直接描画装置用の画像表示装置、およびプログラム
【課題】描画処理の実行前に、互いに異なる２つのＲＩＰパラメータ各々に基づくＲＩＰ展開によって生成された、図形の描画に供される２つの画像データの差分を見落とすことなく速やかに確認できる技術を提供する。
【解決手段】画像処理装置２は、設計データＤ０が表す所定の処理領域を設定する処理領域設定部２５と、指定パラメータＰａ１と基準パラメータＰａ２とのそれぞれを用いて、処理領域の表示倍率に応じた解像度で、処理領域に対応する設計データＤ０をＲＩＰ展開する表示用ＲＩＰ展開部２６とを備える。指定パラメータＰａ１に基づくＲＩＰ展開によって得られた指定画像Ｄ２１と、基準パラメータＰａ２に基づくＲＩＰ展開によって得られた基準画像Ｄ２２との差分Ｓが抽出され、その差分Ｓを視覚的に強調した態様で処理領域表示画面８１に指定画像Ｄ２１と基準画像Ｄ２２とが表示される。
【解決手段】画像処理装置２は、設計データＤ０が表す所定の処理領域を設定する処理領域設定部２５と、指定パラメータＰａ１と基準パラメータＰａ２とのそれぞれを用いて、処理領域の表示倍率に応じた解像度で、処理領域に対応する設計データＤ０をＲＩＰ展開する表示用ＲＩＰ展開部２６とを備える。指定パラメータＰａ１に基づくＲＩＰ展開によって得られた指定画像Ｄ２１と、基準パラメータＰａ２に基づくＲＩＰ展開によって得られた基準画像Ｄ２２との差分Ｓが抽出され、その差分Ｓを視覚的に強調した態様で処理領域表示画面８１に指定画像Ｄ２１と基準画像Ｄ２２とが表示される。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、直接描画装置で用いられる描画データを事前にディスプレイ上に表示する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、フォトマスクを用いずに、ＣＡＤ（Computer Aided Design）などで設計されたベクトル形式の設計データから、半導体基板などの描画対象物に直接パターンを描画する方式（以下において、直接描画方式と称する）が導入されはじめている。
【０００３】
直接描画方式によって、パターンを描画する装置（以下において、「直接描画装置」と称する。）では、ベクトル形式の設計データをＲＩＰ（Raster Image Processing）展開することで生成されるラスターデータを使用して描画が行われる。
【０００４】
このような直接描画方式の場合、ＲＩＰ展開が正しく実行されたか否かについてラスターデータ自体の検査を行う必要がある。
【０００５】
例えば、特許文献１には、ベクトル形式で記述された設計データを描画用のラスターデータに変換してから、再度ラスターデータをベクトル形式に記述されたデータに変換し、設計データとベクトル形式に変換されたデータとを比較する技術が開示されている。
【０００６】
また、特許文献２には、ベクトル形式に記述された設計データと、設計データから変換された描画データとを比較して差分図形を求め、当該差分図形を除去することで、データ変換による不具合以外の誤差要因を取り除き、ラスターデータの検査を行う技術が開示されている。
【０００７】
また、特許文献３には、基板に配線パターンを描画する際に適用される描画条件の各値と、欠陥の判定に用いられる閾値とが比較されて、欠陥の有無を判定する技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００８−２４２８８５号公報
【特許文献２】特開２００９−１１１１４８号公報
【特許文献３】特許第４４５０７６９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ところで、このようなＲＩＰ展開は、事前に設定された所定のＲＩＰパラメータに基づいて行われる。しかしながら、オペレータは、例えばエッチング液の状態などのプロセス工程の条件、直接描画装置のスペックによる制約、または描画方針の変更などにより、描画処理が行われる直前に、ＲＩＰパラメータを変更しなければならない場合がある。この場合、変更後のＲＩＰパラメータの設定ミスが生じる可能性などのため、オペレータは、ＲＩＰパラメータ変更の前後で、ＲＩＰ展開後の画像データが表すパターンがどのように変化しているかを確認する必要がある。
【００１０】
特許文献１ないし特許文献３に開示されている技術では、パラメータの変更による画像データが表すパターンの変化部分の見落としが生じやすかった。また、検査を行うにあたって、設計データ全体をＲＩＰ展開しなければならないため、時間ロスが増大する問題もあった。
【００１１】
そして、このような問題は、描画処理を行う前にＲＩＰパラメータを変更する場合に限られず、一般に、互いに異なる２つのＲＩＰパラメータに基づくＲＩＰ展開後の画像データの差分を確認する場合に起こりうる。
【００１２】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、描画処理の実行前に、互いに異なる２つのＲＩＰパラメータ各々に基づくＲＩＰ展開によって生成された、図形の描画に供される２つの画像データの差分を見落とすことなく速やかに確認できる技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
第１の発明は、描画ビームの走査によって所定のパターンを描画対象物に直接描画する直接描画装置用の画像表示装置であって、前記パターンを記述したベクトル形式の設計データを取得する取得部と、前記設計データのＲＩＰ展開に使用される指定パラメータを設定する指定パラメータ設定部と、ＲＩＰ展開される前記設計データの処理領域を設定する処理領域設定部と、前記指定パラメータと所定の基準パラメータとを用いて、前記設計データのうち前記処理領域に対応する部分をそれぞれＲＩＰ展開して、指定画像と基準画像とを得る表示用ＲＩＰ展開部と、前記指定画像と前記基準画像とを重ね合わせて可視的に表示する表示部と、を備え、前記表示用ＲＩＰ展開部におけるＲＩＰ展開は、前記直接描画のための描画用ＲＩＰ展開よりもデータ処理量を抑制した表示用ＲＩＰ展開であり、かつ前記表示部は、前記指定画像と前記基準画像との差分を、前記指定画像と前記基準画像との共通部分とは視覚的に区別可能に表示させることを特徴とする。
【００１４】
第２の発明は、第１の発明に係る直接描画装置用の画像表示装置であって、前記表示部は、前記差分を前記共通部分よりも視覚的に強調して表示させることを特徴とする。
【００１５】
第３の発明は、第１の発明または第２の発明に係る直接描画装置用の画像表示装置であって、前記指定パラメータの更新に応答して、前記表示用ＲＩＰ展開がなされ、かつ前記表示部における表示が更新されることを特徴とする。
【００１６】
第４の発明は、第１の発明ないし第３の発明に係る直接描画装置用の画像表示装置であって、前記表示用ＲＩＰ展開部は、前記処理領域が、前記パターンの部分領域に対応する場合には、第１の解像度で前記表示用ＲＩＰ展開を行う一方で、前記処理領域が、前記パターンの全体領域に対応する場合には、第２の解像度で前記表示用ＲＩＰ展開を行い、前記第２の解像度は前記第１の解像度よりも低いことを特徴とする。
【００１７】
第５の発明は、第１の発明ないし第４の発明のいずれか一つに係る直接描画装置用の画像表示装置であって、前記基準パラメータの決定に関する複数のモードから一のモードを設定するモード設定部と、設定された前記一のモードに応じて、前記基準パラメータを設定する前記基準パラメータ設定部と、をさらに備えることを特徴とする。
【００１８】
第６の発明は、第１の発明ないし第５の発明のいずれか一つに係る直接描画装置用の画像表示装置であって、前記指定画像と前記基準画像と前記差分とが、一の画面エリア中に、相互に位置合わせされた状態で複合表示されていることを特徴とする。
【００１９】
第７の発明は、第６の発明に係る直接描画装置用の画像表示装置であって、前記表示部における前記差分の表示色は、前記指定画像と前記基準画像とのそれぞれの表示色とは異なることを特徴とする。
【００２０】
第８の発明は、第７の発明に係る直接描画装置用の画像表示装置であって、前記差分の値が正の場合の前記差分の表示色と、前記差分の値が負の場合の前記差分の表示色とが異なることを特徴とする。
【００２１】
第９の発明は、描画ビームの走査によって所定のパターンを描画対象物に直接描画する直接描画装置用の表示画面を備えるコンピュータが読み取り可能なプログラムであって、前記コンピュータが前記プログラムを読み取り、前記コンピュータのＣＰＵがメモリを用いて前記プログラムを実行することにより、前記コンピュータを、前記パターンを記述したベクトル形式の設計データを取得する取得部と、前記設計データのＲＩＰ展開に使用される指定パラメータを設定する指定パラメータ設定部と、ＲＩＰ展開される前記設計データの処理領域を設定する処理領域設定部と、前記指定パラメータと所定の基準パラメータとを用いて、前記設計データのうち前記処理領域に対応する部分をそれぞれＲＩＰ展開して、指定画像と基準画像とを得る表示用ＲＩＰ展開部と、前記指定画像と前記基準画像とを重ね合わせて前記表示画面に可視的に表示する表示部と、を備え、前記表示用ＲＩＰ展開部におけるＲＩＰ展開は、前記直接描画のための描画用ＲＩＰ展開よりもデータ処理量を抑制した表示用ＲＩＰ展開であり、かつ前記表示部は、前記指定画像と前記基準画像との差分を、前記指定画像と前記基準画像との共通部分とは視覚的に区別可能に表示させることを特徴とする画像表示装置として機能させる。
【発明の効果】
【００２２】
第１の発明から第９の発明によると、描画用ＲＩＰ展開よりもデータ処理量を抑制した表示用ＲＩＰ展開でＲＩＰ展開して表示させることにより、指定パラメータが設定される都度、速やかにＲＩＰ展開を行うことができる。また、指定パラメータに基づく表示用ＲＩＰ展開によって得られた指定画像と、基準パラメータに基づく表示用ＲＩＰ展開によって得られた基準画像との差分が視覚的に区別可能な状態で表示部に表示される。このため、指定画像と基準画像との差分を見落とすことなく確認することが可能である。
【００２３】
特に、第２の発明によると、差分は指定画像と基準画像との共通部分よりも視覚的に強調して表示されているため、差分の検出が行いやすくなる。
【００２４】
特に、第３の発明によると、指定パラメータの更新に応答して、表示用ＲＩＰ展開がなされて表示が更新されるため、ＲＩＰ展開後の画像データをより速やかに確認することができる。
