【課題】
本発明の目的は、基板に所定パターンの薄膜を精細に塗布することができる薄膜塗布装置を提供することにある。
【解決手段】
ｘｙｚ直交座標系を定義したとき、ｚ方向に向けて薄膜材料を吐出する複数のノズルがｙ方向に配列するノズル列を含む複数のノズルヘッドと、前記複数のノズルヘッドを保持するホルダと、を含み、前記ホルダは、前記複数のノズルヘッドを取り付ける際に、前記複数のノズルヘッド各々のｙ方向に対する配置位置を規定することができる位置決め機構を有する。 （もっと読む）

【課題】例えば、１つ又は複数の放射ビームの波長の公称値からのずれによってもたらされる１つ又は複数の問題を緩和し又は最小化することができるリソグラフィシステムを提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、複数の放射ビームを基板に投影する投影系を有しており、複数の放射ビームは、第１波長範囲内の放射から形成される第１の１つ又は複数の放射ビームのグループと、第１波長範囲と異なる第２波長範囲内の放射から形成される第２の１つ又は複数の放射ビームのグループと、を備える。また、本装置は、第１のグループの１つ又は複数の放射ビームが第２のグループの１つ又は複数の放射ビームと異なる角度で分散素子に入射し、かつ分散素子から出力される第１及び第２のグループの１つ又は複数の放射ビームが実質的に平行であるように構成されている分散素子を備える。 （もっと読む）

【課題】レーザ描画装置を用いて被描画基板上の感光性レジストに露光し、所望のパターンをレーザ描画するパターン描画方法において、レーザの消費電力を削減した省エネルギーのパターン描画方法及びパターン描画プログラムを提供する。
【解決手段】レーザ描画装置を用いて複数の被描画基板上の感光性レジストに順次露光し、所望のパターンをレーザ描画するパターン描画方法であって、前記被描画基板にレーザ描画をしていない待機中は、前記レーザ描画装置のレーザの励起電流値を、前記レーザの出力調整が可能な範囲内での許容最低値に下げて消費電力を低減させ、前記被描画基板にレーザ描画をするときに、前記レーザの励起電流値を所定の電流値に立ち上げてから所望のパターンをレーザ描画することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＲＩＰパラメータを設定する都度、当該ＲＩＰパラメータに基づくＲＩＰ展開によって生成された図形の描画に供される画像データを、描画処理の実行前に、容易に確認できる技術を提供することを目的とする。
【解決手段】画像処理装置２は、設計データＤ０が表す所定の処理領域ＲＴを設定する処理領域設定部２５と、指定パラメータＰａ１用いて、処理領域ＲＴの表示倍率に応じた解像度で、処理領域に対応する設計データＤ０をＲＩＰ展開する表示用ＲＩＰ展開部２６とを備える。表示用ＲＩＰ展開部２６におけるＲＩＰ展開は、直接描画のための描画用ＲＩＰ展開よりもデータ処理量を抑制した表示用ＲＩＰ展開であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】描画処理の実行前に、互いに異なる２つのＲＩＰパラメータ各々に基づくＲＩＰ展開によって生成された、図形の描画に供される２つの画像データの差分を見落とすことなく速やかに確認できる技術を提供する。
【解決手段】画像処理装置２は、設計データＤ０が表す所定の処理領域を設定する処理領域設定部２５と、指定パラメータＰａ１と基準パラメータＰａ２とのそれぞれを用いて、処理領域の表示倍率に応じた解像度で、処理領域に対応する設計データＤ０をＲＩＰ展開する表示用ＲＩＰ展開部２６とを備える。指定パラメータＰａ１に基づくＲＩＰ展開によって得られた指定画像Ｄ２１と、基準パラメータＰａ２に基づくＲＩＰ展開によって得られた基準画像Ｄ２２との差分Ｓが抽出され、その差分Ｓを視覚的に強調した態様で処理領域表示画面８１に指定画像Ｄ２１と基準画像Ｄ２２とが表示される。 （もっと読む）

