数のパターンのうち、選択されたパターンを示す描画ラスタデータと同じ描画データセットに含まれる位置データまたは部分データに基づいて、前記選択されたパターンにおける特徴領域を示す画像を表示部に表示する工程と、ｄ）描画ラスタデータに従って対象物上にパターンを描画する工程とを備える。
【００１２】
請求項６に記載の発明は、請求項５に記載の描画方法であって、一の描画データセットにおける部分データが、特徴領域を示す画像に参照情報を付加したものを示すラスタデータである。
【００１３】
請求項７に記載の発明は、請求項５または６に記載の描画方法であって、一の描画データセットが、描画ラスタデータと部分ラスタデータとを含み、前記描画データセットに対応するパターンを更新する際に、更新済みのパターンの全体を示すベクトルデータをラスタ変換して更新済み描画ラスタデータが生成されるとともに、前記更新済み描画ラスタデータの生成時に、前記更新済みのパターンにおける、前記部分ラスタデータと同じ特徴領域を示す更新済み部分ラスタデータが生成され、前記描画データセットにおいて、前記描画ラスタデータが前記更新済み描画ラスタデータに更新され、前記描画データセットが前記部分ラスタデータおよび前記更新済み部分ラスタデータの双方を含み、前記更新済みのパターンが選択された際に、前記部分ラスタデータが示す画像および前記更新済み部分ラスタデータが示す画像が、前記表示部に表示可能である。
【００１４】
請求項８に記載の発明は、請求項５ないし７のいずれかに記載の描画方法であって、各描画データセットが、複数の特徴領域の位置データ、または、前記複数の特徴領域のそれぞれを示す部分ラスタデータを含み、前記各描画データセットに対応するパターンが選択された際に、前記パターンにおける複数の特徴領域を示す複数の画像が、前記表示部に個別に表示可能である。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、選択されたパターンにおける特徴領域を示す画像を迅速に、かつ、容易に表示することができる。
【００１６】
また、請求項２および６の発明では、特徴領域を示すとともに参照情報が付加された画像を迅速に表示することができ、請求項３および７の発明では、パターンの更新前後における特徴領域を示す画像を容易に表示することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】描画装置の構成を示すブロック図である。
【図２】描画部の正面図である。
【図３】描画部の平面図である。
【図４】描画に用いるデータの生成および選択に係る機能構成を示すブロック図である。
【図５】基板上にパターンを描画する処理の流れを示す図である。
【図６】描画データセットを準備する処理の流れを示す図である。
【図７】ジョブデータを作成する処理の流れを示す図である。
【図８】ジョブ作成ウィンドウを示す図である。
【図９】描画データ選択ウィンドウを示す図である。
【図１０】全体画像ウィンドウを示す図である。
【図１１】特徴領域ウィンドウを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
図１は、本発明の一の実施の形態に係る描画装置１の構成を示すブロック図である。描画装置１は、描画に用いるデータを生成および記憶する第１および第２コンピュータ８１，８２、並びに、対象物である基板上にパターンを描画する描画部１００を備える。第１および第２コンピュータ８１，８２、並びに、描画部１００のメインコンピュータ６０のそれぞれは、各種演算処理を行うＣＰＵや各種情報を記憶するＲＡＭ等を有する。第１および第２コンピュータ８１，８２、並びに、メインコンピュータ６０が実現する機能については後述する。
【００１９】
図２は、描画部１００の正面図であり、図３は描画部１００の平面図である。描画部１００は、レジスト等の感光材料の層が形成された半導体の基板９の上面である描画面に光を照射して、パターンを描画する。なお、基板９は、プリント基板、カラーフィルタ用基板、液晶表示装置やプラズマ表示装置に具備されるフラットパネルディスプレイ用ガラス基板、光ディスク用基板等の他の様々な基板であってもよい。図２および図３の例では円形の半導体基板の表面に形成された下地パターンに重ねてパターンが描画される。描画パターンは、例えば、集積回路を外部と接続するために集積回路から延びる配線パターンである。
【００２０】
描画部１００では、本体フレーム１０１の骨格の天井面および周囲面にカバーパネル（図示省略）が取り付けられることによって本体内部が形成され、本体内部および本体外部に、各種の構成要素が配置される。図２の描画部１００の本体内部は、処理領域１０２と受け渡し領域１０３とに区分される。これらの領域のうち処理領域１０２には、ステージ１０、ステージ移動機構２０、ステージ位置計測部３０、光学ユニット４０、アライメントユニット３６１、および、制御部であるメインコンピュータ６０が配置される。なお、図２および図３ではメインコンピュータ６０を外に描いている。図２の受け渡し領域１０３には、処理領域１０２に対する基板９の搬出入を行う搬送ロボット等の搬送装置１１０が配置される。メインコンピュータ６０は、描画部１００が備える装置各部（描画エンジン）と電気的に接続されて、これら各部の動作を制御する。
【００２１】
描画部１００の本体外部には、照明ユニット３６２が配置される。照明ユニット３６２は、アライメントユニット３６１に照明光を供給する。
【００２２】
描画部１００の本体外部で、受け渡し領域１０３に隣接する位置には、カセット載置部１０４が配置される。カセット載置部１０４には、カセット９０が載置される。搬送装置１１０は、カセット載置部１０４に対応する位置に設けられ、カセット載置部１０４に載置されたカセット９０に収容された未処理の基板９を取り出して処理領域１０２に搬入（ローディング）するとともに、処理領域１０２から処理済みの基板９を搬出（アンローディング）してカセット９０に収容する。カセット載置部１０４に対するカセット９０の受け渡しは、図示しない外部搬送装置によって行われる。未処理の基板９のローディングおよび処理済みの基板９のアンローディングはメインコンピュータ６０からの指示に応じて搬送装置１１０が動作することで行われる。
【００２３】
ステージ１０は、平板状の外形を有し、その上面に載置された基板９を水平姿勢にて支持する支持部である。ステージ１０の上面には、複数の吸引孔が形成されており、この吸引孔に負圧（吸引圧）を付与することによって、ステージ１０上に載置された基板９をステージ１０の上面に固定保持する。基板９を支持する機構としては他の様々なものが採用されてもよい。ステージ１０はステージ移動機構２０により水平方向に移動する。
【００２４】
ステージ移動機構２０は、ステージ１０を主走査方向（Ｙ軸方向）、副走査方向（Ｘ軸方向）および回転方向（Ｚ軸周りの回転方向（θ軸方向））に移動する。これにより、ステージ１０に支持される基板９が、光学ユニット４０に対して移動する。図２および図３に示すように、ステージ移動機構２０は、ステージ１０を回転させる回転機構２１と、回転機構２１を支持する支持プレート２２と、支持部プレートを副走査方向に移動する副走査機構２３と、副走査機構２３を支持するベースプレート２４と、ベースプレート２４を主走査方向に移動させる主走査機構２５とを備える。回転機構２１は、支持プレート２２上で、基板９の上面に垂直な回転軸を中心としてステージ１０を回転させる。回転機構２１、副走査機構２３および主走査機構２５は、メインコンピュータ６０に電気的に接続され、メインコンピュータ６０からの指示に応じてステージ１０を移動する。
【００２５】
図３に示すように、副走査機構２３は、リニアモータ２３ａを有する。リニアモータ２３ａは、支持プレート２２の下面に取り付けられた移動子とベースプレート２４の上面に敷設された固定子とを備える。支持プレート２２とベースプレート２４との間には、副走査方向Ｘに延びる一対のガイド部２３ｂが設けられる。リニアモータ２３ａが動作すると、ガイド部２３ｂに沿って支持プレート２２が副走査方向Ｘに移動する。
【００２６】
主走査機構２５は、リニアモータ２５ａを有する。リニアモータ２５ａは、ベースプレート２４の下面に取り付けられた移動子と描画部１００の基台１０６（図２参照）上に敷設された固定子とを備える。ベースプレート２４と基台１０６との間には、主走査方向に延びる一対のガイド部２５ｂが設けられる。リニアモータ２５ａが動作すると、基台１０６上のガイド部２５ｂに沿ってベースプレート２４が主走査方向Ｙに移動する。
【００２７】
ステージ位置計測部３０は、ステージ１０の位置を計測する。ステージ位置計測部３０は、メインコンピュータ６０と電気的に接続され、メインコンピュータ６０からの指示に応じてステージ１０の位置を計測する。ステージ位置計測部３０は、例えば、ステージ１０に向けてレーザ光を照射し、その反射光と出射光との干渉を利用して、ステージ１０の位置を計測する。ステージ位置計測部３０の構成および動作はこれに限定されるものではない。本実施の形態では、ステージ位置計測部３０は、レーザ光を出射する出射部３１と、ビームスプリッタ３２と、ビームベンダ３３と、第１干渉計３４と、第２干渉計３５とを備える。出射部３１および各干渉計３４、３５は、メインコンピュータ６０と電気的に接続されており、メインコンピュータ６０からの指示に応じてステージ１０の位置を計測する。
【００２８】
出射部３１から出射されたレーザ光は、ビームスプリッタ３２に入射し、ビームベンダ３３に向かう第１分岐光と、第２干渉計３５に向かう第２分岐光とに分岐される。第１分岐光は、第１干渉計３４によるステージ１０の第１の部位に対応した位置パラメータを求めるために利用される。第２分岐光は、第２干渉計３５によるステージ１０の第２の部位（ただし、第２の部位は、第１の部位とは異なる位置である。）に対応した位置パラメータを求めるために利用される。メインコンピュータ６０は、第１干渉計３４および第２干渉計３５から、ステージ１０の第１および第２の部位の位置に対応した位置パラメータを取得する。そして、各位置パラメータに基づいて、ステージ１０の位置を算出する。
【００２９】
図２のアライメントユニット３６１は、基板９の上面に形成された基準マークを撮像する。アライメントユニット３６１は、照明ユニット３６２のほか、鏡筒、対物レンズ、および、ＣＣＤイメージセンサを備える。ＣＣＤイメージセンサは、例えば、エリアイメージセンサ（二次元イメージセンサ）である。
【００３０】
照明ユニット３６２は、ファイバ３６３を介してアライメントユニット３６１に接続され、アライメントユニット３６１に照明用の光を供給する。ファイバ３６３によって導かれる光は、鏡筒を介して基板９の上面に導かれ、その反射光は、対物レンズを介してＣＣＤイメージセンサで受光される。これにより、基板９の上面が撮像される。ＣＣＤイメージセンサは、メインコンピュータ６０と電気的に接続され、メインコンピュータ６０からの指示に応じて撮像データを取得し、撮像データをメインコンピュータ６０に送信する。アライメントユニット３６１はオートフォーカス可能なオートフォーカスユニットをさらに備えてもよい。
【００３１】
光学ユニット４０は、光源部４１と、２つの光学ヘッド４２（図３参照）とを備え、空間変調された光を基板９に照射する光照射部である。光学ヘッド４２は光源部４１から与えられるレーザ光を空間変調する。光源部４１は、レーザ駆動部４１１と、光源であるレーザ発振器４１２と、照明光学系４１３とを備える。これらの構成要素は、各光学ヘッド４２に対応して設けられる。レーザ駆動部４１１の作動によりレーザ発振器４１２からレーザ光が出射され、照明光学系４１３を介して光学ヘッド４２に導入される。
【００３２】
光学ヘッド４２は、空間光変調器、光学系、照射位置シフト機構、および、投影光学系を備える。光学系は、光源部４１からの光を空間光変調器へと導き、空間光変調器は、導入された光を空間変調する。照射位置シフト機構は、一対のウェッジプリズムを備え、一対のウェッジプリズムの間の距離を変更することにより光軸をシフトさせ、基板９の上面において描画位置を副走査方向に相対的にシフトさせる。投影光学系は、照射位置シフト機構からの光を基板９の上面に導く。
【００３３】
空間光変調器は、例えば回折格子型かつ反射型であり、格子の深さを変更することができる回折格子である。空間光変調器は、半導体装置製造技術を利用して製造される。本実施の形態に用いられる回折格子型の光変調器は、例えば、ＧＬＶ（グレーティング・ライト・バルブ）（シリコン・ライト・マシーンズ（サニーベール、カリフォルニア）の登録商標）である。ＧＬＶを使用することにより、メインコンピュータ６０から与えられる照射制御データに応じて、画素単位で光の照射量を多段階に変更することができる。空間光変調器は複数の格子要素を有し、各格子要素は１次回折光が出射される状態と、０次回折光が出射される状態との間で遷移する。光学ユニット４０では、１次回折光は遮光板にて遮光され、基板９へは導かれない。一方、０次回折光は、照射位置シフト機構および投影光学系を介して基板９へと導かれる。