【００２５】
特に、第４の発明によると、処理領域が、パターンの部分領域に対応する場合には、第１の解像度で表示用ＲＩＰ展開が行われ、処理領域が、パターンの全体領域に対応する場合には、第１の解像度よりも低い第２の解像度で表示用ＲＩＰ展開が行われる。このため、表示用ＲＩＰ展開を速やかに実行することができる。
【００２６】
特に、第５の発明によると、基準パラメータの決定に関する複数のモードから選択された一のモードに応じて基準パラメータが設定される。従って、指定パラメータとの比較目的に応じた基準パラメータを設定することができる。
【００２７】
特に、第６の発明によると、指定画像と基準画像と差分とが、一の画面エリア中に、相互に位置合わせされた状態で複合表示されている。従って、差分が形成されている位置を容易に把握することができる。
【００２８】
特に、第７の発明によると、表示部における差分の表示色は、指定画像と基準画像とのそれぞれの表示色とは異なる。このため、差分の検出は容易に行いやすくなる。
【００２９】
特に、第８の発明によると、差分の値が正の場合の差分の表示色と、差分の値が負の場合の差分の表示色とが異なるため、指定画像と基準画像とのうち、いずれの画像が大きいことによる差分であるかが容易に確認できる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】本実施形態における直接描画装置用の画像表示装置が組み込まれた図形描画システムの構成を示す図である。
【図２】画像処理装置のハードウェア構成を示すブロック図である。
【図３】画像処理装置の操作ＧＵＩを示す概略図である。
【図４】画像処理装置の機能的構成を示す概略図である。
【図５】画像処理装置における処理の流れを示すフローチャートである。
【図６】各モードにおける差分抽出画像を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００３１】
以下、添付の図面を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。以下の実施形態は、本発明を具体化した一例であり、本発明の技術的範囲を限定する事例ではない。
【００３２】
図１には、本発明の実施形態に係る直接描画装置用の画像表示装置が組み込まれた図形描画システム１００が示されている。この図形描画システム１００は、例えば半導体基板上のレジスト層を選択的に露光することにより、レジスト層に回路パターンに相当する図形を直接描画するシステムとして使用される。
【００３３】
図形描画システム１００は、設計データ作成装置１、画像処理装置２、および描画装置３を備える。これらの各装置１，２，３は、ＬＡＮなどのネットワークＮを介して相互に接続されている。
【００３４】
設計データ作成装置１は、描画対象物に描画すべきパターン領域を記述したデータの作成及び編集を行う装置である。具体的にデータは、ＣＡＤによってベクトル形式で記述された図形データとして作成される。以下において、このデータを設計データＤ０と称する。
【００３５】
設計データ作成装置１で作成された設計データＤ０は、画像処理装置２と描画装置（直接描画装置）３との双方で受け取ることができる。画像処理装置２と描画装置３とはいずれもＲＩＰ展開機能を有するが、それらのＲＩＰ展開は、異なる目的で実行される。すなわち、描画装置３のデータ処理部３ａは設計データＤ０をＲＩＰ展開し、描画用のラスターデータとする機能（以下、「描画用ＲＩＰ展開」と称する。）を有する。そのようにして得られたラスターデータに基づいて、描画制御部３ｂはレーザビームをＯＮ／ＯＦＦ変調しつつ、描画対象物（基板）の２次元走査を行って選択的な露光を行う。
【００３６】
一方、画像処理装置２は、描画用ＲＩＰ展開を行うよりも前の段階で、設計データ作成装置１から設計データＤ０を取得し、当該取得した設計データＤ０を予備的にＲＩＰ展開して表示用のラスターデータとする機能（以下、「表示用ＲＩＰ展開」と称する。）と、そのようにして得られたラスターデータに基づいてリアルタイムで可視的な表示を行う機能とを有する。換言すれば、画像処理装置２はパターン領域の画像のプレビュー機能を有する。プレビュー機能は全パターン領域の縮小表示と、部分パターン領域の拡大表示とのいずれをも含むことができる。本実施形態での画像処理装置２は、この発明における「直接描画装置用の画像表示装置」としての機能を有する。
【００３７】
描画用ＲＩＰ展開は、実際の描画に必要な解像度で描画パターン全体をＲＩＰ展開するものである。一方、表示用ＲＩＰ展開は、ディスプレイ上での表示用に行われるものであり、描画用ＲＩＰ展開と比較して低解像度で、あるいはパターン領域の全体ではなく部分的な領域だけをＲＩＰ展開するなど、描画用ＲＩＰ展開よりも簡易な処理である。従って、ＲＩＰ展開に要する処理時間も描画用ＲＩＰ展開より短く、保持するデータ量も描画用ＲＩＰ展開よりも少なくて済む。
【００３８】
すなわち、画像処理装置２では、描画用ＲＩＰ展開よりもデータ処理量を抑制した表示用ＲＩＰ展開で設計データＤ０の該当部分をＲＩＰ展開して表示させることにより、画像のプレビュー表示のためのデータ処理を高速化し、パラメータ更新などに対する画像表示の更新のリアルタイム性を確保している。
【００３９】
以下において、表示用ＲＩＰ展開で得られたラスターデータを画像データＤ２と称する。
【００４０】
なお、これらにおけるラスターデータ（ラスタイメージデータ）とは、周知のように、複数の画素を形成する２値画像データを主走査方向に配列したデータ（ラインデータ）を、主走査方向とは直交する副走査方向に多数配列したものに相当するデータである。
【００４１】
描画用ＲＩＰ展開では、ベクトル形式で記述された設計データＤ０をラスターデータに変換する。さらに、このラスターデータをランレングス符号化処理し、圧縮された描画用ランレングスデータは、描画装置３内に組み込まれた描画制御部３ｂに出力される。得られたランレングスデータは、設計データＤ０におけるパターン領域が、走査線ごとに各露光区間の長さを順次に配列した連鎖によって記述されたデータとなる。
【００４２】
本実施形態に係る画像処理装置２では、描画用ＲＩＰ展開のために設定されるＲＩＰパラメータ（以下において、指定パラメータＰａ１と称する場合がある。）と、当該指定パラメータＰａ１と比較される基準のＲＩＰパラメータ（以下において、基準パラメータＰａ２と称する。）とのそれぞれに基づいて、設計データＤ０が表示用ＲＩＰ展開されることで生成された２つの画像データＤ２の差分抽出も行われる。これについては、後に詳述する。
【００４３】
描画装置３は、データ処理部３ａが設計データＤ０をＲＩＰ展開して得た描画用の画像データＤ１に基づいて、走査描画部３ｃが基板（描画対象物）上にパターン領域を直接露光する装置である。描画装置３の描画制御部３ｂは、設計データ作成装置１から設計データＤ０と画像処理装置２から描画用ＲＩＰ展開に使用される指定パラメータＰａ１とを取得し、指定パラメータＰａ１に従って設計データＤ０のＲＩＰ展開（描画用ＲＩＰ展開）を行う。これによって描画用の画像データＤ１を生成し、走査描画部３ｃはその画像データＤ１に基づいてパターン領域の光ビーム走査による描画を実行する。これにより、図形パターンに相当する二次元画像が描画対象物に記録される。
【００４４】
例えば走査描画部３ｃは、デジタルマイクロミラーデバイス等の空間光変調素子を用いて描画用の画像データＤ１に応じて変調した光ビームを半導体基板上のレジスト層（一般には感光層）に照射し、基板に配線パターンを描画する。
【００４５】
なお、本実施形態では描画装置３内のデータ処理部３ａで描画用ＲＩＰ展開を行う場合について説明しているが、画像処理装置２と描画装置３との間に設けた専用のＲＩＰ装置で描画用ＲＩＰ展開を行ってから、描画用画像データＤ１を描画装置３に送信する形態であってもよい。また、画像処理装置２において、指定パラメータＰａ１で設計データＤ０の描画用ＲＩＰ展開が行われ、それによって生成された描画用の画像データＤ１が描画装置３に送信される形態であってもよい。これらの場合には、描画装置３のデータ処理部３ａはＲＩＰ展開機能を備える必要はない。
【００４６】
なお、画像処理装置２は、描画装置３の外部に設置される必要はなく、描画装置３と一体の構成であってもよい。また、画像処理装置２にＣＡＤが搭載されており、画像処理装置２に搭載されたＣＡＤで直接設計データＤ０が作成される構成であってもよい。
【００４７】
図２には、コンピュータによって構成された画像処理装置２のハードウェア構成がブロック図で示されている。
【００４８】
画像処理装置２は、ＣＰＵ９１、ＲＯＭ９２、メモリ９３、メディアドライブ９４、表示部９５、操作部９６等で構成されている。これらのハードウェアは、それぞれバスライン９７によって電気的に接続された構成となっている。
【００４９】
ＣＰＵ９１は、ＲＯＭ９２に記憶されたプログラム（または、メディアドライブによって読み込まれたプログラム）Ｐに基づいて、上記ハードウェア各部を制御し、画像処理装置２の機能を実現する。
【００５０】
ＲＯＭ９２は、画像処理装置２の制御に必要なプログラムＰやデータを予め格納した読み出し専用の記憶装置である。
【００５１】
メモリ９３は、読み出しと書き込みとが可能な記憶装置であり、ＣＰＵ９１による演算処理の際に発生するデータなどを一時的に記憶する。メモリ９３は、ＳＲＡＭ、ＤＲＡＭなどで構成される。
【００５２】
メディアドライブ９４は、記録媒体（より具体的には、ＣＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ（Digital Versatile Disk））、フレキシブルディスクなどの可搬性記録媒体）Ｍからその中に記憶されている情報を読み出す機能部である。
【００５３】
操作部９６は、キーボード及びマウスによって構成される入力デバイスであり、コマンドや各種データの入力といったユーザ操作を受け付ける。操作部９６が受けたユーザ操作は信号としてＣＰＵ９１に入力される。
【００５４】
表示部９５は、カラーＬＣＤのようなディスプレイ等を備え、各種のデータや動作状態を可変表示する。この表示部９５では、図３に示される操作ＧＵＩ（Graphic User Interface）８０が表示される。
【００５５】