【課題】基板表面に対して光ビームを照射して描画する描画装置およびその焦点調整方法において、収束光学系の経時変化に対応することができ、しかも描画時の基板表面に収束光学系の焦点位置を適正に調整することのできる技術を提供する。
【解決手段】観察光学系８０のダミー基板８０１と観察用カメラ８０３とを一体的に昇降可能とする。ダミー基板８０１の上面８０１ａをステージ１０上の基板Ｗの表面Ｓと略同一の高さに設定し、観察用カメラ８０３により観察されるダミー基板上面８０１ａでの描画光学像が最も小さくなるように、光学ヘッド４０ａのフォーカシングレンズ４３１の位置を調整する。このときの光学ヘッド４３１とダミー基板上面８０１ａとの距離を基準距離として、オートフォーカス部４４１，４４２によるオートフォーカス動作を実行する。 （もっと読む）

【課題】選択されたパターンにおける特徴領域を示す画像を迅速に、かつ、容易に表示する。
【解決手段】データ変換部８１１では、各パターンの全体を示すベクトルデータをラスタ変換して描画ラスタデータが生成されるとともに、描画ラスタデータの生成時に当該パターンにおけるパターン識別用の特徴領域を示すラスタデータである部分ラスタデータが生成される。描画ラスタデータおよび部分ラスタデータを含む集合を描画データセット５１として、複数のパターンにそれぞれ対応する複数の描画データセット５１が記憶部８２１にて記憶される。表示制御部６０１は、複数のパターンのうち、選択されたパターンを示す描画ラスタデータと同じ描画データセット５１に含まれる部分ラスタデータに基づいて、当該パターンにおける特徴領域を示す画像を迅速に、かつ、容易にディスプレイ６０２に表示する。 （もっと読む）

【課題】チップファースト型のＦＯ−ＷＬＰにおいて、再配線層を適切に形成できる技術を提供する。
【解決手段】描画装置１は、複数の半導体チップ９１が間隔をあけて配列された疑似ウェハ９を載置するステージ１１と、ステージ１１に載置された疑似ウェハ９を撮像する撮像ヘッド１４と、再配線層の回路パターンを記述した描画データ８を記憶する記憶装置１６４と、撮像ヘッド１４が取得した画像データに基づいて疑似ウェハに配置された各半導体チップ９１の理想位置からの位置ずれ量を特定し、描画データ８に記述された回路パターンを、当該回路パターンが接続対象とする端子パッドが配置されている半導体チップ９１の位置ずれ量に基づいて補正する補正処理部２４と、ステージ１１に載置された疑似ウェハ９に対して光を照射して、疑似ウェハ９に補正後の回路パターンを描画する光学ヘッド１５とを備える。 （もっと読む）

【課題】露光装置において、光源の寿命を落とすことなく、適切な光量調整を行なう。
【解決手段】光量調整を行なう場合、ＤＭＤの有効ミラーをＯＮ状態にして投影光の光量を測定し、測定された光量と目標光量との比である使用率を定める。そして、使用率に基づいて、不使用ミラーの配列を示す調光フィルタデータを生成する。このとき、不使用ミラーが略一様な分布で、かつ不規則に並ぶようにする。ＤＭＤを利用した光量調整を行なっている間、放電ランプの出力が徐々に低下し、測定光量が目標光量に達しない状況になると、測定光量が目標光量より所定量多い基準光量に達するまで放電ランプの出力をアップする。 （もっと読む）

【課題】光ビーム照射装置から照射される光ビームの走査方向と直交する方向の強度分布を補正して、パターンの高低差を抑制する。
【解決手段】光ビーム照射装置２０からの光ビームにより基板１を走査して、基板１にパターンを描画する。描画制御部７１は、パターンを描画するための描画データと、補正用パターンを描画するための補正用データとを、光ビーム照射装置２０の駆動回路（ＤＭＤ駆動回路２７）へ供給して、走査方向と直交する方向の幅又は位置が走査方向において変化する補正用パターンを、描画するパターンの走査方向に重ねて描画させる。 （もっと読む）