【００３４】
図４は、描画に用いるデータの生成および選択に係る描画装置１の機能構成を示すブロック図である。図４のデータ変換部８１１は、第１コンピュータ８１のＣＰＵ等により実現され、ジョブ作成部６００は、メインコンピュータ６０のＣＰＵ等により実現される。また、記憶部８２１は、第２コンピュータ８２の固定ディスク等により実現され、表示部であるディスプレイ６０２はメインコンピュータ６０に設けられる。
【００３５】
図５は、基板９上にパターンを描画する処理の流れを示す図である。描画装置１において基板９上にパターンを描画する際には、事前準備として、互いに異なる複数のパターンにそれぞれ対応する複数の描画データセットが準備される（ステップＳ１）。以下、描画装置１において描画データセットを準備する処理について図６を参照して説明する。
【００３６】
描画データセットの準備では、外部のコンピュータ（ＣＡＤ／ＣＡＭ用コンピュータ）において所定のパターン（以下、「対象パターン」という。）の全体を示すベクトルデータ（ＣＡＤデータ）が作成され、当該ベクトルデータが描画装置１の第１コンピュータ８１に入力される。例えば、パターンの設計者である作業者が、第１コンピュータ８１において所定のプログラムを実行すると、図４のデータ変換部８１１により、ベクトルデータに基づいて対象パターンが第１コンピュータ８１のディスプレイに表示される。作業者がディスプレイ上の対象パターンを参照しつつ、入力部を介して特徴的な部分を示す複数の領域（すなわち、特徴領域）を特定することにより、データ変換部８１１において、各特徴領域の位置および大きさを示す情報が受け付けられる。
【００３７】
そして、データ変換を指示する入力が行われることにより、当該ベクトルデータがラスタ変換されてラスタデータ（対象パターンの全体を示すラスタデータであり、以下、「描画ラスタデータ」という。）が生成されるとともに、対象パターンにおける各特徴領域のみを示すラスタデータである部分ラスタデータが生成される（ステップＳ１１）。データ変換部８１１では、対象パターンの全体を示すサムネイルのデータ（ラスタデータ）、および、描画ラスタデータが示す画像の解像度を低下させた全体画像である補助全体画像（ただし、サムネイルよりも十分に高解像度である。）のデータも生成される。なお、部分ラスタデータの解像度は、描画ラスタデータの解像度と同じであることが好ましい。
【００３８】
本実施の形態では、描画ラスタデータ、部分ラスタデータ、サムネイルのデータ、および、補助全体画像のデータのそれぞれが１つのデータファイルとして生成され、以下の説明では、それぞれ描画ラスタデータファイル、部分ラスタデータファイル、サムネイルデータファイル、補助全体画像データファイルとも呼ぶ。また、各部分ラスタデータファイルが示す特徴領域の対象パターンにおける座標が、当該部分ラスタデータファイルのファイル名に含められる。すなわち、部分ラスタデータファイルは特徴領域の位置も含む情報である。
【００３９】
続いて、部分ラスタデータファイルが示す画像が第１コンピュータ８１のディスプレイに表示される。そして、特徴領域における注目すべき部位を指示するマークや、当該部位への着色、あるいは、特徴領域についてのコメント等の参照情報の付加を、作業者が入力部を介して指示することにより、部分ラスタデータファイルが、特徴領域を示す画像に参照情報を付加したものを示すデータファイルに更新される（ステップＳ１２）。部分ラスタデータファイルは一般的な画像ファイル形式にて生成されることが好ましく、この場合、部分ラスタデータを生成する機能と、部分ラスタデータが示す画像に参照情報を付加する機能とを異なるプログラムや異なるコンピュータを用いて実現することが容易に可能である。なお、ステップＳ１１における部分ラスタデータの生成前に参照情報の内容を入力することにより、ステップＳ１１において、特徴領域を示す画像に参照情報を付加したものを示す部分ラスタデータが生成されてもよい。
【００４０】
データ変換部８１１では、描画ラスタデータファイル５１１、複数の部分ラスタデータファイル５１２、サムネイルデータファイル５１３および補助全体画像データファイル５１４を含む集合が、描画データセット５１として互いに関連付けられ（図４参照）、第１コンピュータ８１の固定ディスク等に記憶される。実際には、一の描画データセット５１に含まれる描画ラスタデータファイル５１１、複数の部分ラスタデータファイル５１２、サムネイルデータファイル５１３および補助全体画像データファイル５１４は、１つのデータフォルダ内に保存される。描画データセット５１は第１コンピュータ８１から第２コンピュータ８２に出力され、第２コンピュータ８２の記憶部８２１にも記憶される（ステップＳ１３）。
【００４１】
描画装置１では、パターンの全体を示すベクトルデータが第１コンピュータ８１に入力される毎に、上記ステップＳ１１〜Ｓ１３の処理が繰り返され、複数の描画データセット５１が記憶部８２１にて記憶されて準備される。図５では、ステップＳ１１〜Ｓ１３を繰り返す処理の図示を省略している。なお、第１コンピュータ８１にて生成される全ての描画データセット５１が必ずしも記憶部８２１に記憶される必要はなく、例えば、第１コンピュータ８１、第２コンピュータ８２またはメインコンピュータ６０からの指示に基づいて、第１コンピュータ８１に保存された複数の描画データセット５１のうち必要な描画データセット５１のみが第２コンピュータ８２に出力されて記憶部８２１に記憶されてもよい。
【００４２】
複数の描画データセット５１が準備されると、カセット９０内に保持される複数の基板９に描画すべきパターンや各種描画条件を指示するジョブデータが作成される（図５：ステップＳ２）。以下、描画装置１においてジョブデータを作成する処理について図７を参照して説明する。
【００４３】
本実施の形態におけるジョブデータの作成では、パターンの設計者とは異なる者が作業者である（もちろん、パターンの設計者が作業者であってもよい。）。作業者がメインコンピュータ６０において所定のプログラムを実行すると、図４のジョブ作成部６００の表示制御部６０１により、図８に示すジョブ作成ウィンドウ７１がメインコンピュータ６０のディスプレイ６０２に表示される。ジョブ作成ウィンドウ７１内には基板選択部７１１が設けられる。本実施の形態では、カセット９０内に２５個の基板の収容位置が設定されており、基板選択部７１１では１ないし２５の番号によりカセット９０内の収容位置が特定可能である。
【００４４】
続いて、基板選択部７１１における所望の番号が、作業者により入力部を介して選択される（ステップＳ２１）。本実施の形態では、所望の番号がマウスのクリックにより選択される。以下の説明では、マウスのクリックによる選択を、単に「クリック」という。もちろん、キーボード等による入力により選択が行われてもよい。基板選択部７１１における番号の選択により、以下の処理にて、当該番号の収容位置（以下、「対象収容位置」という。）に配置される基板９に描画すべきパターンの登録、および、当該基板９への描画時における各種描画条件（例えば、描画時の光量やアライメントマークの指定等）を示すレシピの登録が可能となる。なお、ステップＳ２１の処理において複数の番号が選択されてもよく、この場合、当該複数の番号の収容位置の集合を対象収容位置として、以下の処理が行われる。
【００４５】
対象収容位置が選択されると、ジョブ作成ウィンドウ７１内の描画データ選択ボタン７１２をクリックすることにより、図９に示すように、描画データ選択ウィンドウ７２がディスプレイ６０２に表示される。描画データ選択ウィンドウ７２のファイル名表示領域７２１では、第２コンピュータ８２の記憶部８２１に記憶される全ての描画データセット５１における描画ラスタデータファイル５１１のファイル名（図９中にて符号７２６を付す矢印にて示す。）が表示される。このとき、これらの描画データセット５１に含まれる部分ラスタデータファイル５１２、サムネイルデータファイル５１３および補助全体画像データファイル５１４が、メインコンピュータ６０に転送されてメインコンピュータ６０のメモリにて記憶される。また、描画データ選択ウィンドウ７２において、描画ラスタデータファイル５１１の各ファイル名７２６の右側には、当該描画ラスタデータファイル５１１と同じ描画データセット５１に含まれるサムネイルデータファイル５１３が示すサムネイル７２７が表示される。なお、ファイル名表示領域７２１において各描画ラスタデータファイル５１１の作成日等の他の情報が表示されてよい。
【００４６】
描画データ選択ウィンドウ７２において、一の描画ラスタデータファイル５１１のファイル名７２６を選択した後、画像表示ボタン７２４をクリックすることにより、図１０に示すように、全体画像ウィンドウ７３がディスプレイ６０２に表示される（ステップＳ２２，Ｓ２３）。全体画像ウィンドウ７３の画像表示領域７３１には、当該描画ラスタデータファイル５１１と同じ描画データセット５１に含まれる補助全体画像データファイル５１４が示す画像（すなわち、補助全体画像）が表示され、当該画像はパターンの全体を示す。全体画像ウィンドウ７３では、拡大ボタン７３２および縮小ボタン７３３が設けられており、画像表示領域７３１に表示される画像の拡大および縮小が可能である。また、横方向移動ボタン群７３４および縦方向移動ボタン群７３５も設けられており、画像表示領域７３１に表示されるパターン上の領域の位置を変更することが可能である。なお、「閉じる」と記載された終了ボタン７３６をクリックすると、全体画像ウィンドウ７３が閉じられる。
【００４７】
一方、図９の描画データ選択ウィンドウ７２において、一の描画ラスタデータファイル５１１のファイル名７２６を選択した後、展開ボタン７２２をクリックすることにより、当該ファイル名７２６の下方に、複数の部分ラスタデータファイル５１２のファイル名７２８（１つのファイル名に符号７２８ａを付している。）が表示される。描画ラスタデータファイル５１１のファイル名７２６の前には黒塗りの三角または白塗りの三角が表示されており、黒塗りの三角は、当該描画ラスタデータファイル５１１と同じ描画データセット５１に含まれる部分ラスタデータファイル５１２のファイル名７２８がファイル名表示領域７２１に表示されていない状態（すなわち、折りたたまれた状態）を示す。また、白塗りの三角は、当該描画ラスタデータファイル５１１と同じ描画データセット５１に含まれる部分ラスタデータファイル５１２のファイル名７２８がファイル名表示領域７２１に表示されている状態（すなわち、展開されている状態）を示す。
【００４８】
また、部分ラスタデータファイル５１２のファイル名７２８が表示されている状態において、折りたたみボタン７２３をクリックすることにより、部分ラスタデータファイル５１２のファイル名７２８が表示されていない状態に変更することが可能である。なお、図９では、一部の部分ラスタデータファイル５１２のファイル名７２８の前に、描画ラスタデータファイル５１１のファイル名７２６と同様に、黒塗りの三角または白塗りの三角が表示されている。また、白塗りの三角が表示された部分ラスタデータファイル５１２のファイル名７２８ａの下には、他の部分ラスタデータファイル５１２のファイル名７２９が表示されているが、当該他の部分ラスタデータファイル５１２の内容については後述する。
【００４９】
描画データ選択ウィンドウ７２において、一の部分ラスタデータファイル５１２のファイル名７２８を選択した後、画像表示ボタン７２４をクリックすることにより、図１１に示すように、特徴領域ウィンドウ７４がディスプレイ６０２に表示される（ステップＳ２４，Ｓ２５）。特徴領域ウィンドウ７４の画像表示領域７４１には、当該部分ラスタデータファイル５１２が示す画像が表示され、当該画像は特徴領域を示す。既述のように、部分ラスタデータファイル５１２が示す画像では、参照情報が付加されており、図１１では、特徴領域における注目すべき部位を指示するマークである円Ａ１が表示される。
【００５０】
描画装置１では、画像表示領域７４１の画像が作業者により視認される。具体的には、対象収容位置に配置される基板９に描画すべきパターンの特徴領域を示す画像がプリント紙にプリントされて予め準備されており、プリント紙上の当該画像と画像表示領域７４１の画像とが比較される。これにより、当該部分ラスタデータファイル５１２と同じ描画データセット５１に含まれる描画ラスタデータファイル５１１が、対象収容位置に配置される基板９に描画すべきパターンを示すものであるか否かの確認が行われる。ここでは、図９中のファイル名「画像1-4-A-1.0.2」の部分ラスタデータファイル５１２の画像がディスプレイ６０２に表示され、ファイル名「Layer_1_AAA」の描画ラスタデータファイル５１１が、所望のパターンを示すものであるか否かが確認される。