ここで、図３を参照しつつ、操作ＧＵＩ８０について説明する。操作ＧＵＩ８０は、例えば図３に示されるように、設計データＤ０で規定されるパターン領域の一部を表示用ＲＩＰ展開後の画像データＤ２に基づいて表示する処理領域表示画面８１と、指定パラメータＰａ１の設定入力が行われる入力欄を表示するパラメータ設定画面８２と、を備える。操作ＧＵＩ８０では、これらの処理領域表示画面８１とパラメータ設定画面８２とが並列的に表示されている。
【００５６】
指定パラメータＰａ１には、例えば設計データＤ０のファイル名称、レイヤーの番号、サイジング（拡大や縮小）の値、階調反転の有無、回転の角度、ミラー反転の有無、エッジ露光条件などの各項目が挙げられる。
【００５７】
なお、基準パラメータＰａ２も指定パラメータＰａ１と同様の各項目で構成されている。この基準パラメータＰａ２として設定されるパラメータ値は、複数のモードから選択された一のモードに基づいて設定されるが、これについては後に詳述する。
【００５８】
図３に示されるパラメータ設定画面８２の「Input CAD Data」２０１でＣＡＤファイルの名称が入力される。ここで入力されたＣＡＤファイルが設計データＤ０として取り込まれ、それを所定の初期パラメータでＲＩＰ展開した初期画像が処理領域表示画面８１に表示される。初期パラメータは、サイジングや階調反転などの調整処理を行わずに、設計データＤ０に忠実にＲＩＰ展開するためのＲＩＰパラメータであり、初期表示用としてあらかじめ装置内に設定されている。
【００５９】
また、「Layer Merge」２０２では、レイヤー番号が設定される。「Sizing」２０３では、Ｘ方向及びＹ方向における線幅の太らせ幅又は細らせ幅が入力される。例えば、図３に示される設定値の場合、線幅は、デフォルトの線幅からＸ方向に１０００ｎｍ細らせ、Ｙ方向に５００ｎｍ太らせた線幅に設定される。「Reverse」２０４では、画像データＤ２のパターン領域の階調を反転するか否かについて選択される。「Rotation」２０５では、画像データＤ２のパターン領域の回転角度が設定される。回転角度は任意の値が入力されてもよいし、予め設定された値を選択する形態であってもよい。画像データＤ２のパターン領域を回転させない場合には、ゼロの値が設定される。
【００６０】
また、「Mirror」２０６では、ミラー反転を行うか否かについて設定される。「Wafer Info」２０７では、描画対象物となる基板のサイズ及び装置における初期設定位置について入力される。「Use Edge Expose」２０８では、エッジ露光条件が入力される。エッジ露光条件とは、基板に形成されたチップの外側を円形に囲むようにして形成される露光領域の設定条件である。具体的には、エッジ露光を行うか否かについて、また、エッジ露光を行う場合には、露光領域が形成される基板上の位置（外側位置又は内側位置）と露光幅について設定される。なお、これらは、あくまでも指定パラメータＰａ１の一例であり、これに限られるものではない。
【００６１】
これらの指定パラメータＰａ１は、「Ticket Name」２１０に保存名が入力され、「Save」キー２１４がクリックされることによって、指定パラメータＰａ１のセットとして、後述する指定パラメータ保存部２３に保存される。
【００６２】
指定パラメータＰａ１を用いた表示用ＲＩＰ展開は、これらの指定パラメータＰａ１が、操作ＧＵＩ８０のパラメータ設定画面８２に入力された後で、操作ＧＵＩ８０上の「Update View」キー２１５がクリックされることにより実行される。なお、指定パラメータＰａ１が操作ＧＵＩ８０に入力される都度、表示用ＲＩＰ展開が行われる形態であってもよい。
【００６３】
指定パラメータＰａ１が最初に設定されるまでは、事前に設定されている初期パラメータで設計データＤ０を比較的低解像度でＲＩＰ展開した画像データＤ２（初期画像）だけが処理領域表示画面８１に表示されている状態である。指定パラメータＰａ１が設定されて、その指定パラメータＰａ１を用いたＲＩＰ展開がなされた後には、初期画像表示は比較画像表示に切り替わる。比較画像表示では、指定パラメータＰａ１で表示用ＲＩＰ展開した画像（以下において、指定画像Ｄ２１と称する。）と、基準パラメータＰａ２で表示用ＲＩＰ展開した画像（以下において、基準画像Ｄ２２）とが重ね合わされた状態で処理領域表示画面８１に表示され、そこでは差分Ｓの部分が強調表示される。なお、初期パラメータは、サイジングや階調反転などの調整処理を行わずに、設計データＤ０に忠実にＲＩＰ展開するためのＲＩＰパラメータであり、初期表示用としてあらかじめ装置内に設定されている。
【００６４】
表示用ＲＩＰ展開は、パターン領域のうちオペレータが処理領域表示画面８１に表示させることを意図した部分（以下「表示対象部分」）についてのみリアルタイムで実行される。具体的には、ユーザ操作によって、パターン領域の表示対象部分が設定されると、当該表示対象部分に相当する２次元座標範囲が特定される。この特定された２次元座標範囲に対応する部分の設計データＤ０のみが、指定パラメータＰａ１に従ってＲＩＰ展開される。そして、ＲＩＰ展開によって得られた画像データＤ２に基づく表示対象部分の指定画像Ｄ２１が、処理領域表示画面８１内に、その部分に相当する基準画像Ｄ２２とともに、差分Ｓが強調された態様で表示される。
【００６５】
上記のような表示対象部分の設定は、処理領域表示画面８１の側方に設けられたスクロールバー２２０によって処理領域表示画面８１に表示されているパターン領域をＸ方向又はＹ方向に移動させること、またはマウスのダブルクリックなどによりパターン領域の表示倍率を調節することによって行われる。なお、処理領域表示画面８１上でマウスをドラッグアンドドロップすることによりパターン領域を移動させる態様であってもよい。
【００６６】
操作ＧＵＩ８０の処理領域表示画面８１の下方には、モード設定欄２３０が設けられている。このモード設定欄２３０で、複数のモードから一のモードが選択されることによって、モード設定部３１が基準パラメータＰａ２の決定に関するモードを設定する。そして、設定された一のモードに応じて基準パラメータ設定部２４が基準パラメータＰａ２を設定する。これについては後に詳述する。
【００６７】
なお、ＲＩＰパラメータは、操作ＧＵＩ８０上で設定される値に限られない。例えば、最小ランは、描画装置３のスペックによって決定される。この最小ランは、描画装置３が描画可能な最小の画素値を表している。つまり、描画装置３では、この最小ランの値よりも小さい画素は、装置のスペック上、描画することができないため、当該画素よりも小さい画素の隙間を潰すことで描画は行われる。
【００６８】
図４には、画像処理装置２の機能的構成を表すブロック図が示されている。
【００６９】
画像処理装置２は、設計データ取得部２０、設計データ保存部２１、指定パラメータ設定部２２、指定パラメータ保存部２３、処理領域設定部２５、表示用ＲＩＰ展開部２６、基準パラメータ設定部２４、差分抽出部２７、差分強調表示部２８、送信部３０、およびモード設定部３１を備える。これらの各部の機能は、ＲＯＭ９２に予め格納されたプログラムＰ、あるいはメディアドライブ９４によって記録媒体Ｍに記録されているプログラムＰが読み出され、ＣＰＵ９１において実行されることによって実現する。
【００７０】
設計データ取得部２０は、設計データ作成装置１からネットワークＮを介して描画すべきパターン領域が記述された設計データＤ０を取得する。なお、ネットワークＮに限らず、例えば可般型記憶媒体を介して、設計データＤ０が取得されてもよい。
【００７１】
設計データ保存部２１は、設計データ取得部２０で取得された設計データＤ０を保存する。保存された設計データＤ０は適宜読み出されて、表示用ＲＩＰ展開に使用される。
【００７２】
指定パラメータ設定部２２は、設計データＤ０がＲＩＰ展開されるときのＲＩＰパラメータ（指定パラメータＰａ１）を設定する。具体的に、オペレータが、パラメータ設定画面８２に操作部９６を介して指定パラメータＰａ１の値を入力することによって、当該指定パラメータＰａ１が指定パラメータ設定部２２に設定される。
【００７３】
指定パラメータ保存部２３は、指定パラメータ設定部２２で設定された指定パラメータＰａ１を保存する。保存された指定パラメータＰａ１は、基準パラメータＰａ２に設定されるため、または描画用ＲＩＰ展開に使用されるＲＩＰパラメータに設定されるなどのため、適宜読み出される。
【００７４】
処理領域設定部２５は、初期画像表示、または比較画像表示での画像データＤ２のパターン領域から処理領域ＲＴを設定する。具体的に、処理領域表示画面８１に表示されているパターン領域に対して、スクロール、ズームイン、又はズームアウトなどのユーザ操作が操作部９６を介して行われる。これによって、オペレータが目視で確認したいパターン領域の部分またはパターン領域全体が処理領域表示画面８１に表示される。これによって、処理領域ＲＴが設定される。つまり、処理領域ＲＴは、処理領域表示画面８１に表示されているパターン領域の部分または全体であり、上述の表示対象部分に相当する。
【００７５】
一般に、オペレータはパターン領域全体の各部を平等に確認することはなく、オペレータが特に確認したい部分は限定される。それは主として、描画工程やプロセス上でエラーが生じ易い特定の幾何学的特徴を有する部分であり、例えば、パターン領域の曲線部分、鋭角部分、細線部分、頂点部分などの部分領域が処理領域ＲＴ（表示対象部分）として設定される。
【００７６】
また、パターン領域の画像全体（全体領域）が処理領域ＲＴとして設定される場合には、複数のチップの配置具合、エッジの処理具合、などが確認される。
【００７７】
モード設定部３１は、指定パラメータＰａ１と基準パラメータＰａ２とを比較するモードを設定する。モードとして、例えば、装置制限強調モード、前回条件比較モード、パラメータ調整モード、及びデフォルト比較モードなどが挙げられる。オペレータは、操作ＧＵＩ８０上に設けられたモード設定欄２３０での選択操作を行うことにより、複数のモードから一のモードを選択する。このようにして選択されたモードがモード設定部３１に設定される。
【００７８】
基準パラメータ設定部２４は、モード設定部３１で設定されたモードに応じて基準パラメータＰａ２を設定する。具体的に、装置制限強調モードでは、最小ランがゼロのときの指定パラメータＰａ１が、基準パラメータＰａ２となる。つまり、描画装置３の装置条件による制約が存在しない場合の指定パラメータＰａ１が基準パラメータＰａ２として設定される。