【課題】アナモルフィック光学系を利用して低輝度の変調光場を集中させることにより、高い合計光強度がライン画像の全体長さに沿って同時に発生され、これにより、あらゆるドット様ピクセル画像が同時に発生される単一パス高解像度高速印刷用途に使用される画像形成システムを提供する。
【解決手段】アナモルフィック光学系１３０を用いて画像形成面１６２上へ二次元画像の略一次元ライン画像を発生させるために利用される単純化された単一パス画像形成システム１００において、システム１００はさらに、均質光発生器１１０と、均質光発生器１１０から受信される均質光１１８Ａを変調するようにコントローラ１８０により制御される空間光変調器１２０と、変調器１２０により発生される変調光場１１９Ｂを画像化しかつ集中させ、かつ画像形成面１６２上に略一次元ライン画像ＳＬを投影させるように位置合わせされるアナモルフィック光学系１３０とを含む。 （もっと読む）

【課題】複数の一次元スキャンライン画像を同時に生成するために使用が可能な高信頼かつ高速の画像形成システムを提供する。
【解決手段】複数行および複数列に配置される光変調素子を有する空間光変調器１２０を用いて二次元均質光場１１９Ａを変調することにより、２つの略一次元スキャンライン画像ＳＬ１、ＳＬ２を同時発生させる。上側の変調素子グループは、第１のスキャンライン画像データグループを用いて構成され、かつ下側の変調素子グループは、第２のスキャンライン画像データグループを用いて構成される。次に、二次元均質光場を空間光変調器上へ方向づけるために、均質光源１１０がパルスされる。二次元変調光場１１９Ｂはアナモルフィック光学系１３０を介して方向づけられ、アナモルフィック光学系は、画像形成面上に２つの平行する一次元スキャンライン画像が同時に形成されるように、変調光を画像形成面上へ画像化し、かつ集中させる。 （もっと読む）

【課題】音響光学変調器で変調される１または複数の光源アレイによるダイレクトイメージングシステムを提供する。
【解決手段】ダイレクトイメージングシステムは、複数本のビームを放射するように構成される複数の光源を有する照明ユニット１００と、複数本のビームを整形して位置または角度をそろえる光学系６０と、位置または角度の一方がそろった複数本のビームを受けるとともに、音響波が音響方向に伝搬する際に、複数本のビームの異なる部分を連続して回折させるように位置決めされる音響光学変調器７０と、音響光学変調器で変調された複数本のビームを用いて、ある走査速度で露光面を走査するように構成される走査素子８０とを備え、走査速度は、複数本のビームの上記異なる部分を非コヒーレントに一体化して単一の露光スポットを得るように選択される。 （もっと読む）

【課題】リアルタイムで高速にラスタデータへ変換できる露光装置を提供する。
【解決手段】重複するデータを削除したベクタデータを格納するベクタデータメモリ１と、シーケンス制御命令に基づき、前記ベクタデータメモリに格納されたベクタデータから所望のベクタデータ情報を読み出すシーケンス制御手段４と、前記シーケンス制御手段にて読み出したベクタデータ情報をラスタデータに変換する座標演算手段５と、前記座標演算手段により変換されたラスタデータに基づき露光するドライバ１１と、を備える露光装置である。 （もっと読む）

【課題】単一パス高解像度高速印刷用途に使用されることが可能な高信頼でしかも高出力である画像形成システムを提供する。
【解決手段】アナモルフィック光学系１３０Ｅは、画像形成面１６２Ｅから湿し溶液を気化するに足るエネルギーを有するライン画像を発生するために、１つまたは複数の円柱／非円柱レンズ１３４Ｅにより全屈折配置に形成される、または円柱／非円柱レンズおよびミラーの組合せによって形成される工程方向サブ光学系１３７Ｅを含む。また、本アナモルフィック光学系は、変調光場１１９Ｂを工程横断方向に画像化するために１つまたは複数の円柱／非円柱レンズ１３８Ｅおよび任意選択の円柱／非円柱視野レンズにより形成される工程横断方向サブ光学系１３３Ｅも含む。本アナモルフィック投影光学系は、ライン画像の複数のピクセル画像の同時的発生を容易にし、１２００ｄｐｉ以上での印刷を容易にする。 （もっと読む）