【００５１】
実際には、図９の描画データ選択ウィンドウ７２において、複数の部分ラスタデータファイル５１２のファイル名７２８を選択した後、画像表示ボタン７２４をクリックすることにより、複数の特徴領域を示す複数の特徴領域ウィンドウ７４をディスプレイ６０２に同時に表示することが可能である。したがって、同一の描画ラスタデータファイル５１１に対応する複数の特徴領域を表示することにより、当該描画ラスタデータファイル５１１が示すパターンの確認を確実に行うことが可能となる。
【００５２】
特徴領域ウィンドウ７４では、全体画像ウィンドウ７３と同様に、拡大ボタン７４２および縮小ボタン７４３が設けられており、画像表示領域７４１に表示される画像の拡大および縮小が可能である。また、横方向移動ボタン群７４４および縦方向移動ボタン群７４５も設けられており、画像表示領域７４１に表示されるパターン上の領域の位置を変更することが可能である。なお、「閉じる」と記載された終了ボタン７４６をクリックすると、特徴領域ウィンドウ７４が閉じられる。
【００５３】
以上の作業により、または、必要に応じて他の描画ラスタデータファイル５１１に対応する補助全体画像の表示（ステップＳ２２，Ｓ２３）、もしくは、特徴領域の表示（ステップＳ２４，Ｓ２５）を繰り返すことにより（ステップＳ２６）、対象収容位置に配置される基板９に描画すべきパターンを示す描画ラスタデータファイル５１１が特定される。続いて、図９の描画データ選択ウィンドウ７２において、当該描画ラスタデータファイル５１１のファイル名７２６が選択される。そして、決定ボタン７２５をクリックすることにより、図８のジョブ作成ウィンドウ７１において、描画データ登録部７１３に、当該描画ラスタデータファイル５１１のファイル名が表示されて当該描画ラスタデータファイル５１１が登録される（ステップＳ２６，Ｓ２７）。
【００５４】
また、ジョブ作成ウィンドウ７１内のレシピ選択ボタン７１４をクリックすることにより、予め登録されている複数のレシピデータファイルのファイル名を示すウィンドウが表示され、作業者により複数のレシピデータファイルから１つのレシピデータファイルが選択される。これにより、図８のジョブ作成ウィンドウ７１において、レシピ登録部７１５に、当該レシピデータファイルのファイル名が表示されて当該レシピデータファイルが登録される（ステップＳ２８）。既述のように、レシピデータファイルは、描画部１００における各種描画条件を示すものであり、以上の処理により、対象収容位置に配置される基板９に描画すべきパターンの登録、および、当該基板９への描画時における描画条件を示すレシピの登録が完了する。なお、レシピデータファイルの登録が、描画ラスタデータファイル５１１の登録よりも先に行われてもよい。
【００５５】
描画装置１では、カセット９０における全ての収容位置に対する描画ラスタデータファイル５１１の登録、および、レシピデータファイルの登録が完了するまで、上記ステップＳ２１〜Ｓ２８の処理が繰り返される（ステップＳ２９）。これにより、ジョブデータが作成される。なお、上記ジョブデータの作成において、基板９が配置されない収容位置が存在する場合等には、当該収容位置を無視することを指示する入力が行われる。
【００５６】
以上の処理によりジョブデータが作成されると、ジョブデータに従ってパターンが描画される（図５：ステップＳ３）。図２および図３の描画部１００におけるパターンの描画では、カセット９０内の最初の処理対象の基板９が搬送装置１１０によりカセット９０から搬出され、ステージ１０に載置される。続いて、アライメントユニット３６１の出力に基づいて、回転機構２１が制御され、基板９へのパターン描画に適した向きに基板９がアライメント（位置合わせ）される。
【００５７】
また、ジョブデータに従ってメインコンピュータ６０が第２コンピュータ８２にデータ要求信号を出力することにより、第２コンピュータ８２において、最初の基板９に対して登録された描画ラスタデータファイル５１１から、基板９上の１ストライプ（１スワス）分の描画データであるストライプデータが生成される。ストライプデータは、光学ユニット４０の空間光変調器およびステージ移動機構２０を制御するためのデータであり、第２コンピュータ８２からメインコンピュータ６０に入力される。描画部１００では、ストライプデータおよび基板９に対して登録されたレシピデータファイルに従って、光学ユニット４０の光学ヘッド４２およびステージ移動機構２０が制御され、パターン描画が行われる。
【００５８】
具体的には、主走査機構２５により基板９が、その主面に平行な主走査方向への移動を開始し、基板９の光学ユニット４０に対する相対移動に並行して、２つの光学ヘッド４２からの空間変調された光の基板９への照射が、２つのストライプに対応する領域（以下、「ストライプ領域」という。）の先頭から開始される。これにより、パターンの描画が開始される。ストライプ領域の最後まで描画が行われると、光学ヘッド４２からの光の出射が一時的に停止され、基板９の主走査方向への移動も停止され、副走査機構２３により基板９が主走査方向に垂直かつ基板９の主面に平行な副走査方向にストライプ領域の幅だけ移動する。そして、基板９が前回の主走査とは逆方向に移動しつつ２つの光学ヘッド４２により２つのストライプ領域への描画が行われる。基板９の副走査方向への移動および主走査方向への移動が繰り返されて全ストライプの描画が完了すると、搬送装置１１０により基板９が搬出され、カセット９０に収納される。各光学ヘッド４２は、基板９の半分の描画を担う。
【００５９】
以上のようにして最初の基板９へのパターン描画が完了すると、上記と同様にして、次の処理対象の基板９に対してパターンが描画される。描画装置１では、上記処理が繰り返され、カセット９０内の処理対象の全ての基板９に対してパターンの描画が行われる。
【００６０】
ところで、例えば、基板９上に形成されたパターン要素が所望の線幅とならない場合や、パターン要素の角部が所望の形状とならない場合等には、パターンを更新（修正）して描画に用いられるデータ（描画ラスタデータ）を再度生成する必要がある。このように、一の描画データセット５１（以下、「対象描画データセット５１」という。）に対応するパターンを更新する必要がある場合には、外部のコンピュータにおいて当該パターンを更新したパターンを示すベクトルデータが作成され、第１コンピュータ８１に入力される。データ変換部８１１では、更新済みのパターンの全体を示すベクトルデータをラスタ変換して新たな描画ラスタデータ（以下、更新前のパターンの全体を示す描画ラスタデータと区別する場合に、「更新済み描画ラスタデータ」という。）が生成される。
【００６１】
また、データ変換部８１１では、対象描画データセット５１に含まれる各部分ラスタデータファイル５１２（すなわち、更新前のパターンにおける部分ラスタデータファイル５１２であり、以下、「更新前の部分ラスタデータファイル５１２」ともいう。）のファイル名を参照することにより、当該部分ラスタデータファイル５１２が示す特徴領域の座標が取得可能である。これにより、更新済み描画ラスタデータの生成時に、更新済みのパターンにおける、当該部分ラスタデータと同じ特徴領域を示す部分ラスタデータ（以下、更新前の部分ラスタデータと区別する場合に、「更新済み部分ラスタデータ」という。）も生成される（図６：ステップＳ１１）。このとき、パターンの改訂番号（版数）が、更新済み部分ラスタデータファイルのファイル名に含められる。なお、各部分ラスタデータファイル５１２が示す特徴領域の位置情報が第１コンピュータ８１において別途記憶され、当該位置情報を用いて更新済み部分ラスタデータが生成されてもよい。また、新規の特徴領域を示す部分ラスタデータが生成されてよい。
【００６２】
続いて、必要に応じて、更新済み部分ラスタデータが示す画像に参照情報が付加される（ステップＳ１２）。そして、第２コンピュータ８２の記憶部８２１では、対象描画データセット５１において、元の描画ラスタデータが更新済み描画ラスタデータに置き換えられて更新される。また、更新前の部分ラスタデータおよび更新済み部分ラスタデータの双方が、対象描画データセット５１に含められる（ステップＳ１３）。
【００６３】
図７のステップＳ２４，Ｓ２５において、図９の描画データ選択ウィンドウ７２では、更新済み部分ラスタデータファイルのファイル名７２８ａが表示されており、当該更新済み部分ラスタデータファイルのファイル名７２８ａを選択した後、展開ボタン７２２をクリックすることにより、当該ファイル名７２８ａの下方に、更新前の部分ラスタデータファイルのファイル名７２９が表示される（図９では既に表示されている。）。更新前の部分ラスタデータファイルのファイル名７２９を選択した後、画像表示ボタン７２４をクリックすると、図１１と同様の特徴領域ウィンドウ７４がディスプレイ６０２に表示される。特徴領域ウィンドウ７４の画像表示領域７４１には、当該更新前の部分ラスタデータファイルが示す画像が表示され、当該画像は更新前のパターンにおける特徴領域を示す。したがって、更新前の部分ラスタデータファイルに対応する特徴領域ウィンドウ７４、および、更新済み部分ラスタデータファイルに対応する特徴領域ウィンドウ７４を表示することにより、更新前後のパターン（例えば、線幅の変更前後）における特徴領域を比較することが可能となる。
【００６４】
ここで、比較例の描画装置について述べる。比較例の描画装置では、部分ラスタデータファイルが生成されず、図５のステップＳ２のジョブデータの作成では、図１１に示す特徴領域ウィンドウ７４のディスプレイへの表示が不能である。したがって、選択した描画ラスタデータファイル５１１が示すパターンを作業者が確認する際には、図１０に示す全体画像ウィンドウ７３をディスプレイに表示し、画像表示領域７３１に表示される画像の拡大や縮小、あるいは、移動を何度も繰り返して確認すべき特徴領域を見つけ出す必要がある。したがって、確認作業に長時間を要してしまう。
【００６５】
これに対し、描画装置１では、各パターンの全体を示すベクトルデータをラスタ変換して描画ラスタデータを生成する際に、当該パターンにおけるパターン識別用の特徴領域を示すデータである部分ラスタデータが生成される。そして、描画すべきパターンの選択（すなわち、描画ラスタデータの選択）を行う際に、複数のパターンのうち、選択されたパターンを示す描画ラスタデータと同じ描画データセット５１に含まれる部分ラスタデータに基づいて、当該選択されたパターンにおける特徴領域を示す画像がディスプレイ６０２に表示される。これにより、選択されたパターンにおける特徴領域を示す画像を迅速に、かつ、容易に表示することができ、作業者において当該パターンの正誤の確認（描画すべきパターンであるか否かの確認）を効率よく行うことができる。また、パターンの設計者等が、実際のパターン描画において選択すべき描画ラスタデータのファイル名と、当該描画ラスタデータと同じ描画データセット５１に含まれる部分ラスタデータが示す画像とをプリントした指示書を準備することにより、描画すべきパターンについての情報を有しない作業者であっても、特徴領域を示す画像を表示しつつ当該指示書を参照してパターンの正誤の確認を確実に行うことができる。その結果、誤ったファイル名を選択して誤ったパターンが基板９に描画されることを防止することができる。
【００６６】
また、描画データセット５１における部分ラスタデータとして、特徴領域を示す画像に参照情報を付加したものを示すラスタデータが生成されることにより、特徴領域を示すとともに参照情報が付加された画像を迅速に表示することができ、誤ったパターンが描画されることをさらに防止することができる。
【００６７】
さらに、一の描画データセット５１に対応するパターンを更新する際に、更新済みのパターンにおける特徴領域を示す更新済み部分ラスタデータが生成され、ジョブデータの作成において更新済みのパターンが選択された際に、更新前の部分ラスタデータが示す画像および更新済み部分ラスタデータが示す画像がディスプレイ６０２に表示可能である。これにより、パターンの更新前後における特徴領域を示す画像を容易に表示することができ、描画すべきパターンの確認をより確実に行うことができる。
【００６８】
描画装置１では、各描画データセット５１が、複数の特徴領域のそれぞれを示す部分ラスタデータを含み、各描画データセット５１に対応するパターンが選択された際に、当該パターンにおける複数の特徴領域を示す複数の画像がディスプレイ６０２に個別に表示可能である。その結果、作業者において各パターンにおける複数の特徴領域を容易に視認することができ、描画すべきパターンであるか否かの確認をより確実に行うことができる。