【００７９】
前回条件比較モードでは、前回の描画用ＲＩＰ展開で使用した指定パラメータＰａ１のセットが基準パラメータＰａ２となる。この場合、モードが設定された段階で、該当する指定パラメータＰａ１が指定パラメータ保存部２３から読み出され、基準パラメータＰａ２として設定される。
【００８０】
パラメータ調整モードでは、前回の表示用ＲＩＰ展開で使用した指定パラメータＰａ１のセットが基準パラメータＰａ２となる。この場合においても、モードが設定された段階で、該当する指定パラメータＰａ１が指定パラメータ保存部２３から読み出され、基準パラメータＰａ２として設定される。
【００８１】
デフォルト比較モードでは、予め指定パラメータ保存部２３に基準パラメータＰａ２として設定されているＲＩＰパラメータのセットが、基準パラメータＰａ２となる。この基準パラメータＰａ２は、オペレータによって設定入力されたＲＩＰパラメータである。この場合においても、モードが設定された段階で、該当する指定パラメータＰａ１が指定パラメータ保存部２３から読み出され、基準パラメータＰａ２として設定される。
【００８２】
表示用ＲＩＰ展開部２６は、指定パラメータ設定部２２で設定された指定パラメータＰａ１と、基準パラメータ設定部２４で設定された基準パラメータＰａ２とのそれぞれに基づいて、処理領域ＲＴ（表示対象部分）に対応する設計データＤ０をＲＩＰ展開（表示用ＲＩＰ展開）する。これによって、設計データＤ０のうち処理領域ＲＴに対応する部分が、指定パラメータＰａ１と基準パラメータＰａ２とのそれぞれに対応した表示用の２セットの画像データＤ２に変換される。表示用ＲＩＰ展開は、例えば、指定パラメータＰａ１の入力完了のタイミング、又は操作ＧＵＩ８０上の「Update View」キー２１５のクリックを契機に開始され、即時実行される。
【００８３】
差分抽出部２７は、指定パラメータＰａ１を用いてＲＩＰ展開された指定画像Ｄ２１と基準パラメータＰａ２を用いてＲＩＰ展開された基準画像Ｄ２２との２つの画像の画素ごとの差分Ｓを抽出する。例えば、指定画像Ｄ２１の各画素から対応する基準画像Ｄ２２の各画素を差し引くことで、差分Ｓは抽出される。この場合には、差分Ｓの値が正になる部分は、描画（露光）範囲が増加した部分に相当する。また、差分Ｓの値が負になる部分は、描画（露光）範囲が減少した部分に相当する。なお、差分抽出処理は、基準画像Ｄ２２の各画素から対応する指定画像Ｄ２１の各画素を差し引くことで行われてもよい。
【００８４】
差分強調表示部２８は、差分抽出部２７で抽出された差分Ｓを視覚的に強調して処理領域表示画面８１に表示する。このとき、処理領域表示画面８１では、指定画像Ｄ２１と基準画像Ｄ２２とが重ねて表示されている。差分Ｓは、指定画像Ｄ２１と基準画像Ｄ２２との非共通部分、すなわち重なりが生じていない部分として表示されている。
【００８５】
この差分Ｓは、重ね合わされた指定画像Ｄ２１と基準画像Ｄ２２との共通部分とは異なる表示色で表示されている。また、例えば差分Ｓの値が正になる部分と、差分Ｓの値が負になる部分とは異なる表示色が使用される。特に、これらの色は補色の関係にあることが好ましい。
【００８６】
なお、表示色が異なる形態に限られず、例えば差分Ｓの部分に異なる模様が付与された形態（たとえば異なる斜線が引かれた形態）、又は差分Ｓの階調値が異なる形態など、差異の存在が視覚的に強調して表示された形態であれば構わない。
【００８７】
送信部３０は、描画用ＲＩＰ展開で使用することが決定した指定パラメータＰａ１のセットを描画装置３に送信する。
【００８８】
ここで、図５に示されるフローチャートに従って、処理の流れについて説明する。
【００８９】
はじめに、設計データ取得部２０が、設計データ作成装置１で作成された設計データＤ０を、ネットワークＮを介して取得する（ステップＳ１）。取得した設計データＤ０は設計データ保存部２１に保存される。
【００９０】
オペレータは、操作ＧＵＩ８０を介して設計データ保存部２１に保存されている各種の設計データＤ０の中から所望の設計データＤ０を選択する。選択された設計データＤ０が初期パラメータを用いて表示用ＲＩＰ展開され、これによって、当該設計データＤ０に忠実な初期画像が操作ＧＵＩ８０の処理領域表示画面８１に表示される。なお、設計データ取得部２０が取得した設計データＤ０を直接に初期パラメータで表示用ＲＩＰ展開し、操作ＧＵＩ８０の処理領域表示画面８１に表示させる形態であってもよい。
【００９１】
続いて、モードが設定される（ステップＳ２）。具体的には、オペレータが、操作ＧＵＩ８０のモード設定欄２３０で、複数のモードの中から一のモードを選択することによって、モードが設定される。
【００９２】
続いて、オペレータは、操作部９６を介して、処理領域ＲＴを設定する（ステップＳ３）。具体的には、オペレータは、処理領域表示画面８１に表示されているパターン領域を見ながら操作を行い、確認したい領域を処理領域表示画面８１に表示させる。このとき、オペレータが部分領域を確認したい場合には、拡大操作を行うことにより、一部の画像が拡大表示され、線幅、又は形状を細かく確認することができる状態になる。
【００９３】
続いて、オペレータが操作ＧＵＩ８０のパラメータ設定画面８２に指定パラメータＰａ１を入力する。これによって、指定パラメータＰａ１が設定される（ステップＳ４）。操作ＧＵＩ８０への指定パラメータＰａ１の入力が完了した段階、または「Save」キー２１４のクリックにより、当該指定パラメータＰａ１のセットは指定パラメータ保存部２３に保存される。
【００９４】
そして、基準パラメータＰａ２が基準パラメータ設定部２４によって設定される（ステップＳ５）。つまり、設定されたモードに応じたＲＩＰパラメータのセットが指定パラメータ保存部２３から読み出されて基準パラメータＰａ２は設定される。特に、モードが装置制限モードである場合には、指定パラメータＰａ１が設定されることによって、基準パラメータＰａ２は生成する。なお、モードが装置制限モード以外のその他のモードである場合には、モードが設定された段階で、設定されたモードに応じたＲＩＰパラメータのセットが指定パラメータ保存部２３から読み出され、基準パラメータＰａ２として設定されてもよい。
【００９５】
指定パラメータＰａ１が入力された段階で、パラメータ設定画面８２の「Update View」キー２１５がオペレータによってクリックされる。これを契機に、表示用ＲＩＰ展開が即時実行される（ステップＳ６）。
【００９６】
このとき、処理領域表示画面８１における処理領域ＲＴの表示倍率に応じた解像度で表示用ＲＩＰ展開は実行される。具体的に、表示倍率が大きくなる場合、すなわち処理領域ＲＴである表示対象部分がパターン領域の部分領域であって、当該部分領域が処理領域表示画面８１に拡大表示されている場合には、比較的高解像度で表示用ＲＩＰ展開が行われる。
【００９７】
また、表示倍率が小さくなる場合、すなわち処理領域ＲＴである表示対象部分がパターン領域の全体領域であって、当該全体領域が処理領域表示画面８１に縮小表示されている場合には、比較的低解像度で表示用ＲＩＰ展開が行われる。つまり、処理領域ＲＴがパターン領域の部分領域であるときのＲＩＰ展開の解像度は、処理領域ＲＴがパターン領域の全体領域であるときのＲＩＰ展開の解像度よりも小さくなる。
【００９８】
つまり、処理領域ＲＴがパターン領域の部分領域に対応する場合には、表示用ＲＩＰ展開は設計データＤ０の一部分に対して限定的に行われるため、また処理領域ＲＴがパターン領域の全体領域に対応する場合には、表示用ＲＩＰ展開は粗く行われるため、表示用ＲＩＰ展開は、描画用ＲＩＰ展開よりもデータ処理量が抑制されたＲＩＰ展開となる。
【００９９】
指定画像Ｄ２１と基準画像Ｄ２２との共通部分（重なり部分）は、それぞれにおいて描画対象となる各画素を論理値「１」として、対応する画素ごとの論理積をとって得た論理合成画像として特定することができる。
【０１００】
差分抽出部２７は、この指定画像Ｄ２１と基準画像Ｄ２２との差分Ｓを抽出する（ステップＳ７）。具体的には、各画素について指定画像Ｄ２１から基準画像Ｄ２２を差し引くことで差分Ｓは抽出される。
【０１０１】
そして、差分強調表示部２８が、差分Ｓを指定画像Ｄ２１及び基準画像Ｄ２２に重ねるようにして処理領域表示画面８１に表示させる。具体的には、指定画像Ｄ２１と基準画像Ｄ２２と差分Ｓとを、相互に位置合わせしつつ、同一の画面エリア中に、相互に位置合わせされた状態で複合表示させる。
【０１０２】
このとき、差分Ｓは、指定画像Ｄ２１及び基準画像Ｄ２２とは異なる表示色で表示されている。また、差分Ｓの値が正になる部分と差分Ｓの値が負になる部分とにおいても異なる表示色で表示されている。このようにして、差分Ｓの領域は視覚的に強調して表示される（ステップＳ８）。
【０１０３】
より具体的には、黒く表示された背景部分の中で、指定画像Ｄ２１と基準画像Ｄ２２との共通部分（重なり部分）を基準色（たとえば白）で表示させ、差分Ｓの値が正になる部分は赤系統の色で表示し、差分Ｓの値が負になる部分は青系統の色で表示することにより、背景部分（非描画部分）、共通部分、増加部分、減少部分の４種を異なる視覚的態様で表示させる。このように、背景部分や共通部分は無彩色とし、差分Ｓ（増加部分、減少部分）を有彩色とすることによって、差分Ｓの視覚的な強調がなされる。
【０１０４】
なお、差分Ｓと他の部分（背景部分や共通部分）とが視覚的に区別がつけば他の態様でもかまわない。例えば、差分Ｓがより強調されるように、たとえば差分Ｓを間欠的にフラッシュ表示するなどの態様も採用可能である。
【０１０５】
図６には、各比較モードでの指定画像Ｄ２１、基準画像Ｄ２２、そして差分Ｓが表示された画像（以下において、差分表示画像Ｄ２３と称する。）が示されている。図６では、いずれも処理領域ＲＴがパターン領域の部分領域として表示されている。なお、ここでは、差分抽出処理は、基準画像Ｄ２２の各画素から対応する指定画像Ｄ２１の各画素を差し引くことで行われている。
【０１０６】
図６には、装置制限強調モードでの指定画像Ｄ２１、基準画像Ｄ２２、そして、差分表示画像Ｄ２３が示されている（ＳＴ１１）。最小ランが設定されているため、指定画像Ｄ２１では、画素の隙間がつぶれて表示された領域（つぶれ領域）が部分的に形成される。一方、基準画像Ｄ２２では、最小ランがゼロであるため、そのようなつぶれ領域は未形成である。従って、差分表示画像Ｄ２３では、このつぶれ領域の部分が差分Ｓａとして強調表示される（図示の都合上、差分Ｓａは、梨地領域として示されている。）。