【課題】マルチビーム露光に伴う周期的なスジムラを低減する。
【解決手段】所定の走査線間隔で記録媒体に向けて複数のビームを同時に照射し、同一走査線を複数回露光走査することにより前記記録媒体の表面を彫刻するマルチビーム露光走査方法において、前記記録媒体の露光表面に残すべき目的の平面形状の領域の周囲領域である第１領域に対しては、隣接ビームの間隔を走査線間隔のＮ倍（Ｎは２以上の整数）とするビーム群を用いたインターレース露光をＮ×ｍ回（ｍは２以上の整数）繰り返し行うことで各走査線をｍ回露光し、前記第１領域の外側である第２領域に対しては、隣接ビームの間隔が走査線間隔と等しいビーム群を用いたノンインターレース露光を行うマルチビーム露光走査方法によって上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】ワークピース上に正確かつ迅速にナノメートル構造パターンを形成する。
【解決手段】複合プラットフォームはベースに据えられ、長ストローク移動ステージ１２と、圧電被駆動マイクロ・ステージ１３とを有する。長ストローク移動ステージは基準セット１４と、駆動装置１５とを有し圧電被駆動マイクロ・ステージは長ストローク移動ステージに接続され、作業プラットフォームを有する。測定フィードバック組立体２０はプラットフォーム組立体１０に堅固に据え付けられ、レーザ干渉計と、反射装置と、信号受信装置とを有する。レーザ作業組立体３０は、プラットフォーム組立体に据えられ、測定フィードバック組立体に電気的に接続され、レーザ直接書き込みヘッド３１と、制御インタフェース装置と、位置決めインタフェース装置３３とを有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高解像度、高精度のレーザー露光装置による継ぎ目のないシームレスなシリンダータイプのホログラム版の製造方法、製造装置を提供することを課題とするものである。
【解決手段】シリンダーロールに直接描画によるホログラム母型版の製造方法に関して絵柄パターンにレーザー光を照射してできる干渉縞や回折格子パターンのデータを、描画データに変換するデータ変換装置と、その描画データをレーザービームとして出力する半導体レーザービーム高解像度描画装置とによって前記描画データをシリンダー上の感光性樹脂塗膜に露光、照射する工程と、その後、現像工程、水洗工程、エッチング工程、水洗工程、メッキ工程そして水洗工程をこの順に行うことによって継ぎ目のないシームレスホログラム母型シリンダー版が製造できるものである。 （もっと読む）

【課題】空間光変調器にて反射された描画に寄与しない光が周辺部材に与える熱的影響を確実に排除して高い描画精度を担保する。
【解決手段】光学ユニットのヘッド部は、レーザ発振器から出射された光を空間変調させて、パターンの描画に寄与させる必要光Ｌ１と、パターンの描画に寄与させない不要光Ｌ０とを、互いに異なる方向に反射させる空間光変調器を備える。光学ユニットは、さらに、必要光Ｌ１を通過させつつ不要光Ｌ０を遮断する第２遮断板２３２と、第２遮断板２３２を冷却する冷却部を備える。第２遮断板２３２における不要光Ｌ０の入射領域を含む対象領域部分には、入射した光を乱反射させる乱反射面４２が形成される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、マスクレス加工装置に関する。
【解決手段】本発明のマスクレス加工装置は、基板に照射される光を提供する照明光学系と、多数の光変換素子で構成され、前記照明光学系から照射された光を加工パターンに応じて選択的に反射または透過するように当該光変換素子を調節して光量を変換する空間光変調器と、前記多数の光変換素子が前記基板の一つのピクセルに対応して集光するように配列され、前記空間光変調器により変換された光が入射されると、当該ピクセルに前記多数の当該光変換素子によって提供された高エネルギーの光を投射する投射光学系と、前記加工パターンの入力を受け、入力された加工パターンに応じて、前記光源から照射された光を前記多数の光変換素子によって選択的に変換されるように前記空間光変調器を制御する制御部と、を含み、デジタルマスクを用いることにより、マスク使用によるコストが低減し、加工しようとする対象のスケール変形に対する能動的な対応が容易であるだけでなく、前記装置の活用度及び利用度が拡大される。 （もっと読む）