【００６９】
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、様々な変形が可能である。
【００７０】
上記実施の形態では、データ変換部８１１において特徴領域を示すラスタデータである部分ラスタデータが生成されるが、パターンの全体を示すベクトルデータから、特徴領域を示すベクトルデータである部分ベクトルデータが生成されてもよい。この場合、ジョブ作成部６００の表示制御部６０１により、選択されたパターンを示す描画ラスタデータと同じ描画データセット５１に含まれる部分ベクトルデータに基づいて、当該パターンにおける特徴領域を示す画像がディスプレイ６０２に表示される。部分ベクトルデータのデータサイズは十分に小さいため、選択されたパターンにおける特徴領域を示す画像を迅速に表示することができる。
【００７１】
また、データ変換部８１１において、部分ラスタデータに代えて特徴領域の位置データが生成されてもよい。この場合、表示制御部６０１では、選択されたパターンを示す描画ラスタデータと同じ描画データセット５１に含まれる位置データに基づいて、当該描画ラスタデータから特徴領域を示す部分が抽出され、当該パターンにおける特徴領域を示す画像がディスプレイ６０２に迅速に表示される。以上のように、描画装置１では、各パターンを示す描画ラスタデータの生成時に、当該パターンにおけるパターン識別用の特徴領域の位置データ、または、当該特徴領域を示すデータである部分データ（すなわち、部分ラスタデータまたは部分ベクトルデータ）が生成される。そして、記憶部８２１において、描画ラスタデータと、当該位置データまたは当該部分データとを含む集合を描画データセット５１として記憶することにより、選択されたパターン（すなわち、選択された描画ラスタデータ）における特徴領域を示す画像を、位置データまたは部分データに基づいて迅速に、かつ、容易に表示することができる。もちろん、描画データセット５１において複数の特徴領域の位置データが含まれてよい。
【００７２】
特徴領域を示す画像は、ジョブデータの作成時以外において表示されてよく、例えば、基板９上へのパターン描画の直前において、作成済みのジョブデータの内容を確認する際に、描画データセット５１に含まれる位置データまたは部分データに基づいて、特徴領域を示す画像がディスプレイに表示されてよい。
【００７３】
また、描画データセット５１が、第２コンピュータ８２またはメインコンピュータ６０にて生成されてよく、複数の描画データセット５１が、第１コンピュータ８１またはメインコンピュータ６０の記憶部にて記憶されてよい。また、特徴領域の位置データまたは特徴領域を示す部分データに基づく特徴領域の表示は、第１コンピュータ８１または第２コンピュータ８２の表示部にて行われてもよい。さらに、描画データセット５１の生成および記憶、並びに、特徴領域の表示は、１つまたは２つのコンピュータ、あるいは、４個以上のコンピュータにより実現されてもよく、これらの処理の一部または全部が、専用の電気的回路を用いて実現されてもよい。
【００７４】
描画部１００により描画ラスタデータに従ってパターンが描画される対象物は、基板９以外に、感光材料の層が形成されたフィルム等であってもよい。また、描画部１００における光学ヘッドは変調された光を出射するものであるならば、いかなる構成であってもよい。また、描画部は電子線等によりパターンを描画するものであってもよい。
【００７５】
上記実施の形態および各変形例における構成は、相互に矛盾しない限り適宜組み合わされてよい。
【符号の説明】
【００７６】
１ 描画装置
９ 基板
５１ 描画データセット
１００ 描画部
５１１ 描画ラスタデータファイル
５１２ 部分ラスタデータファイル
６０１ 表示制御部
６０２ ディスプレイ
７４１ 画像表示領域
８１１ データ変換部
８２１ 記憶部
Ａ１ 円
Ｓ３，Ｓ１１，Ｓ１３，Ｓ２５ ステップ
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パターンを描画する描画装置および描画方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＣＡＤ（computer aided design）により作成したパターンのベクトルデータをラスタ変換して描画ラスタデータを生成し、描画部において描画ラスタデータに従って基板上の感光材料に当該パターンを描画することが従来より行われている。また、パターンの描画および現像にはある程度の時間を要するため、パターン描画の前に、選択した描画ラスタデータが、所望のパターンを示すものであるか否かを確認する作業も必要に応じて行われる。
【０００３】
なお、特許文献１では、描画用ラスタデータに対する目視チェックの省力化を実現する手法が開示されている。本手法では、基板に直接描画する配線パターンを表すベクトル形式のガーバーデータがＲＩＰ処理によって描画用ラスタデータへ展開される前に、任意の詳細表示範囲が指定されると、ガーバーデータのうち指定された詳細表示範囲に相当するデータのみが高解像度のラスタデータへ展開され、詳細表示範囲内の配線パターンを示す詳細表示画像がラスタ表示画面内に表示される。また、特許文献２では、被検査物の表面上に形成されたアライメントマークの画像データを採取し、当該画像データから抽出される特徴点、および、予め登録されたアライメントマークの特徴点より相関値を算出し、相関値の閾値に基いて、アライメントに使用するアライメントマークの画像データを登録する手法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−３３０１８４号公報
【特許文献２】特開２００８−１５３５７２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、パターン描画の前に、選択した描画ラスタデータが示すパターンを確認するために、パターンの全体を示すサムネイル（全体を示す縮小画像）を準備してディスプレイに表示することが考えられるが、この場合、微細なパターン要素の相違を判別することができず、パターンの確認が不十分となる。また、描画ラスタデータ、あるいは、描画ラスタデータの解像度をある程度低下させた画像（例えば、画素を間引いた画像）をディスプレイに表示することも考えられるが、確認すべき特徴的な領域（以下、「特徴領域」という。）を見つけるために、表示画像の拡大や縮小、あるいは、表示する領域の移動を何度も繰り返す必要があり、確認作業に長時間を要してしまう。さらに、パターンが複雑な場合には、パターンの設計者自身でなければ、特徴領域を見つけることが困難である。同様に登録したマークより描画ラスタデータ中にある近似マークを抽出する場合も長時間を要してしまう。
【０００６】
本発明は上記課題に鑑みなされたものであり、選択されたパターンにおける特徴領域を示す画像を迅速に、かつ、容易に表示することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１に記載の発明は、パターンを描画する描画装置であって、各パターンの全体を示すベクトルデータをラスタ変換して描画ラスタデータを生成するとともに、前記描画ラスタデータの生成時に前記各パターンにおけるパターン識別用の特徴領域の位置データ、または、前記特徴領域を示すデータである部分データを生成するデータ変換部と、前記描画ラスタデータと、前記位置データまたは前記部分データとを含む集合を描画データセットとして、複数のパターンにそれぞれ対応する複数の描画データセットを記憶する記憶部と、前記複数のパターンのうち、選択されたパターンを示す描画ラスタデータと同じ描画データセットに含まれる位置データまたは部分データに基づいて、前記選択されたパターンにおける特徴領域を示す画像を表示部に表示する表示制御部と、描画ラスタデータに従って対象物上にパターンを描画する描画部とを備える。
【０００８】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の描画装置であって、一の描画データセットにおける部分データが、特徴領域を示す画像に参照情報を付加したものを示すラスタデータである。
【０００９】
請求項３に記載の発明は、請求項１または２に記載の描画装置であって、一の描画データセットが、描画ラスタデータと部分ラスタデータとを含み、前記描画データセットに対応するパターンを更新する際に、前記データ変換部が、更新済みのパターンの全体を示すベクトルデータをラスタ変換して更新済み描画ラスタデータを生成するとともに、前記更新済み描画ラスタデータの生成時に、前記更新済みのパターンにおける、前記部分ラスタデータと同じ特徴領域を示す更新済み部分ラスタデータを生成し、前記描画データセットにおいて、前記描画ラスタデータが前記更新済み描画ラスタデータに更新され、前記描画データセットが前記部分ラスタデータおよび前記更新済み部分ラスタデータの双方を含み、前記更新済みのパターンが選択された際に、前記部分ラスタデータが示す画像および前記更新済み部分ラスタデータが示す画像が、前記表示制御部により前記表示部に表示可能である。
【００１０】
請求項４に記載の発明は、請求項１ないし３のいずれかに記載の描画装置であって、各描画データセットが、複数の特徴領域の位置データ、または、前記複数の特徴領域のそれぞれを示す部分ラスタデータを含み、前記各描画データセットに対応するパターンが選択された際に、前記パターンにおける複数の特徴領域を示す複数の画像が、前記表示制御部により前記表示部に個別に表示可能である。
【００１１】
請求項５に記載の発明は、パターンを描画する描画方法であって、ａ）各パターンの全体を示すベクトルデータをラスタ変換して描画ラスタデータを生成するとともに、前記描画ラスタデータの生成時に前記各パターンにおけるパターン識別用の特徴領域の位置データ、または、前記特徴領域を示すデータである部分データを生成する工程と、ｂ）前記描画ラスタデータと、前記位置データまたは前記部分データとを含む集合を描画データセットとして、複数のパターンにそれぞれ対応する複数の描画データセットを記憶部にて記憶する工程と、ｃ）前記複数のパターンのうち、選択されたパターンを示す描画ラスタデータと同じ描画データセットに含まれる位置データまたは部分データに基づいて、前記選択されたパターンにおける特徴領域を示す画像を表示部に表示する工程と、ｄ）描画ラスタデータに従って対象物上にパターンを描画する工程とを備える。
【００１２】
請求項６に記載の発明は、請求項５に記載の描画方法であって、一の描画データセットにおける部分データが、特徴領域を示す画像に参照情報を付加したものを示すラスタデータである。
【００１３】
請求項７に記載の発明は、請求項５または６に記載の描画方法であって、一の描画データセットが、描画ラスタデータと部分ラスタデータとを含み、前記描画データセットに対応するパターンを更新する際に、更新済みのパターンの全体を示すベクトルデータをラスタ変換して更新済み描画ラスタデータが生成されるとともに、前記更新済み描画ラスタデータの生成時に、前記更新済みのパターンにおける、前記部分ラスタデータと同じ特徴領域を示す更新済み部分ラスタデータが生成され、前記描画データセットにおいて、前記描画ラスタデータが前記更新済み描画ラスタデータに更新され、前記描画データセットが前記部分ラスタデータおよび前記更新済み部分ラスタデータの双方を含み、前記更新済みのパターンが選択された際に、前記部分ラスタデータが示す画像および前記更新済み部分ラスタデータが示す画像が、前記表示部に表示可能である。
【００１４】
請求項８に記載の発明は、請求項５ないし７のいずれかに記載の描画方法であって、各描画データセットが、複数の特徴領域の位置データ、または、前記複数の特徴領域のそれぞれを示す部分ラスタデータを含み、前記各描画データセットに対応するパターンが選択された際に、前記パターンにおける複数の特徴領域を示す複数の画像が、前記表示部に個別に表示可能である。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、選択されたパターンにおける特徴領域を示す画像を迅速に、かつ、容易に表示することができる。
【００１６】
また、請求項２および６の発明では、特徴領域を示すとともに参照情報が付加された画像を迅速に表示することができ、請求項３および７の発明では、パターンの更新前後における特徴領域を示す画像を容易に表示することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】描画装置の構成を示すブロック図である。
【図２】描画部の正面図である。
【図３】描画部の平面図である。