【０１０７】
また、図６には、前回条件比較モード又はデフォルト比較モードでの指定画像Ｄ２１、基準画像Ｄ２２、そして差分表示画像Ｄ２３が示されている（ＳＴ１２）。指定パラメータＰａ１と基準パラメータＰａ２との相違点は、線幅の値である。従って、差分表示画像Ｄ２３では、この線幅の異なる部分が差分Ｓｂとして、他の部分と区別された形態で強調表示される（図示の都合上、差分Ｓｂは斜線領域として示されている。）。
【０１０８】
また、図６には、パラメータ調整モードでの指定画像Ｄ２１、基準画像Ｄ２２、そして、差分表示画像Ｄ２３が示されている（ＳＴ１３）。指定パラメータＰａ１と基準パラメータＰａ２との相違点はエッジ露光領域ＥＲの有無に関する項目の設定である。基準画像Ｄ２２では、エッジ露光領域ＥＲが基板の内側部分に未形成の状態の処理領域ＲＴが示されている。これに対して、指定画像Ｄ２１では、エッジ露光領域ＥＲが基板の内側部分に形成された状態の処理領域ＲＴが示されている。従って、差分表示画像Ｄ２３では、このエッジ露光領域ＥＲが形成されている内側部分が差分Ｓｃとして強調表示されている（図示の都合上、差分Ｓｃは梨地領域として示されている。）。
【０１０９】
なお、差分Ｓａと差分Ｓｃとは、指定画像Ｄ２１の一部の画素が対応する基準画像Ｄ２２の一部の画素よりも大きいことによる差分Ｓ、すなわち露光範囲が増大した部分であり、差分Ｓｂは、指定画像Ｄ２１の一部の画素が対応する基準画像Ｄ２２の一部の画素よりも小さいことによる差分Ｓ，すなわち露光範囲が減少した部分である。従って、差分Ｓａ，Ｓｃと差分Ｓｂとは表示色が異なる態様で表示される。
【０１１０】
差分Ｓの強調表示処理が行われると、処理領域ＲＴを再設定して再度表示用ＲＩＰ展開を実施するか否かが判断される（ステップＳ９）。処理領域表示画面８１に表示された処理領域ＲＴが新たに設定される（ステップＳ１０）と、表示用ＲＩＰ展開は新たに行われる。
【０１１１】
また、差分Ｓの強調表示処理が行われると、指定パラメータＰａ１を再設定して表示用ＲＩＰ展開を再度実施するか否かが判断される（ステップＳ１１）。描画装置３が描画処理を行う際に、差分Ｓが露光品質に悪影響を及ぼすなどと判断される場合には、指定パラメータＰａ１が更新され、表示用ＲＩＰ展開が新たに行われる。
【０１１２】
オペレータは、指定パラメータＰａ１または処理領域ＲＴを様々に更新し、差分Ｓが強調して表示された表示画像を更新させつつ、これらの表示画像を目視で確認する。そして、最適な表示画像が得られる指定パラメータＰａ１の値が、描画用ＲＩＰ展開に使用されるＲＩＰパラメータに決定される。決定された指定パラメータＰａ１は、指定パラメータ保存部２３から読み出され、送信部３０によって描画装置３に送信される。
【０１１３】
このように、表示用ＲＩＰ展開、差分抽出処理、及び差分強調表示処理は、指定パラメータＰａ１が新たに設定されたとき、又は処理領域表示画面８１に表示された処理領域ＲＴが新たに設定されたときに、その都度リアルタイムで実施される。
【０１１４】
このような指定パラメータＰａ１の更新あるいは処理領域ＲＴの更新に応答して表示用ＲＩＰ展開が再度なされ、かつ処理領域表示画面８１における表示がリアルタイムで更新されることにより、実質的に画像の変化を動的にモニタしつつ指定パラメータＰａ１などの調整が可能となる。ただし、ここで言うリアルタイムとは、指定パラメータＰａ１の更新、あるいは処理領域ＲＴの更新に応答する場合のみならず、指定パラメータＰａ１の更新後、あるいは処理領域ＲＴの更新後、オペレータが更新指令を与えることによって表示用ＲＩＰ展開が行われ、表示が更新される場合も含んでいる。換言すれば、描画用ＲＩＰ展開にかかる時間を要することなくパラメータ更新とその結果の確認が可能という意味において、本実施形態の装置はリアルタイム性を有する。
【０１１５】
以上のように、本実施形態における画像処理装置２では、描画用ＲＩＰ展開よりもデータ処理量を抑制した表示用ＲＩＰ展開でＲＩＰ展開が行われる。また、指定パラメータＰａ１に基づく表示用ＲＩＰ展開によって得られた指定画像Ｄ２１と、基準パラメータＰａ２に基づく表示用ＲＩＰ展開によって得られた基準画像Ｄ２２との差分Ｓが視覚的に区分された状態で処理領域表示画面８１に表示される。従って、表示用ＲＩＰ展開は速やかに行われるとともに、指定画像Ｄ２１と基準画像Ｄ２２との差分Ｓの見落としは生じにくくなる。
【０１１６】
また、差分Ｓは指定画像Ｄ２１と基準画像Ｄ２２との共通部分よりも視覚的に強調して表示されることによって、視覚的により明らかに区分することが可能である。従って、差分Ｓの見落としはより生じにくくなる。
【０１１７】
また、指定パラメータＰａ１の更新に応答して表示用ＲＩＰ展開がなされ、処理領域表示画面８１における画像の表示が更新される。すなわち、リアルタイムで画像を確認することができるため、差分Ｓの表示にかかる時間ロスを抑制できる。このため、手軽に指定パラメータＰａ１及び処理領域を設定し直して差分Ｓを確認することができる。
【０１１８】
特に、パターンが細かく、描画領域が広くなる半導体基板においては、描画用ＲＩＰ展開に時間を要するため、ＲＩＰパラメータの設定ミスによる時間ロスが大きな課題であった。また、パターンが細かいため、差分の見落としが生じやすく、確認作業に時間を要していた。画像処理装置２は、これらの問題を解決可能である。
【０１１９】
また、処理領域ＲＴがパターン領域の部分領域である場合には、比較的高解像度でＲＩＰ展開が行われ、処理領域ＲＴがパターン領域の全体領域である場合には、低解像度でＲＩＰ展開が行われる。このため、表示用ＲＩＰ展開を速やかに実行することが可能になる。
【０１２０】
また、複数のモードから選択された一のモードに応じて、基準パラメータＰａ２は設定される。このため、指定パラメータＰａ１と基準パラメータＰａ２との比較目的に応じた基準パラメータＰａ２を設定することができる。
【０１２１】
また、指定画像Ｄ２１と基準画像Ｄ２２と差分Ｓとが相互に位置合わせされた状態で処理領域表示画面８１に複合表示されている。このため、差分Ｓが形成されている画像上の位置を容易に把握することができる。
【０１２２】
また、差分Ｓの処理領域表示画面８１における表示色は、指定画像Ｄ２１と基準画像Ｄ２２とのそれぞれの表示色とは異なる。このため、差分Ｓは目視によって、より容易に確認することができる。
【０１２３】
また、差分Ｓの値が正の場合の差分Ｓの表示色と、差分Ｓの値が負の場合の差分Ｓの表示色とが異なる。このため、差分Ｓを確認したときに、当該差分Ｓは、描画範囲が増大したことによる差分であるか、それとも描画範囲が減少したことによる差分であるかを、容易に見分けることができる。
【０１２４】
また、上記の実施形態の装置は、半導体基板やＦＤＰディスプレイパネル用基板やプリント基板など精密電子基板製造用の光ビーム直接描画装置を想定しているが、印刷などの分野における直接描画においてもこの発明は適用できる。光ビームではなく、電子ビームなどによる直接描画装置にも適用可能である。
【符号の説明】
【０１２５】
２ 画像処理装置（画像表示装置）
３ 直接描画装置
２０ 設計データ取得部
２２ 指定パラメータ設定部
２４ 基準パラメータ設定部
２５ 処理領域設定部
２６ 表示用ＲＩＰ展開部
２７ 差分抽出部
２８ 差分強調表示部
３１ モード設定部
８１ 処理領域表示画面
８２ パラメータ設定画面
９５ 表示部
１００ 図形描画システム
ＲＴ 処理領域
Ｒ パターン領域
Ｐａ１ 指定パラメータ
Ｐａ２ 基準パラメータ
Ｄ０ 設計データ
Ｄ２ 画像データ
Ｄ２１ 指定画像
Ｄ２２ 基準画像
Ｓ 差分
【技術分野】
【０００１】
本発明は、直接描画装置で用いられる描画データを事前にディスプレイ上に表示する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、フォトマスクを用いずに、ＣＡＤ（Computer Aided Design）などで設計されたベクトル形式の設計データから、半導体基板などの描画対象物に直接パターンを描画する方式（以下において、直接描画方式と称する）が導入されはじめている。
【０００３】
直接描画方式によって、パターンを描画する装置（以下において、「直接描画装置」と称する。）では、ベクトル形式の設計データをＲＩＰ（Raster Image Processing）展開することで生成されるラスターデータを使用して描画が行われる。
【０００４】
このような直接描画方式の場合、ＲＩＰ展開が正しく実行されたか否かについてラスターデータ自体の検査を行う必要がある。
【０００５】
例えば、特許文献１には、ベクトル形式で記述された設計データを描画用のラスターデータに変換してから、再度ラスターデータをベクトル形式に記述されたデータに変換し、設計データとベクトル形式に変換されたデータとを比較する技術が開示されている。
【０００６】
また、特許文献２には、ベクトル形式に記述された設計データと、設計データから変換された描画データとを比較して差分図形を求め、当該差分図形を除去することで、データ変換による不具合以外の誤差要因を取り除き、ラスターデータの検査を行う技術が開示されている。
【０００７】
また、特許文献３には、基板に配線パターンを描画する際に適用される描画条件の各値と、欠陥の判定に用いられる閾値とが比較されて、欠陥の有無を判定する技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００８−２４２８８５号公報
【特許文献２】特開２００９−１１１１４８号公報
【特許文献３】特許第４４５０７６９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ところで、このようなＲＩＰ展開は、事前に設定された所定のＲＩＰパラメータに基づいて行われる。しかしながら、オペレータは、例えばエッチング液の状態などのプロセス工程の条件、直接描画装置のスペックによる制約、または描画方針の変更などにより、描画処理が行われる直前に、ＲＩＰパラメータを変更しなければならない場合がある。この場合、変更後のＲＩＰパラメータの設定ミスが生じる可能性などのため、オペレータは、ＲＩＰパラメータ変更の前後で、ＲＩＰ展開後の画像データが表すパターンがどのように変化しているかを確認する必要がある。