【図４】描画に用いるデータの生成および選択に係る機能構成を示すブロック図である。
【図５】基板上にパターンを描画する処理の流れを示す図である。
【図６】描画データセットを準備する処理の流れを示す図である。
【図７】ジョブデータを作成する処理の流れを示す図である。
【図８】ジョブ作成ウィンドウを示す図である。
【図９】描画データ選択ウィンドウを示す図である。
【図１０】全体画像ウィンドウを示す図である。
【図１１】特徴領域ウィンドウを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
図１は、本発明の一の実施の形態に係る描画装置１の構成を示すブロック図である。描画装置１は、描画に用いるデータを生成および記憶する第１および第２コンピュータ８１，８２、並びに、対象物である基板上にパターンを描画する描画部１００を備える。第１および第２コンピュータ８１，８２、並びに、描画部１００のメインコンピュータ６０のそれぞれは、各種演算処理を行うＣＰＵや各種情報を記憶するＲＡＭ等を有する。第１および第２コンピュータ８１，８２、並びに、メインコンピュータ６０が実現する機能については後述する。
【００１９】
図２は、描画部１００の正面図であり、図３は描画部１００の平面図である。描画部１００は、レジスト等の感光材料の層が形成された半導体の基板９の上面である描画面に光を照射して、パターンを描画する。なお、基板９は、プリント基板、カラーフィルタ用基板、液晶表示装置やプラズマ表示装置に具備されるフラットパネルディスプレイ用ガラス基板、光ディスク用基板等の他の様々な基板であってもよい。図２および図３の例では円形の半導体基板の表面に形成された下地パターンに重ねてパターンが描画される。描画パターンは、例えば、集積回路を外部と接続するために集積回路から延びる配線パターンである。
【００２０】
描画部１００では、本体フレーム１０１の骨格の天井面および周囲面にカバーパネル（図示省略）が取り付けられることによって本体内部が形成され、本体内部および本体外部に、各種の構成要素が配置される。図２の描画部１００の本体内部は、処理領域１０２と受け渡し領域１０３とに区分される。これらの領域のうち処理領域１０２には、ステージ１０、ステージ移動機構２０、ステージ位置計測部３０、光学ユニット４０、アライメントユニット３６１、および、制御部であるメインコンピュータ６０が配置される。なお、図２および図３ではメインコンピュータ６０を外に描いている。図２の受け渡し領域１０３には、処理領域１０２に対する基板９の搬出入を行う搬送ロボット等の搬送装置１１０が配置される。メインコンピュータ６０は、描画部１００が備える装置各部（描画エンジン）と電気的に接続されて、これら各部の動作を制御する。
【００２１】
描画部１００の本体外部には、照明ユニット３６２が配置される。照明ユニット３６２は、アライメントユニット３６１に照明光を供給する。
【００２２】
描画部１００の本体外部で、受け渡し領域１０３に隣接する位置には、カセット載置部１０４が配置される。カセット載置部１０４には、カセット９０が載置される。搬送装置１１０は、カセット載置部１０４に対応する位置に設けられ、カセット載置部１０４に載置されたカセット９０に収容された未処理の基板９を取り出して処理領域１０２に搬入（ローディング）するとともに、処理領域１０２から処理済みの基板９を搬出（アンローディング）してカセット９０に収容する。カセット載置部１０４に対するカセット９０の受け渡しは、図示しない外部搬送装置によって行われる。未処理の基板９のローディングおよび処理済みの基板９のアンローディングはメインコンピュータ６０からの指示に応じて搬送装置１１０が動作することで行われる。
【００２３】
ステージ１０は、平板状の外形を有し、その上面に載置された基板９を水平姿勢にて支持する支持部である。ステージ１０の上面には、複数の吸引孔が形成されており、この吸引孔に負圧（吸引圧）を付与することによって、ステージ１０上に載置された基板９をステージ１０の上面に固定保持する。基板９を支持する機構としては他の様々なものが採用されてもよい。ステージ１０はステージ移動機構２０により水平方向に移動する。
【００２４】
ステージ移動機構２０は、ステージ１０を主走査方向（Ｙ軸方向）、副走査方向（Ｘ軸方向）および回転方向（Ｚ軸周りの回転方向（θ軸方向））に移動する。これにより、ステージ１０に支持される基板９が、光学ユニット４０に対して移動する。図２および図３に示すように、ステージ移動機構２０は、ステージ１０を回転させる回転機構２１と、回転機構２１を支持する支持プレート２２と、支持部プレートを副走査方向に移動する副走査機構２３と、副走査機構２３を支持するベースプレート２４と、ベースプレート２４を主走査方向に移動させる主走査機構２５とを備える。回転機構２１は、支持プレート２２上で、基板９の上面に垂直な回転軸を中心としてステージ１０を回転させる。回転機構２１、副走査機構２３および主走査機構２５は、メインコンピュータ６０に電気的に接続され、メインコンピュータ６０からの指示に応じてステージ１０を移動する。
【００２５】
図３に示すように、副走査機構２３は、リニアモータ２３ａを有する。リニアモータ２３ａは、支持プレート２２の下面に取り付けられた移動子とベースプレート２４の上面に敷設された固定子とを備える。支持プレート２２とベースプレート２４との間には、副走査方向Ｘに延びる一対のガイド部２３ｂが設けられる。リニアモータ２３ａが動作すると、ガイド部２３ｂに沿って支持プレート２２が副走査方向Ｘに移動する。
【００２６】
主走査機構２５は、リニアモータ２５ａを有する。リニアモータ２５ａは、ベースプレート２４の下面に取り付けられた移動子と描画部１００の基台１０６（図２参照）上に敷設された固定子とを備える。ベースプレート２４と基台１０６との間には、主走査方向に延びる一対のガイド部２５ｂが設けられる。リニアモータ２５ａが動作すると、基台１０６上のガイド部２５ｂに沿ってベースプレート２４が主走査方向Ｙに移動する。
【００２７】
ステージ位置計測部３０は、ステージ１０の位置を計測する。ステージ位置計測部３０は、メインコンピュータ６０と電気的に接続され、メインコンピュータ６０からの指示に応じてステージ１０の位置を計測する。ステージ位置計測部３０は、例えば、ステージ１０に向けてレーザ光を照射し、その反射光と出射光との干渉を利用して、ステージ１０の位置を計測する。ステージ位置計測部３０の構成および動作はこれに限定されるものではない。本実施の形態では、ステージ位置計測部３０は、レーザ光を出射する出射部３１と、ビームスプリッタ３２と、ビームベンダ３３と、第１干渉計３４と、第２干渉計３５とを備える。出射部３１および各干渉計３４、３５は、メインコンピュータ６０と電気的に接続されており、メインコンピュータ６０からの指示に応じてステージ１０の位置を計測する。
【００２８】
出射部３１から出射されたレーザ光は、ビームスプリッタ３２に入射し、ビームベンダ３３に向かう第１分岐光と、第２干渉計３５に向かう第２分岐光とに分岐される。第１分岐光は、第１干渉計３４によるステージ１０の第１の部位に対応した位置パラメータを求めるために利用される。第２分岐光は、第２干渉計３５によるステージ１０の第２の部位（ただし、第２の部位は、第１の部位とは異なる位置である。）に対応した位置パラメータを求めるために利用される。メインコンピュータ６０は、第１干渉計３４および第２干渉計３５から、ステージ１０の第１および第２の部位の位置に対応した位置パラメータを取得する。そして、各位置パラメータに基づいて、ステージ１０の位置を算出する。
【００２９】
図２のアライメントユニット３６１は、基板９の上面に形成された基準マークを撮像する。アライメントユニット３６１は、照明ユニット３６２のほか、鏡筒、対物レンズ、および、ＣＣＤイメージセンサを備える。ＣＣＤイメージセンサは、例えば、エリアイメージセンサ（二次元イメージセンサ）である。
【００３０】
照明ユニット３６２は、ファイバ３６３を介してアライメントユニット３６１に接続され、アライメントユニット３６１に照明用の光を供給する。ファイバ３６３によって導かれる光は、鏡筒を介して基板９の上面に導かれ、その反射光は、対物レンズを介してＣＣＤイメージセンサで受光される。これにより、基板９の上面が撮像される。ＣＣＤイメージセンサは、メインコンピュータ６０と電気的に接続され、メインコンピュータ６０からの指示に応じて撮像データを取得し、撮像データをメインコンピュータ６０に送信する。アライメントユニット３６１はオートフォーカス可能なオートフォーカスユニットをさらに備えてもよい。
【００３１】
光学ユニット４０は、光源部４１と、２つの光学ヘッド４２（図３参照）とを備え、空間変調された光を基板９に照射する光照射部である。光学ヘッド４２は光源部４１から与えられるレーザ光を空間変調する。光源部４１は、レーザ駆動部４１１と、光源であるレーザ発振器４１２と、照明光学系４１３とを備える。これらの構成要素は、各光学ヘッド４２に対応して設けられる。レーザ駆動部４１１の作動によりレーザ発振器４１２からレーザ光が出射され、照明光学系４１３を介して光学ヘッド４２に導入される。
【００３２】
光学ヘッド４２は、空間光変調器、光学系、照射位置シフト機構、および、投影光学系を備える。光学系は、光源部４１からの光を空間光変調器へと導き、空間光変調器は、導入された光を空間変調する。照射位置シフト機構は、一対のウェッジプリズムを備え、一対のウェッジプリズムの間の距離を変更することにより光軸をシフトさせ、基板９の上面において描画位置を副走査方向に相対的にシフトさせる。投影光学系は、照射位置シフト機構からの光を基板９の上面に導く。
【００３３】
空間光変調器は、例えば回折格子型かつ反射型であり、格子の深さを変更することができる回折格子である。空間光変調器は、半導体装置製造技術を利用して製造される。本実施の形態に用いられる回折格子型の光変調器は、例えば、ＧＬＶ（グレーティング・ライト・バルブ）（シリコン・ライト・マシーンズ（サニーベール、カリフォルニア）の登録商標）である。ＧＬＶを使用することにより、メインコンピュータ６０から与えられる照射制御データに応じて、画素単位で光の照射量を多段階に変更することができる。空間光変調器は複数の格子要素を有し、各格子要素は１次回折光が出射される状態と、０次回折光が出射される状態との間で遷移する。光学ユニット４０では、１次回折光は遮光板にて遮光され、基板９へは導かれない。一方、０次回折光は、照射位置シフト機構および投影光学系を介して基板９へと導かれる。
【００３４】
図４は、描画に用いるデータの生成および選択に係る描画装置１の機能構成を示すブロック図である。図４のデータ変換部８１１は、第１コンピュータ８１のＣＰＵ等により実現され、ジョブ作成部６００は、メインコンピュータ６０のＣＰＵ等により実現される。また、記憶部８２１は、第２コンピュータ８２の固定ディスク等により実現され、表示部であるディスプレイ６０２はメインコンピュータ６０に設けられる。
【００３５】
図５は、基板９上にパターンを描画する処理の流れを示す図である。描画装置１において基板９上にパターンを描画する際には、事前準備として、互いに異なる複数のパターンにそれぞれ対応する複数の描画データセットが準備される（ステップＳ１）。以下、描画装置１において描画データセットを準備する処理について図６を参照して説明する。
【００３６】
描画データセットの準備では、外部のコンピュータ（ＣＡＤ／ＣＡＭ用コンピュータ）において所定のパターン（以下、「対象パターン」という。）の全体を示すベクトルデータ（ＣＡＤデータ）が作成され、当該ベクトルデータが描画装置１の第１コンピュータ８１に入力される。例えば、パターンの設計者である作業者が、第１コンピュータ８１において所定のプログラムを実行すると、図４のデータ変換部８１１により、ベクトルデータに基づいて対象パターンが第１コンピュータ８１のディスプレイに表示される。作業者がディスプレイ上の対象パターンを参照しつつ、入力部を介して特徴的な部分を示す複数の領域（すなわち、特徴領域）を特定することにより、データ変換部８１１において、各特徴領域の位置および大きさを示す情報が受け付けられる。
【００３７】
そして、データ変換を指示する入力が行われることにより、当該ベクトルデータがラスタ変換されてラスタデータ（対象パターンの全体を示すラスタデータであり、以下、「描画ラスタデータ」という。）が生成されるとともに、対象パターンにおける各特徴領域のみを示すラスタデータである部分ラスタデータが生成される（ステップＳ１１）。データ変換部８１１では、対象パターンの全体を示すサムネイルのデータ（ラスタデータ）、および、描画ラスタデータが示す画像の解像度を低下させた全体画像である補助全体画像（ただし、サムネイルよりも十分に高解像度である。）のデータも生成される。なお、部分ラスタデータの解像度は、描画ラスタデータの解像度と同じであることが好ましい。
【００３８】
本実施の形態では、描画ラスタデータ、部分ラスタデータ、サムネイルのデータ、および、補助全体画像のデータのそれぞれが１つのデータファイルとして生成され、以下の説明では、それぞれ描画ラスタデータファイル、部分ラスタデータファイル、サムネイルデータファイル、補助全体画像データファイルとも呼ぶ。また、各部分ラスタデータファイルが示す特徴領域の対象パターンにおける座標が、当該部分ラスタデータファイルのファイル名に含められる。すなわち、部分ラスタデータファイルは特徴領域の位置も含む情報である。
【００３９】
続いて、部分ラスタデータファイルが示す画像が第１コンピュータ８１のディスプレイに表示される。そして、特徴領域における注目すべき部位を指示するマークや、当該部位への着色、あるいは、特徴領域についてのコメント等の参照情報の付加を、作業者が入力部を介して指示することにより、部分ラスタデータファイルが、特徴領域を示す画像に参照情報を付加したものを示すデータファイルに更新される（ステップＳ１２）。部分ラスタデータファイルは一般的な画像ファイル形式にて生成されることが好ましく、この場合、部分ラスタデータを生成する機能と、部分ラスタデータが示す画像に参照情報を付加する機能とを異なるプログラムや異なるコンピュータを用いて実現することが容易に可能である。なお、ステップＳ１１における部分ラスタデータの生成前に参照情報の内容を入力することにより、ステップＳ１１において、特徴領域を示す画像に参照情報を付加したものを示す部分ラスタデータが生成されてもよい。
【００４０】
データ変換部８１１では、描画ラスタデータファイル５１１、複数の部分ラスタデータファイル５１２、サムネイルデータファイル５１３および補助全体画像データファイル５１４を含む集合が、描画データセット５１として互いに関連付けられ（図４参照）、第１コンピュータ８１の固定ディスク等に記憶される。実際には、一の描画データセット５１に含まれる描画ラスタデータファイル５１１、複数の部分ラスタデータファイル５１２、サムネイルデータファイル５１３および補助全体画像データファイル５１４は、１つのデータフォルダ内に保存される。描画データセット５１は第１コンピュータ８１から第２コンピュータ８２に出力され、第２コンピュータ８２の記憶部８２１にも記憶される（ステップＳ１３）。
【００４１】
描画装置１では、パターンの全体を示すベクトルデータが第１コンピュータ８１に入力される毎に、上記ステップＳ１１〜Ｓ１３の処理が繰り返され、複数の描画データセット５１が記憶部８２１にて記憶されて準備される。図５では、ステップＳ１１〜Ｓ１３を繰り返す処理の図示を省略している。なお、第１コンピュータ８１にて生成される全ての描画データセット５１が必ずしも記憶部８２１に記憶される必要はなく、例えば、第１コンピュータ８１、第２コンピュータ８２またはメインコンピュータ６０からの指示に基づいて、第１コンピュータ８１に保存された複数の描画データセット５１のうち必要な描画データセット５１のみが第２コンピュータ８２に出力されて記憶部８２１に記憶されてもよい。
【００４２】
複数の描画データセット５１が準備されると、カセット９０内に保持される複数の基板９に描画すべきパターンや各種描画条件を指示するジョブデータが作成される（図５：ステップＳ２）。以下、描画装置１においてジョブデータを作成する処理について図７を参照して説明する。
【００４３】
本実施の形態におけるジョブデータの作成では、パターンの設計者とは異なる者が作業者である（もちろん、パターンの設計者が作業者であってもよい。）。作業者がメインコンピュータ６０において所定のプログラムを実行すると、図４のジョブ作成部６００の表示制御部６０１により、図８に示すジョブ作成ウィンドウ７１がメインコンピュータ６０のディスプレイ６０２に表示される。ジョブ作成ウィンドウ７１内には基板選択部７１１が設けられる。本実施の形態では、カセット９０内に２５個の基板の収容位置が設定されており、基板選択部７１１では１ないし２５の番号によりカセット９０内の収容位置が特定可能である。
【００４４】
続いて、基板選択部７１１における所望の番号が、作業者により入力部を介して選択される（ステップＳ２１）。本実施の形態では、所望の番号がマウスのクリックにより選択される。以下の説明では、マウスのクリックによる選択を、単に「クリック」という。もちろん、キーボード等による入力により選択が行われてもよい。基板選択部７１１における番号の選択により、以下の処理にて、当該番号の収容位置（以下、「対象収容位置」という。）に配置される基板９に描画すべきパターンの登録、および、当該基板９への描画時における各種描画条件（例えば、描画時の光量やアライメントマークの指定等）を示すレシピの登録が可能となる。なお、ステップＳ２１の処理において複数の番号が選択されてもよく、この場合、当該複数の番号の収容位置の集合を対象収容位置として、以下の処理が行われる。
【００４５】
対象収容位置が選択されると、ジョブ作成ウィンドウ７１内の描画データ選択ボタン７１２をクリックすることにより、図９に示すように、描画データ選択ウィンドウ７２がディスプレイ６０２に表示される。描画データ選択ウィンドウ７２のファイル名表示領域７２１では、第２コンピュータ８２の記憶部８２１に記憶される全ての描画データセット５１における描画ラスタデータファイル５１１のファイル名（図９中にて符号７２６を付す矢印にて示す。）が表示される。このとき、これらの描画データセット５１に含まれる部分ラスタデータファイル５１２、サムネイルデータファイル５１３および補助全体画像データファイル５１４が、メインコンピュータ６０に転送されてメインコンピュータ６０のメモリにて記憶される。また、描画データ選択ウィンドウ７２において、描画ラスタデータファイル５１１の各ファイル名７２６の右側には、当該描画ラスタデータファイル５１１と同じ描画データセット５１に含まれるサムネイルデータファイル５１３が示すサムネイル７２７が表示される。なお、ファイル名表示領域７２１において各描画ラスタデータファイル５１１の作成日等の他の情報が表示されてよい。
【００４６】
描画データ選択ウィンドウ７２において、一の描画ラスタデータファイル５１１のファイル名７２６を選択した後、画像表示ボタン７２４をクリックすることにより、図１０に示すように、全体画像ウィンドウ７３がディスプレイ６０２に表示される（ステップＳ２２，Ｓ２３）。全体画像ウィンドウ７３の画像表示領域７３１には、当該描画ラスタデータファイル５１１と同じ描画データセット５１に含まれる補助全体画像データファイル５１４が示す画像（すなわち、補助全体画像）が表示され、当該画像はパターンの全体を示す。全体画像ウィンドウ７３では、拡大ボタン７３２および縮小ボタン７３３が設けられており、画像表示領域７３１に表示される画像の拡大および縮小が可能である。また、横方向移動ボタン群７３４および縦方向移動ボタン群７３５も設けられており、画像表示領域７３１に表示されるパターン上の領域の位置を変更することが可能である。なお、「閉じる」と記載された終了ボタン７３６をクリックすると、全体画像ウィンドウ７３が閉じられる。
【００４７】
一方、図９の描画データ選択ウィンドウ７２において、一の描画ラスタデータファイル５１１のファイル名７２６を選択した後、展開ボタン７２２をクリックすることにより、当該ファイル名７２６の下方に、複数の部分ラスタデータファイル５１２のファイル名７２８（１つのファイル名に符号７２８ａを付している。）が表示される。描画ラスタデータファイル５１１のファイル名７２６の前には黒塗りの三角または白塗りの三角が表示されており、黒塗りの三角は、当該描画ラスタデータファイル５１１と同じ描画データセット５１に含まれる部分ラスタデータファイル５１２のファイル名７２８がファイル名表示領域７２１に表示されていない状態（すなわち、折りたたまれた状態）を示す。また、白塗りの三角は、当該描画ラスタデータファイル５１１と同じ描画データセット５１に含まれる部分ラスタデータファイル５１２のファイル名７２８がファイル名表示領域７２１に表示されている状態（すなわち、展開されている状態）を示す。
【００４８】
また、部分ラスタデータファイル５１２のファイル名７２８が表示されている状態において、折りたたみボタン７２３をクリックすることにより、部分ラスタデータファイル５１２のファイル名７２８が表示されていない状態に変更することが可能である。なお、図９では、一部の部分ラスタデータファイル５１２のファイル名７２８の前に、描画ラスタデータファイル５１１のファイル名７２６と同様に、黒塗りの三角または白塗りの三角が表示されている。また、白塗りの三角が表示された部分ラスタデータファイル５１２のファイル名７２８ａの下には、他の部分ラスタデータファイル５１２のファイル名７２９が表示されているが、当該他の部分ラスタデータファイル５１２の内容については後述する。
【００４９】
描画データ選択ウィンドウ７２において、一の部分ラスタデータファイル５１２のファイル名７２８を選択した後、画像表示ボタン７２４をクリックすることにより、図１１に示すように、特徴領域ウィンドウ７４がディスプレイ６０２に表示される（ステップＳ２４，Ｓ２５）。特徴領域ウィンドウ７４の画像表示領域７４１には、当該部分ラスタデータファイル５１２が示す画像が表示され、当該画像は特徴領域を示す。既述のように、部分ラスタデータファイル５１２が示す画像では、参照情報が付加されており、図１１では、特徴領域における注目すべき部位を指示するマークである円Ａ１が表示される。
【００５０】
描画装置１では、画像表示領域７４１の画像が作業者により視認される。具体的には、対象収容位置に配置される基板９に描画すべきパターンの特徴領域を示す画像がプリント紙にプリントされて予め準備されており、プリント紙上の当該画像と画像表示領域７４１の画像とが比較される。これにより、当該部分ラスタデータファイル５１２と同じ描画データセット５１に含まれる描画ラスタデータファイル５１１が、対象収容位置に配置される基板９に描画すべきパターンを示すものであるか否かの確認が行われる。ここでは、図９中のファイル名「画像1-4-A-1.0.2」の部分ラスタデータファイル５１２の画像がディスプレイ６０２に表示され、ファイル名「Layer_1_AAA」の描画ラスタデータファイル５１１が、所望のパターンを示すものであるか否かが確認される。
【００５１】
実際には、図９の描画データ選択ウィンドウ７２において、複数の部分ラスタデータファイル５１２のファイル名７２８を選択した後、画像表示ボタン７２４をクリックすることにより、複数の特徴領域を示す複数の特徴領域ウィンドウ７４をディスプレイ６０２に同時に表示することが可能である。したがって、同一の描画ラスタデータファイル５１１に対応する複数の特徴領域を表示することにより、当該描画ラスタデータファイル５１１が示すパターンの確認を確実に行うことが可能となる。
【００５２】
特徴領域ウィンドウ７４では、全体画像ウィンドウ７３と同様に、拡大ボタン７４２および縮小ボタン７４３が設けられており、画像表示領域７４１に表示される画像の拡大および縮小が可能である。また、横方向移動ボタン群７４４および縦方向移動ボタン群７４５も設けられており、画像表示領域７４１に表示されるパターン上の領域の位置を変更することが可能である。なお、「閉じる」と記載された終了ボタン７４６をクリックすると、特徴領域ウィンドウ７４が閉じられる。
【００５３】
以上の作業により、または、必要に応じて他の描画ラスタデータファイル５１１に対応する補助全体画像の表示（ステップＳ２２，Ｓ２３）、もしくは、特徴領域の表示（ステップＳ２４，Ｓ２５）を繰り返すことにより（ステップＳ２６）、対象収容位置に配置される基板９に描画すべきパターンを示す描画ラスタデータファイル５１１が特定される。続いて、図９の描画データ選択ウィンドウ７２において、当該描画ラスタデータファイル５１１のファイル名７２６が選択される。そして、決定ボタン７２５をクリックすることにより、図８のジョブ作成ウィンドウ７１において、描画データ登録部７１３に、当該描画ラスタデータファイル５１１のファイル名が表示されて当該描画ラスタデータファイル５１１が登録される（ステップＳ２６，Ｓ２７）。
【００５４】