【００１０】
特許文献１ないし特許文献３に開示されている技術では、パラメータの変更による画像データが表すパターンの変化部分の見落としが生じやすかった。また、検査を行うにあたって、設計データ全体をＲＩＰ展開しなければならないため、時間ロスが増大する問題もあった。
【００１１】
そして、このような問題は、描画処理を行う前にＲＩＰパラメータを変更する場合に限られず、一般に、互いに異なる２つのＲＩＰパラメータに基づくＲＩＰ展開後の画像データの差分を確認する場合に起こりうる。
【００１２】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、描画処理の実行前に、互いに異なる２つのＲＩＰパラメータ各々に基づくＲＩＰ展開によって生成された、図形の描画に供される２つの画像データの差分を見落とすことなく速やかに確認できる技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
第１の発明は、描画ビームの走査によって所定のパターンを描画対象物に直接描画する直接描画装置用の画像表示装置であって、前記パターンを記述したベクトル形式の設計データを取得する取得部と、前記設計データのＲＩＰ展開に使用される指定パラメータを設定する指定パラメータ設定部と、ＲＩＰ展開される前記設計データの処理領域を設定する処理領域設定部と、前記指定パラメータと所定の基準パラメータとを用いて、前記設計データのうち前記処理領域に対応する部分をそれぞれＲＩＰ展開して、指定画像と基準画像とを得る表示用ＲＩＰ展開部と、前記指定画像と前記基準画像とを重ね合わせて可視的に表示する表示部と、を備え、前記表示用ＲＩＰ展開部におけるＲＩＰ展開は、前記直接描画のための描画用ＲＩＰ展開よりもデータ処理量を抑制した表示用ＲＩＰ展開であり、かつ前記表示部は、前記指定画像と前記基準画像との差分を、前記指定画像と前記基準画像との共通部分とは視覚的に区別可能に表示させることを特徴とする。
【００１４】
第２の発明は、第１の発明に係る直接描画装置用の画像表示装置であって、前記表示部は、前記差分を前記共通部分よりも視覚的に強調して表示させることを特徴とする。
【００１５】
第３の発明は、第１の発明または第２の発明に係る直接描画装置用の画像表示装置であって、前記指定パラメータの更新に応答して、前記表示用ＲＩＰ展開がなされ、かつ前記表示部における表示が更新されることを特徴とする。
【００１６】
第４の発明は、第１の発明ないし第３の発明に係る直接描画装置用の画像表示装置であって、前記表示用ＲＩＰ展開部は、前記処理領域が、前記パターンの部分領域に対応する場合には、第１の解像度で前記表示用ＲＩＰ展開を行う一方で、前記処理領域が、前記パターンの全体領域に対応する場合には、第２の解像度で前記表示用ＲＩＰ展開を行い、前記第２の解像度は前記第１の解像度よりも低いことを特徴とする。
【００１７】
第５の発明は、第１の発明ないし第４の発明のいずれか一つに係る直接描画装置用の画像表示装置であって、前記基準パラメータの決定に関する複数のモードから一のモードを設定するモード設定部と、設定された前記一のモードに応じて、前記基準パラメータを設定する前記基準パラメータ設定部と、をさらに備えることを特徴とする。
【００１８】
第６の発明は、第１の発明ないし第５の発明のいずれか一つに係る直接描画装置用の画像表示装置であって、前記指定画像と前記基準画像と前記差分とが、一の画面エリア中に、相互に位置合わせされた状態で複合表示されていることを特徴とする。
【００１９】
第７の発明は、第６の発明に係る直接描画装置用の画像表示装置であって、前記表示部における前記差分の表示色は、前記指定画像と前記基準画像とのそれぞれの表示色とは異なることを特徴とする。
【００２０】
第８の発明は、第７の発明に係る直接描画装置用の画像表示装置であって、前記差分の値が正の場合の前記差分の表示色と、前記差分の値が負の場合の前記差分の表示色とが異なることを特徴とする。
【００２１】
第９の発明は、描画ビームの走査によって所定のパターンを描画対象物に直接描画する直接描画装置用の表示画面を備えるコンピュータが読み取り可能なプログラムであって、前記コンピュータが前記プログラムを読み取り、前記コンピュータのＣＰＵがメモリを用いて前記プログラムを実行することにより、前記コンピュータを、前記パターンを記述したベクトル形式の設計データを取得する取得部と、前記設計データのＲＩＰ展開に使用される指定パラメータを設定する指定パラメータ設定部と、ＲＩＰ展開される前記設計データの処理領域を設定する処理領域設定部と、前記指定パラメータと所定の基準パラメータとを用いて、前記設計データのうち前記処理領域に対応する部分をそれぞれＲＩＰ展開して、指定画像と基準画像とを得る表示用ＲＩＰ展開部と、前記指定画像と前記基準画像とを重ね合わせて前記表示画面に可視的に表示する表示部と、を備え、前記表示用ＲＩＰ展開部におけるＲＩＰ展開は、前記直接描画のための描画用ＲＩＰ展開よりもデータ処理量を抑制した表示用ＲＩＰ展開であり、かつ前記表示部は、前記指定画像と前記基準画像との差分を、前記指定画像と前記基準画像との共通部分とは視覚的に区別可能に表示させることを特徴とする画像表示装置として機能させる。
【発明の効果】
【００２２】
第１の発明から第９の発明によると、描画用ＲＩＰ展開よりもデータ処理量を抑制した表示用ＲＩＰ展開でＲＩＰ展開して表示させることにより、指定パラメータが設定される都度、速やかにＲＩＰ展開を行うことができる。また、指定パラメータに基づく表示用ＲＩＰ展開によって得られた指定画像と、基準パラメータに基づく表示用ＲＩＰ展開によって得られた基準画像との差分が視覚的に区別可能な状態で表示部に表示される。このため、指定画像と基準画像との差分を見落とすことなく確認することが可能である。
【００２３】
特に、第２の発明によると、差分は指定画像と基準画像との共通部分よりも視覚的に強調して表示されているため、差分の検出が行いやすくなる。
【００２４】
特に、第３の発明によると、指定パラメータの更新に応答して、表示用ＲＩＰ展開がなされて表示が更新されるため、ＲＩＰ展開後の画像データをより速やかに確認することができる。
【００２５】
特に、第４の発明によると、処理領域が、パターンの部分領域に対応する場合には、第１の解像度で表示用ＲＩＰ展開が行われ、処理領域が、パターンの全体領域に対応する場合には、第１の解像度よりも低い第２の解像度で表示用ＲＩＰ展開が行われる。このため、表示用ＲＩＰ展開を速やかに実行することができる。
【００２６】
特に、第５の発明によると、基準パラメータの決定に関する複数のモードから選択された一のモードに応じて基準パラメータが設定される。従って、指定パラメータとの比較目的に応じた基準パラメータを設定することができる。
【００２７】
特に、第６の発明によると、指定画像と基準画像と差分とが、一の画面エリア中に、相互に位置合わせされた状態で複合表示されている。従って、差分が形成されている位置を容易に把握することができる。
【００２８】
特に、第７の発明によると、表示部における差分の表示色は、指定画像と基準画像とのそれぞれの表示色とは異なる。このため、差分の検出は容易に行いやすくなる。
【００２９】
特に、第８の発明によると、差分の値が正の場合の差分の表示色と、差分の値が負の場合の差分の表示色とが異なるため、指定画像と基準画像とのうち、いずれの画像が大きいことによる差分であるかが容易に確認できる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】本実施形態における直接描画装置用の画像表示装置が組み込まれた図形描画システムの構成を示す図である。
【図２】画像処理装置のハードウェア構成を示すブロック図である。
【図３】画像処理装置の操作ＧＵＩを示す概略図である。
【図４】画像処理装置の機能的構成を示す概略図である。
【図５】画像処理装置における処理の流れを示すフローチャートである。
【図６】各モードにおける差分抽出画像を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００３１】
以下、添付の図面を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。以下の実施形態は、本発明を具体化した一例であり、本発明の技術的範囲を限定する事例ではない。
【００３２】
図１には、本発明の実施形態に係る直接描画装置用の画像表示装置が組み込まれた図形描画システム１００が示されている。この図形描画システム１００は、例えば半導体基板上のレジスト層を選択的に露光することにより、レジスト層に回路パターンに相当する図形を直接描画するシステムとして使用される。
【００３３】
図形描画システム１００は、設計データ作成装置１、画像処理装置２、および描画装置３を備える。これらの各装置１，２，３は、ＬＡＮなどのネットワークＮを介して相互に接続されている。
【００３４】
設計データ作成装置１は、描画対象物に描画すべきパターン領域を記述したデータの作成及び編集を行う装置である。具体的にデータは、ＣＡＤによってベクトル形式で記述された図形データとして作成される。以下において、このデータを設計データＤ０と称する。
【００３５】
設計データ作成装置１で作成された設計データＤ０は、画像処理装置２と描画装置（直接描画装置）３との双方で受け取ることができる。画像処理装置２と描画装置３とはいずれもＲＩＰ展開機能を有するが、それらのＲＩＰ展開は、異なる目的で実行される。すなわち、描画装置３のデータ処理部３ａは設計データＤ０をＲＩＰ展開し、描画用のラスターデータとする機能（以下、「描画用ＲＩＰ展開」と称する。）を有する。そのようにして得られたラスターデータに基づいて、描画制御部３ｂはレーザビームをＯＮ／ＯＦＦ変調しつつ、描画対象物（基板）の２次元走査を行って選択的な露光を行う。
【００３６】
一方、画像処理装置２は、描画用ＲＩＰ展開を行うよりも前の段階で、設計データ作成装置１から設計データＤ０を取得し、当該取得した設計データＤ０を予備的にＲＩＰ展開して表示用のラスターデータとする機能（以下、「表示用ＲＩＰ展開」と称する。）と、そのようにして得られたラスターデータに基づいてリアルタイムで可視的な表示を行う機能とを有する。換言すれば、画像処理装置２はパターン領域の画像のプレビュー機能を有する。プレビュー機能は全パターン領域の縮小表示と、部分パターン領域の拡大表示とのいずれをも含むことができる。本実施形態での画像処理装置２は、この発明における「直接描画装置用の画像表示装置」としての機能を有する。
【００３７】
描画用ＲＩＰ展開は、実際の描画に必要な解像度で描画パターン全体をＲＩＰ展開するものである。一方、表示用ＲＩＰ展開は、ディスプレイ上での表示用に行われるものであり、描画用ＲＩＰ展開と比較して低解像度で、あるいはパターン領域の全体ではなく部分的な領域だけをＲＩＰ展開するなど、描画用ＲＩＰ展開よりも簡易な処理である。従って、ＲＩＰ展開に要する処理時間も描画用ＲＩＰ展開より短く、保持するデータ量も描画用ＲＩＰ展開よりも少なくて済む。
【００３８】
すなわち、画像処理装置２では、描画用ＲＩＰ展開よりもデータ処理量を抑制した表示用ＲＩＰ展開で設計データＤ０の該当部分をＲＩＰ展開して表示させることにより、画像のプレビュー表示のためのデータ処理を高速化し、パラメータ更新などに対する画像表示の更新のリアルタイム性を確保している。
【００３９】
以下において、表示用ＲＩＰ展開で得られたラスターデータを画像データＤ２と称する。
【００４０】
なお、これらにおけるラスターデータ（ラスタイメージデータ）とは、周知のように、複数の画素を形成する２値画像データを主走査方向に配列したデータ（ラインデータ）を、主走査方向とは直交する副走査方向に多数配列したものに相当するデータである。
【００４１】
描画用ＲＩＰ展開では、ベクトル形式で記述された設計データＤ０をラスターデータに変換する。さらに、このラスターデータをランレングス符号化処理し、圧縮された描画用ランレングスデータは、描画装置３内に組み込まれた描画制御部３ｂに出力される。得られたランレングスデータは、設計データＤ０におけるパターン領域が、走査線ごとに各露光区間の長さを順次に配列した連鎖によって記述されたデータとなる。
【００４２】
本実施形態に係る画像処理装置２では、描画用ＲＩＰ展開のために設定されるＲＩＰパラメータ（以下において、指定パラメータＰａ１と称する場合がある。）と、当該指定パラメータＰａ１と比較される基準のＲＩＰパラメータ（以下において、基準パラメータＰａ２と称する。）とのそれぞれに基づいて、設計データＤ０が表示用ＲＩＰ展開されることで生成された２つの画像データＤ２の差分抽出も行われる。これについては、後に詳述する。
【００４３】
描画装置３は、データ処理部３ａが設計データＤ０をＲＩＰ展開して得た描画用の画像データＤ１に基づいて、走査描画部３ｃが基板（描画対象物）上にパターン領域を直接露光する装置である。描画装置３の描画制御部３ｂは、設計データ作成装置１から設計データＤ０と画像処理装置２から描画用ＲＩＰ展開に使用される指定パラメータＰａ１とを取得し、指定パラメータＰａ１に従って設計データＤ０のＲＩＰ展開（描画用ＲＩＰ展開）を行う。これによって描画用の画像データＤ１を生成し、走査描画部３ｃはその画像データＤ１に基づいてパターン領域の光ビーム走査による描画を実行する。これにより、図形パターンに相当する二次元画像が描画対象物に記録される。
【００４４】
例えば走査描画部３ｃは、デジタルマイクロミラーデバイス等の空間光変調素子を用いて描画用の画像データＤ１に応じて変調した光ビームを半導体基板上のレジスト層（一般には感光層）に照射し、基板に配線パターンを描画する。
【００４５】
なお、本実施形態では描画装置３内のデータ処理部３ａで描画用ＲＩＰ展開を行う場合について説明しているが、画像処理装置２と描画装置３との間に設けた専用のＲＩＰ装置で描画用ＲＩＰ展開を行ってから、描画用画像データＤ１を描画装置３に送信する形態であってもよい。また、画像処理装置２において、指定パラメータＰａ１で設計データＤ０の描画用ＲＩＰ展開が行われ、それによって生成された描画用の画像データＤ１が描画装置３に送信される形態であってもよい。これらの場合には、描画装置３のデータ処理部３ａはＲＩＰ展開機能を備える必要はない。
【００４６】
なお、画像処理装置２は、描画装置３の外部に設置される必要はなく、描画装置３と一体の構成であってもよい。また、画像処理装置２にＣＡＤが搭載されており、画像処理装置２に搭載されたＣＡＤで直接設計データＤ０が作成される構成であってもよい。
【００４７】
図２には、コンピュータによって構成された画像処理装置２のハードウェア構成がブロック図で示されている。
【００４８】
画像処理装置２は、ＣＰＵ９１、ＲＯＭ９２、メモリ９３、メディアドライブ９４、表示部９５、操作部９６等で構成されている。これらのハードウェアは、それぞれバスライン９７によって電気的に接続された構成となっている。
【００４９】
ＣＰＵ９１は、ＲＯＭ９２に記憶されたプログラム（または、メディアドライブによって読み込まれたプログラム）Ｐに基づいて、上記ハードウェア各部を制御し、画像処理装置２の機能を実現する。
【００５０】
ＲＯＭ９２は、画像処理装置２の制御に必要なプログラムＰやデータを予め格納した読み出し専用の記憶装置である。
【００５１】
メモリ９３は、読み出しと書き込みとが可能な記憶装置であり、ＣＰＵ９１による演算処理の際に発生するデータなどを一時的に記憶する。メモリ９３は、ＳＲＡＭ、ＤＲＡＭなどで構成される。
【００５２】
メディアドライブ９４は、記録媒体（より具体的には、ＣＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ（Digital Versatile Disk））、フレキシブルディスクなどの可搬性記録媒体）Ｍからその中に記憶されている情報を読み出す機能部である。
【００５３】
操作部９６は、キーボード及びマウスによって構成される入力デバイスであり、コマンドや各種データの入力といったユーザ操作を受け付ける。操作部９６が受けたユーザ操作は信号としてＣＰＵ９１に入力される。
【００５４】
表示部９５は、カラーＬＣＤのようなディスプレイ等を備え、各種のデータや動作状態を可変表示する。この表示部９５では、図３に示される操作ＧＵＩ（Graphic User Interface）８０が表示される。
【００５５】
ここで、図３を参照しつつ、操作ＧＵＩ８０について説明する。操作ＧＵＩ８０は、例えば図３に示されるように、設計データＤ０で規定されるパターン領域の一部を表示用ＲＩＰ展開後の画像データＤ２に基づいて表示する処理領域表示画面８１と、指定パラメータＰａ１の設定入力が行われる入力欄を表示するパラメータ設定画面８２と、を備える。操作ＧＵＩ８０では、これらの処理領域表示画面８１とパラメータ設定画面８２とが並列的に表示されている。
【００５６】
指定パラメータＰａ１には、例えば設計データＤ０のファイル名称、レイヤーの番号、サイジング（拡大や縮小）の値、階調反転の有無、回転の角度、ミラー反転の有無、エッジ露光条件などの各項目が挙げられる。
【００５７】
なお、基準パラメータＰａ２も指定パラメータＰａ１と同様の各項目で構成されている。この基準パラメータＰａ２として設定されるパラメータ値は、複数のモードから選択された一のモードに基づいて設定されるが、これについては後に詳述する。
【００５８】
図３に示されるパラメータ設定画面８２の「Input CAD Data」２０１でＣＡＤファイルの名称が入力される。ここで入力されたＣＡＤファイルが設計データＤ０として取り込まれ、それを所定の初期パラメータでＲＩＰ展開した初期画像が処理領域表示画面８１に表示される。初期パラメータは、サイジングや階調反転などの調整処理を行わずに、設計データＤ０に忠実にＲＩＰ展開するためのＲＩＰパラメータであり、初期表示用としてあらかじめ装置内に設定されている。
【００５９】
また、「Layer Merge」２０２では、レイヤー番号が設定される。「Sizing」２０３では、Ｘ方向及びＹ方向における線幅の太らせ幅又は細らせ幅が入力される。例えば、図３に示される設定値の場合、線幅は、デフォルトの線幅からＸ方向に１０００ｎｍ細らせ、Ｙ方向に５００ｎｍ太らせた線幅に設定される。「Reverse」２０４では、画像データＤ２のパターン領域の階調を反転するか否かについて選択される。「Rotation」２０５では、画像データＤ２のパターン領域の回転角度が設定される。回転角度は任意の値が入力されてもよいし、予め設定された値を選択する形態であってもよい。画像データＤ２のパターン領域を回転させない場合には、ゼロの値が設定される。
【００６０】
また、「Mirror」２０６では、ミラー反転を行うか否かについて設定される。「Wafer Info」２０７では、描画対象物となる基板のサイズ及び装置における初期設定位置について入力される。「Use Edge Expose」２０８では、エッジ露光条件が入力される。エッジ露光条件とは、基板に形成されたチップの外側を円形に囲むようにして形成される露光領域の設定条件である。具体的には、エッジ露光を行うか否かについて、また、エッジ露光を行う場合には、露光領域が形成される基板上の位置（外側位置又は内側位置）と露光幅について設定される。なお、これらは、あくまでも指定パラメータＰａ１の一例であり、これに限られるものではない。
【００６１】
これらの指定パラメータＰａ１は、「Ticket Name」２１０に保存名が入力され、「Save」キー２１４がクリックされることによって、指定パラメータＰａ１のセットとして、後述する指定パラメータ保存部２３に保存される。
【００６２】
指定パラメータＰａ１を用いた表示用ＲＩＰ展開は、これらの指定パラメータＰａ１が、操作ＧＵＩ８０のパラメータ設定画面８２に入力された後で、操作ＧＵＩ８０上の「Update View」キー２１５がクリックされることにより実行される。なお、指定パラメータＰａ１が操作ＧＵＩ８０に入力される都度、表示用ＲＩＰ展開が行われる形態であってもよい。
【００６３】
指定パラメータＰａ１が最初に設定されるまでは、事前に設定されている初期パラメータで設計データＤ０を比較的低解像度でＲＩＰ展開した画像データＤ２（初期画像）だけが処理領域表示画面８１に表示されている状態である。指定パラメータＰａ１が設定されて、その指定パラメータＰａ１を用いたＲＩＰ展開がなされた後には、初期画像表示は比較画像表示に切り替わる。比較画像表示では、指定パラメータＰａ１で表示用ＲＩＰ展開した画像（以下において、指定画像Ｄ２１と称する。）と、基準パラメータＰａ２で表示用ＲＩＰ展開した画像（以下において、基準画像Ｄ２２）とが重ね合わされた状態で処理領域表示画面８１に表示され、そこでは差分Ｓの部分が強調表示される。なお、初期パラメータは、サイジングや階調反転などの調整処理を行わずに、設計データＤ０に忠実にＲＩＰ展開するためのＲＩＰパラメータであり、初期表示用としてあらかじめ装置内に設定されている。