また、ジョブ作成ウィンドウ７１内のレシピ選択ボタン７１４をクリックすることにより、予め登録されている複数のレシピデータファイルのファイル名を示すウィンドウが表示され、作業者により複数のレシピデータファイルから１つのレシピデータファイルが選択される。これにより、図８のジョブ作成ウィンドウ７１において、レシピ登録部７１５に、当該レシピデータファイルのファイル名が表示されて当該レシピデータファイルが登録される（ステップＳ２８）。既述のように、レシピデータファイルは、描画部１００における各種描画条件を示すものであり、以上の処理により、対象収容位置に配置される基板９に描画すべきパターンの登録、および、当該基板９への描画時における描画条件を示すレシピの登録が完了する。なお、レシピデータファイルの登録が、描画ラスタデータファイル５１１の登録よりも先に行われてもよい。
【００５５】
描画装置１では、カセット９０における全ての収容位置に対する描画ラスタデータファイル５１１の登録、および、レシピデータファイルの登録が完了するまで、上記ステップＳ２１〜Ｓ２８の処理が繰り返される（ステップＳ２９）。これにより、ジョブデータが作成される。なお、上記ジョブデータの作成において、基板９が配置されない収容位置が存在する場合等には、当該収容位置を無視することを指示する入力が行われる。
【００５６】
以上の処理によりジョブデータが作成されると、ジョブデータに従ってパターンが描画される（図５：ステップＳ３）。図２および図３の描画部１００におけるパターンの描画では、カセット９０内の最初の処理対象の基板９が搬送装置１１０によりカセット９０から搬出され、ステージ１０に載置される。続いて、アライメントユニット３６１の出力に基づいて、回転機構２１が制御され、基板９へのパターン描画に適した向きに基板９がアライメント（位置合わせ）される。
【００５７】
また、ジョブデータに従ってメインコンピュータ６０が第２コンピュータ８２にデータ要求信号を出力することにより、第２コンピュータ８２において、最初の基板９に対して登録された描画ラスタデータファイル５１１から、基板９上の１ストライプ（１スワス）分の描画データであるストライプデータが生成される。ストライプデータは、光学ユニット４０の空間光変調器およびステージ移動機構２０を制御するためのデータであり、第２コンピュータ８２からメインコンピュータ６０に入力される。描画部１００では、ストライプデータおよび基板９に対して登録されたレシピデータファイルに従って、光学ユニット４０の光学ヘッド４２およびステージ移動機構２０が制御され、パターン描画が行われる。
【００５８】
具体的には、主走査機構２５により基板９が、その主面に平行な主走査方向への移動を開始し、基板９の光学ユニット４０に対する相対移動に並行して、２つの光学ヘッド４２からの空間変調された光の基板９への照射が、２つのストライプに対応する領域（以下、「ストライプ領域」という。）の先頭から開始される。これにより、パターンの描画が開始される。ストライプ領域の最後まで描画が行われると、光学ヘッド４２からの光の出射が一時的に停止され、基板９の主走査方向への移動も停止され、副走査機構２３により基板９が主走査方向に垂直かつ基板９の主面に平行な副走査方向にストライプ領域の幅だけ移動する。そして、基板９が前回の主走査とは逆方向に移動しつつ２つの光学ヘッド４２により２つのストライプ領域への描画が行われる。基板９の副走査方向への移動および主走査方向への移動が繰り返されて全ストライプの描画が完了すると、搬送装置１１０により基板９が搬出され、カセット９０に収納される。各光学ヘッド４２は、基板９の半分の描画を担う。
【００５９】
以上のようにして最初の基板９へのパターン描画が完了すると、上記と同様にして、次の処理対象の基板９に対してパターンが描画される。描画装置１では、上記処理が繰り返され、カセット９０内の処理対象の全ての基板９に対してパターンの描画が行われる。
【００６０】
ところで、例えば、基板９上に形成されたパターン要素が所望の線幅とならない場合や、パターン要素の角部が所望の形状とならない場合等には、パターンを更新（修正）して描画に用いられるデータ（描画ラスタデータ）を再度生成する必要がある。このように、一の描画データセット５１（以下、「対象描画データセット５１」という。）に対応するパターンを更新する必要がある場合には、外部のコンピュータにおいて当該パターンを更新したパターンを示すベクトルデータが作成され、第１コンピュータ８１に入力される。データ変換部８１１では、更新済みのパターンの全体を示すベクトルデータをラスタ変換して新たな描画ラスタデータ（以下、更新前のパターンの全体を示す描画ラスタデータと区別する場合に、「更新済み描画ラスタデータ」という。）が生成される。
【００６１】
また、データ変換部８１１では、対象描画データセット５１に含まれる各部分ラスタデータファイル５１２（すなわち、更新前のパターンにおける部分ラスタデータファイル５１２であり、以下、「更新前の部分ラスタデータファイル５１２」ともいう。）のファイル名を参照することにより、当該部分ラスタデータファイル５１２が示す特徴領域の座標が取得可能である。これにより、更新済み描画ラスタデータの生成時に、更新済みのパターンにおける、当該部分ラスタデータと同じ特徴領域を示す部分ラスタデータ（以下、更新前の部分ラスタデータと区別する場合に、「更新済み部分ラスタデータ」という。）も生成される（図６：ステップＳ１１）。このとき、パターンの改訂番号（版数）が、更新済み部分ラスタデータファイルのファイル名に含められる。なお、各部分ラスタデータファイル５１２が示す特徴領域の位置情報が第１コンピュータ８１において別途記憶され、当該位置情報を用いて更新済み部分ラスタデータが生成されてもよい。また、新規の特徴領域を示す部分ラスタデータが生成されてよい。
【００６２】
続いて、必要に応じて、更新済み部分ラスタデータが示す画像に参照情報が付加される（ステップＳ１２）。そして、第２コンピュータ８２の記憶部８２１では、対象描画データセット５１において、元の描画ラスタデータが更新済み描画ラスタデータに置き換えられて更新される。また、更新前の部分ラスタデータおよび更新済み部分ラスタデータの双方が、対象描画データセット５１に含められる（ステップＳ１３）。
【００６３】
図７のステップＳ２４，Ｓ２５において、図９の描画データ選択ウィンドウ７２では、更新済み部分ラスタデータファイルのファイル名７２８ａが表示されており、当該更新済み部分ラスタデータファイルのファイル名７２８ａを選択した後、展開ボタン７２２をクリックすることにより、当該ファイル名７２８ａの下方に、更新前の部分ラスタデータファイルのファイル名７２９が表示される（図９では既に表示されている。）。更新前の部分ラスタデータファイルのファイル名７２９を選択した後、画像表示ボタン７２４をクリックすると、図１１と同様の特徴領域ウィンドウ７４がディスプレイ６０２に表示される。特徴領域ウィンドウ７４の画像表示領域７４１には、当該更新前の部分ラスタデータファイルが示す画像が表示され、当該画像は更新前のパターンにおける特徴領域を示す。したがって、更新前の部分ラスタデータファイルに対応する特徴領域ウィンドウ７４、および、更新済み部分ラスタデータファイルに対応する特徴領域ウィンドウ７４を表示することにより、更新前後のパターン（例えば、線幅の変更前後）における特徴領域を比較することが可能となる。
【００６４】
ここで、比較例の描画装置について述べる。比較例の描画装置では、部分ラスタデータファイルが生成されず、図５のステップＳ２のジョブデータの作成では、図１１に示す特徴領域ウィンドウ７４のディスプレイへの表示が不能である。したがって、選択した描画ラスタデータファイル５１１が示すパターンを作業者が確認する際には、図１０に示す全体画像ウィンドウ７３をディスプレイに表示し、画像表示領域７３１に表示される画像の拡大や縮小、あるいは、移動を何度も繰り返して確認すべき特徴領域を見つけ出す必要がある。したがって、確認作業に長時間を要してしまう。
【００６５】
これに対し、描画装置１では、各パターンの全体を示すベクトルデータをラスタ変換して描画ラスタデータを生成する際に、当該パターンにおけるパターン識別用の特徴領域を示すデータである部分ラスタデータが生成される。そして、描画すべきパターンの選択（すなわち、描画ラスタデータの選択）を行う際に、複数のパターンのうち、選択されたパターンを示す描画ラスタデータと同じ描画データセット５１に含まれる部分ラスタデータに基づいて、当該選択されたパターンにおける特徴領域を示す画像がディスプレイ６０２に表示される。これにより、選択されたパターンにおける特徴領域を示す画像を迅速に、かつ、容易に表示することができ、作業者において当該パターンの正誤の確認（描画すべきパターンであるか否かの確認）を効率よく行うことができる。また、パターンの設計者等が、実際のパターン描画において選択すべき描画ラスタデータのファイル名と、当該描画ラスタデータと同じ描画データセット５１に含まれる部分ラスタデータが示す画像とをプリントした指示書を準備することにより、描画すべきパターンについての情報を有しない作業者であっても、特徴領域を示す画像を表示しつつ当該指示書を参照してパターンの正誤の確認を確実に行うことができる。その結果、誤ったファイル名を選択して誤ったパターンが基板９に描画されることを防止することができる。
【００６６】
また、描画データセット５１における部分ラスタデータとして、特徴領域を示す画像に参照情報を付加したものを示すラスタデータが生成されることにより、特徴領域を示すとともに参照情報が付加された画像を迅速に表示することができ、誤ったパターンが描画されることをさらに防止することができる。
【００６７】
さらに、一の描画データセット５１に対応するパターンを更新する際に、更新済みのパターンにおける特徴領域を示す更新済み部分ラスタデータが生成され、ジョブデータの作成において更新済みのパターンが選択された際に、更新前の部分ラスタデータが示す画像および更新済み部分ラスタデータが示す画像がディスプレイ６０２に表示可能である。これにより、パターンの更新前後における特徴領域を示す画像を容易に表示することができ、描画すべきパターンの確認をより確実に行うことができる。
【００６８】
描画装置１では、各描画データセット５１が、複数の特徴領域のそれぞれを示す部分ラスタデータを含み、各描画データセット５１に対応するパターンが選択された際に、当該パターンにおける複数の特徴領域を示す複数の画像がディスプレイ６０２に個別に表示可能である。その結果、作業者において各パターンにおける複数の特徴領域を容易に視認することができ、描画すべきパターンであるか否かの確認をより確実に行うことができる。
【００６９】
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、様々な変形が可能である。
【００７０】
上記実施の形態では、データ変換部８１１において特徴領域を示すラスタデータである部分ラスタデータが生成されるが、パターンの全体を示すベクトルデータから、特徴領域を示すベクトルデータである部分ベクトルデータが生成されてもよい。この場合、ジョブ作成部６００の表示制御部６０１により、選択されたパターンを示す描画ラスタデータと同じ描画データセット５１に含まれる部分ベクトルデータに基づいて、当該パターンにおける特徴領域を示す画像がディスプレイ６０２に表示される。部分ベクトルデータのデータサイズは十分に小さいため、選択されたパターンにおける特徴領域を示す画像を迅速に表示することができる。
【００７１】
また、データ変換部８１１において、部分ラスタデータに代えて特徴領域の位置データが生成されてもよい。この場合、表示制御部６０１では、選択されたパターンを示す描画ラスタデータと同じ描画データセット５１に含まれる位置データに基づいて、当該描画ラスタデータから特徴領域を示す部分が抽出され、当該パターンにおける特徴領域を示す画像がディスプレイ６０２に迅速に表示される。以上のように、描画装置１では、各パターンを示す描画ラスタデータの生成時に、当該パターンにおけるパターン識別用の特徴領域の位置データ、または、当該特徴領域を示すデータである部分データ（すなわち、部分ラスタデータまたは部分ベクトルデータ）が生成される。そして、記憶部８２１において、描画ラスタデータと、当該位置データまたは当該部分データとを含む集合を描画データセット５１として記憶することにより、選択されたパターン（すなわち、選択された描画ラスタデータ）における特徴領域を示す画像を、位置データまたは部分データに基づいて迅速に、かつ、容易に表示することができる。もちろん、描画データセット５１において複数の特徴領域の位置データが含まれてよい。
【００７２】
特徴領域を示す画像は、ジョブデータの作成時以外において表示されてよく、例えば、基板９上へのパターン描画の直前において、作成済みのジョブデータの内容を確認する際に、描画データセット５１に含まれる位置データまたは部分データに基づいて、特徴領域を示す画像がディスプレイに表示されてよい。
【００７３】
また、描画データセット５１が、第２コンピュータ８２またはメインコンピュータ６０にて生成されてよく、複数の描画データセット５１が、第１コンピュータ８１またはメインコンピュータ６０の記憶部にて記憶されてよい。また、特徴領域の位置データまたは特徴領域を示す部分データに基づく特徴領域の表示は、第１コンピュータ８１または第２コンピュータ８２の表示部にて行われてもよい。さらに、描画データセット５１の生成および記憶、並びに、特徴領域の表示は、１つまたは２つのコンピュータ、あるいは、４個以上のコンピュータにより実現されてもよく、これらの処理の一部または全部が、専用の電気的回路を用いて実現されてもよい。
【００７４】
描画部１００により描画ラスタデータに従ってパターンが描画される対象物は、基板９以外に、感光材料の層が形成されたフィルム等であってもよい。また、描画部１００における光学ヘッドは変調された光を出射するものであるならば、いかなる構成であってもよい。また、描画部は電子線等によりパターンを描画するものであってもよい。
【００７５】
上記実施の形態および各変形例における構成は、相互に矛盾しない限り適宜組み合わされてよい。
【符号の説明】
【００７６】
１ 描画装置
９ 基板
５１ 描画データセット
１００ 描画部
５１１ 描画ラスタデータファイル
５１２ 部分ラスタデータファイル
６０１ 表示制御部
６０２ ディスプレイ
７４１ 画像表示領域
８１１ データ変換部
８２１ 記憶部
Ａ１ 円
Ｓ３，Ｓ１１，Ｓ１３，Ｓ２５ ステップ
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パターンを描画する描画装置であって、
各パターンの全体を示すベクトルデータをラスタ変換して描画ラスタデータを生成するとともに、前記描画ラスタデータの生成時に前記各パターンにおけるパターン識別用の特徴領域の位置データ、または、前記特徴領域を示すデータである部分データを生成するデータ変換部と、
前記描画ラスタデータと、前記位置データまたは前記部分データとを含む集合を描画データセットとして、複数のパターンにそれぞれ対応する複数の描画データセットを記憶する記憶部と、
前記複数のパターンのうち、選択されたパターンを示す描画ラスタデータと同じ描画データセットに含まれる位置データまたは部分データに基づいて、前記選択されたパターンにおける特徴領域を示す画像を表示部に表示する表示制御部と、
描画ラスタデータに従って対象物上にパターンを描画する描画部と、
を備えることを特徴とする描画装置。
【請求項２】
請求項１に記載の描画装置であって、
一の描画データセットにおける部分データが、特徴領域を示す画像に参照情報を付加したものを示すラスタデータであることを特徴とする描画装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の描画装置であって、
一の描画データセットが、描画ラスタデータと部分ラスタデータとを含み、
前記描画データセットに対応するパターンを更新する際に、前記データ変換部が、更新済みのパターンの全体を示すベクトルデータをラスタ変換して更新済み描画ラスタデータを生成するとともに、前記更新済み描画ラスタデータの生成時に、前記更新済みのパターンにおける、前記部分ラスタデータと同じ特徴領域を示す更新済み部分ラスタデータを生成し、
前記描画データセットにおいて、前記描画ラスタデータが前記更新済み描画ラスタデータに更新され、前記描画データセットが前記部分ラスタデータおよび前記更新済み部分ラスタデータの双方を含み、
前記更新済みのパターンが選択された際に、前記部分ラスタデータが示す画像および前記更新済み部分ラスタデータが示す画像が、前記表示制御部により前記表示部に表示可能であることを特徴とする描画装置。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかに記載の描画装置であって、
各描画データセットが、複数の特徴領域の位置データ、または、前記複数の特徴領域のそれぞれを示す部分ラスタデータを含み、
前記各描画データセットに対応するパターンが選択された際に、前記パターンにおける複数の特徴領域を示す複数の画像が、前記表示制御部により前記表示部に個別に表示可能であることを特徴とする描画装置。
【請求項５】
パターンを描画する描画方法であって、
ａ）各パターンの全体を示すベクトルデータをラスタ変換して描画ラスタデータを生成するとともに、前記描画ラスタデータの生成時に前記各パターンにおけるパターン識別用の特徴領域の位置データ、または、前記特徴領域を示すデータである部分データを生成する工程と、
ｂ）前記描画ラスタデータと、前記位置データまたは前記部分データとを含む集合を描画データセットとして、複数のパターンにそれぞれ対応する複数の描画データセットを記憶部にて記憶する工程と、
ｃ）前記複数のパターンのうち、選択されたパターンを示す描画ラスタデータと同じ描画データセットに含まれる位置データまたは部分データに基づいて、前記選択されたパターンにおける特徴領域を示す画像を表示部に表示する工程と、
ｄ）描画ラスタデータに従って対象物上にパターンを描画する工程と、
を備えることを特徴とする描画方法。
【請求項６】
請求項５に記載の描画方法であって、
一の描画データセットにおける部分データが、特徴領域を示す画像に参照情報を付加したものを示すラスタデータであることを特徴とする描画方法。
【請求項７】
請求項５または６に記載の描画方法であって、
一の描画データセットが、描画ラスタデータと部分ラスタデータとを含み、
前記描画データセットに対応するパターンを更新する際に、更新済みのパターンの全体を示すベクトルデータをラスタ変換して更新済み描画ラスタデータが生成されるとともに、前記更新済み描画ラスタデータの生成時に、前記更新済みのパターンにおける、前記部分ラスタデータと同じ特徴領域を示す更新済み部分ラスタデータが生成され、
前記描画データセットにおいて、前記描画ラスタデータが前記更新済み描画ラスタデータに更新され、前記描画データセットが前記部分ラスタデータおよび前記更新済み部分ラスタデータの双方を含み、
前記更新済みのパターンが選択された際に、前記部分ラスタデータが示す画像および前記更新済み部分ラスタデータが示す画像が、前記表示部に表示可能であることを特徴とする描画方法。
【請求項８】
請求項５ないし７のいずれかに記載の描画方法であって、
各描画データセットが、複数の特徴領域の位置データ、または、前記複数の特徴領域のそれぞれを示す部分ラスタデータを含み、
前記各描画データセットに対応するパターンが選択された際に、前記パターンにおける複数の特徴領域を示す複数の画像が、前記表示部に個別に表示可能であることを特徴とする描画方法。
【請求項１】
パターンを描画する描画装置であって、
各パターンの全体を示すベクトルデータをラスタ変換して描画ラスタデータを生成するとともに、前記描画ラスタデータの生成時に前記各パターンにおけるパターン識別用の特徴領域の位置データ、または、前記特徴領域を示すデータである部分データを生成するデータ変換部と、
前記描画ラスタデータと、前記位置データまたは前記部分データとを含む集合を描画データセットとして、複数のパターンにそれぞれ対応する複数の描画データセットを記憶する記憶部と、
前記複数のパターンのうち、選択されたパターンを示す描画ラスタデータと同じ描画データセットに含まれる位置データまたは部分データに基づいて、前記選択されたパターンにおける特徴領域を示す画像を表示部に表示する表示制御部と、
描画ラスタデータに従って対象物上にパターンを描画する描画部と、
を備えることを特徴とする描画装置。
【請求項２】
請求項１に記載の描画装置であって、
一の描画データセットにおける部分データが、特徴領域を示す画像に参照情報を付加したものを示すラスタデータであることを特徴とする描画装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の描画装置であって、
一の描画データセットが、描画ラスタデータと部分ラスタデータとを含み、
前記描画データセットに対応するパターンを更新する際に、前記データ変換部が、更新済みのパターンの全体を示すベクトルデータをラスタ変換して更新済み描画ラスタデータを生成するとともに、前記更新済み描画ラスタデータの生成時に、前記更新済みのパターンにおける、前記部分ラスタデータと同じ特徴領域を示す更新済み部分ラスタデータを生成し、
前記描画データセットにおいて、前記描画ラスタデータが前記更新済み描画ラスタデータに更新され、前記描画データセットが前記部分ラスタデータおよび前記更新済み部分ラスタデータの双方を含み、
前記更新済みのパターンが選択された際に、前記部分ラスタデータが示す画像および前記更新済み部分ラスタデータが示す画像が、前記表示制御部により前記表示部に表示可能であることを特徴とする描画装置。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかに記載の描画装置であって、
各描画データセットが、複数の特徴領域の位置データ、または、前記複数の特徴領域のそれぞれを示す部分ラスタデータを含み、
前記各描画データセットに対応するパターンが選択された際に、前記パターンにおける複数の特徴領域を示す複数の画像が、前記表示制御部により前記表示部に個別に表示可能であることを特徴とする描画装置。
【請求項５】
パターンを描画する描画方法であって、
ａ）各パターンの全体を示すベクトルデータをラスタ変換して描画ラスタデータを生成するとともに、前記描画ラスタデータの生成時に前記各パターンにおけるパターン識別用の特徴領域の位置データ、または、前記特徴領域を示すデータである部分データを生成する工程と、
ｂ）前記描画ラスタデータと、前記位置データまたは前記部分データとを含む集合を描画データセットとして、複数のパターンにそれぞれ対応する複数の描画データセットを記憶部にて記憶する工程と、
ｃ）前記複数のパターンのうち、選択されたパターンを示す描画ラスタデータと同じ描画データセットに含まれる位置データまたは部分データに基づいて、前記選択されたパターンにおける特徴領域を示す画像を表示部に表示する工程と、
ｄ）描画ラスタデータに従って対象物上にパターンを描画する工程と、
を備えることを特徴とする描画方法。
【請求項６】
請求項５に記載の描画方法であって、
一の描画データセットにおける部分データが、特徴領域を示す画像に参照情報を付加したものを示すラスタデータであることを特徴とする描画方法。
【請求項７】
請求項５または６に記載の描画方法であって、
一の描画データセットが、描画ラスタデータと部分ラスタデータとを含み、
前記描画データセットに対応するパターンを更新する際に、更新済みのパターンの全体を示すベクトルデータをラスタ変換して更新済み描画ラスタデータが生成されるとともに、前記更新済み描画ラスタデータの生成時に、前記更新済みのパターンにおける、前記部分ラスタデータと同じ特徴領域を示す更新済み部分ラスタデータが生成され、
前記描画データセットにおいて、前記描画ラスタデータが前記更新済み描画ラスタデータに更新され、前記描画データセットが前記部分ラスタデータおよび前記更新済み部分ラスタデータの双方を含み、
前記更新済みのパターンが選択された際に、前記部分ラスタデータが示す画像および前記更新済み部分ラスタデータが示す画像が、前記表示部に表示可能であることを特徴とする描画方法。
【請求項８】
請求項５ないし７のいずれかに記載の描画方法であって、
各描画データセットが、複数の特徴領域の位置データ、または、前記複数の特徴領域のそれぞれを示す部分ラスタデータを含み、
前記各描画データセットに対応するパターンが選択された際に、前記パターンにおける複数の特徴領域を示す複数の画像が、前記表示部に個別に表示可能であることを特徴とする描画方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【公開番号】特開２０１３−５７７３１（Ｐ２０１３−５７７３１Ａ）
【公開日】平成２５年３月２８日（２０１３．３．２８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１９４８４８（Ｐ２０１１−１９４８４８）
【出願日】平成２３年９月７日（２０１１．９．７）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年３月２８日（２０１３．３．２８）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年９月７日（２０１１．９．７）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
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