【００６４】
表示用ＲＩＰ展開は、パターン領域のうちオペレータが処理領域表示画面８１に表示させることを意図した部分（以下「表示対象部分」）についてのみリアルタイムで実行される。具体的には、ユーザ操作によって、パターン領域の表示対象部分が設定されると、当該表示対象部分に相当する２次元座標範囲が特定される。この特定された２次元座標範囲に対応する部分の設計データＤ０のみが、指定パラメータＰａ１に従ってＲＩＰ展開される。そして、ＲＩＰ展開によって得られた画像データＤ２に基づく表示対象部分の指定画像Ｄ２１が、処理領域表示画面８１内に、その部分に相当する基準画像Ｄ２２とともに、差分Ｓが強調された態様で表示される。
【００６５】
上記のような表示対象部分の設定は、処理領域表示画面８１の側方に設けられたスクロールバー２２０によって処理領域表示画面８１に表示されているパターン領域をＸ方向又はＹ方向に移動させること、またはマウスのダブルクリックなどによりパターン領域の表示倍率を調節することによって行われる。なお、処理領域表示画面８１上でマウスをドラッグアンドドロップすることによりパターン領域を移動させる態様であってもよい。
【００６６】
操作ＧＵＩ８０の処理領域表示画面８１の下方には、モード設定欄２３０が設けられている。このモード設定欄２３０で、複数のモードから一のモードが選択されることによって、モード設定部３１が基準パラメータＰａ２の決定に関するモードを設定する。そして、設定された一のモードに応じて基準パラメータ設定部２４が基準パラメータＰａ２を設定する。これについては後に詳述する。
【００６７】
なお、ＲＩＰパラメータは、操作ＧＵＩ８０上で設定される値に限られない。例えば、最小ランは、描画装置３のスペックによって決定される。この最小ランは、描画装置３が描画可能な最小の画素値を表している。つまり、描画装置３では、この最小ランの値よりも小さい画素は、装置のスペック上、描画することができないため、当該画素よりも小さい画素の隙間を潰すことで描画は行われる。
【００６８】
図４には、画像処理装置２の機能的構成を表すブロック図が示されている。
【００６９】
画像処理装置２は、設計データ取得部２０、設計データ保存部２１、指定パラメータ設定部２２、指定パラメータ保存部２３、処理領域設定部２５、表示用ＲＩＰ展開部２６、基準パラメータ設定部２４、差分抽出部２７、差分強調表示部２８、送信部３０、およびモード設定部３１を備える。これらの各部の機能は、ＲＯＭ９２に予め格納されたプログラムＰ、あるいはメディアドライブ９４によって記録媒体Ｍに記録されているプログラムＰが読み出され、ＣＰＵ９１において実行されることによって実現する。
【００７０】
設計データ取得部２０は、設計データ作成装置１からネットワークＮを介して描画すべきパターン領域が記述された設計データＤ０を取得する。なお、ネットワークＮに限らず、例えば可般型記憶媒体を介して、設計データＤ０が取得されてもよい。
【００７１】
設計データ保存部２１は、設計データ取得部２０で取得された設計データＤ０を保存する。保存された設計データＤ０は適宜読み出されて、表示用ＲＩＰ展開に使用される。
【００７２】
指定パラメータ設定部２２は、設計データＤ０がＲＩＰ展開されるときのＲＩＰパラメータ（指定パラメータＰａ１）を設定する。具体的に、オペレータが、パラメータ設定画面８２に操作部９６を介して指定パラメータＰａ１の値を入力することによって、当該指定パラメータＰａ１が指定パラメータ設定部２２に設定される。
【００７３】
指定パラメータ保存部２３は、指定パラメータ設定部２２で設定された指定パラメータＰａ１を保存する。保存された指定パラメータＰａ１は、基準パラメータＰａ２に設定されるため、または描画用ＲＩＰ展開に使用されるＲＩＰパラメータに設定されるなどのため、適宜読み出される。
【００７４】
処理領域設定部２５は、初期画像表示、または比較画像表示での画像データＤ２のパターン領域から処理領域ＲＴを設定する。具体的に、処理領域表示画面８１に表示されているパターン領域に対して、スクロール、ズームイン、又はズームアウトなどのユーザ操作が操作部９６を介して行われる。これによって、オペレータが目視で確認したいパターン領域の部分またはパターン領域全体が処理領域表示画面８１に表示される。これによって、処理領域ＲＴが設定される。つまり、処理領域ＲＴは、処理領域表示画面８１に表示されているパターン領域の部分または全体であり、上述の表示対象部分に相当する。
【００７５】
一般に、オペレータはパターン領域全体の各部を平等に確認することはなく、オペレータが特に確認したい部分は限定される。それは主として、描画工程やプロセス上でエラーが生じ易い特定の幾何学的特徴を有する部分であり、例えば、パターン領域の曲線部分、鋭角部分、細線部分、頂点部分などの部分領域が処理領域ＲＴ（表示対象部分）として設定される。
【００７６】
また、パターン領域の画像全体（全体領域）が処理領域ＲＴとして設定される場合には、複数のチップの配置具合、エッジの処理具合、などが確認される。
【００７７】
モード設定部３１は、指定パラメータＰａ１と基準パラメータＰａ２とを比較するモードを設定する。モードとして、例えば、装置制限強調モード、前回条件比較モード、パラメータ調整モード、及びデフォルト比較モードなどが挙げられる。オペレータは、操作ＧＵＩ８０上に設けられたモード設定欄２３０での選択操作を行うことにより、複数のモードから一のモードを選択する。このようにして選択されたモードがモード設定部３１に設定される。
【００７８】
基準パラメータ設定部２４は、モード設定部３１で設定されたモードに応じて基準パラメータＰａ２を設定する。具体的に、装置制限強調モードでは、最小ランがゼロのときの指定パラメータＰａ１が、基準パラメータＰａ２となる。つまり、描画装置３の装置条件による制約が存在しない場合の指定パラメータＰａ１が基準パラメータＰａ２として設定される。
【００７９】
前回条件比較モードでは、前回の描画用ＲＩＰ展開で使用した指定パラメータＰａ１のセットが基準パラメータＰａ２となる。この場合、モードが設定された段階で、該当する指定パラメータＰａ１が指定パラメータ保存部２３から読み出され、基準パラメータＰａ２として設定される。
【００８０】
パラメータ調整モードでは、前回の表示用ＲＩＰ展開で使用した指定パラメータＰａ１のセットが基準パラメータＰａ２となる。この場合においても、モードが設定された段階で、該当する指定パラメータＰａ１が指定パラメータ保存部２３から読み出され、基準パラメータＰａ２として設定される。
【００８１】
デフォルト比較モードでは、予め指定パラメータ保存部２３に基準パラメータＰａ２として設定されているＲＩＰパラメータのセットが、基準パラメータＰａ２となる。この基準パラメータＰａ２は、オペレータによって設定入力されたＲＩＰパラメータである。この場合においても、モードが設定された段階で、該当する指定パラメータＰａ１が指定パラメータ保存部２３から読み出され、基準パラメータＰａ２として設定される。
【００８２】
表示用ＲＩＰ展開部２６は、指定パラメータ設定部２２で設定された指定パラメータＰａ１と、基準パラメータ設定部２４で設定された基準パラメータＰａ２とのそれぞれに基づいて、処理領域ＲＴ（表示対象部分）に対応する設計データＤ０をＲＩＰ展開（表示用ＲＩＰ展開）する。これによって、設計データＤ０のうち処理領域ＲＴに対応する部分が、指定パラメータＰａ１と基準パラメータＰａ２とのそれぞれに対応した表示用の２セットの画像データＤ２に変換される。表示用ＲＩＰ展開は、例えば、指定パラメータＰａ１の入力完了のタイミング、又は操作ＧＵＩ８０上の「Update View」キー２１５のクリックを契機に開始され、即時実行される。
【００８３】
差分抽出部２７は、指定パラメータＰａ１を用いてＲＩＰ展開された指定画像Ｄ２１と基準パラメータＰａ２を用いてＲＩＰ展開された基準画像Ｄ２２との２つの画像の画素ごとの差分Ｓを抽出する。例えば、指定画像Ｄ２１の各画素から対応する基準画像Ｄ２２の各画素を差し引くことで、差分Ｓは抽出される。この場合には、差分Ｓの値が正になる部分は、描画（露光）範囲が増加した部分に相当する。また、差分Ｓの値が負になる部分は、描画（露光）範囲が減少した部分に相当する。なお、差分抽出処理は、基準画像Ｄ２２の各画素から対応する指定画像Ｄ２１の各画素を差し引くことで行われてもよい。
【００８４】
差分強調表示部２８は、差分抽出部２７で抽出された差分Ｓを視覚的に強調して処理領域表示画面８１に表示する。このとき、処理領域表示画面８１では、指定画像Ｄ２１と基準画像Ｄ２２とが重ねて表示されている。差分Ｓは、指定画像Ｄ２１と基準画像Ｄ２２との非共通部分、すなわち重なりが生じていない部分として表示されている。
【００８５】
この差分Ｓは、重ね合わされた指定画像Ｄ２１と基準画像Ｄ２２との共通部分とは異なる表示色で表示されている。また、例えば差分Ｓの値が正になる部分と、差分Ｓの値が負になる部分とは異なる表示色が使用される。特に、これらの色は補色の関係にあることが好ましい。
【００８６】
なお、表示色が異なる形態に限られず、例えば差分Ｓの部分に異なる模様が付与された形態（たとえば異なる斜線が引かれた形態）、又は差分Ｓの階調値が異なる形態など、差異の存在が視覚的に強調して表示された形態であれば構わない。
【００８７】
送信部３０は、描画用ＲＩＰ展開で使用することが決定した指定パラメータＰａ１のセットを描画装置３に送信する。
【００８８】
ここで、図５に示されるフローチャートに従って、処理の流れについて説明する。
【００８９】
はじめに、設計データ取得部２０が、設計データ作成装置１で作成された設計データＤ０を、ネットワークＮを介して取得する（ステップＳ１）。取得した設計データＤ０は設計データ保存部２１に保存される。
【００９０】
オペレータは、操作ＧＵＩ８０を介して設計データ保存部２１に保存されている各種の設計データＤ０の中から所望の設計データＤ０を選択する。選択された設計データＤ０が初期パラメータを用いて表示用ＲＩＰ展開され、これによって、当該設計データＤ０に忠実な初期画像が操作ＧＵＩ８０の処理領域表示画面８１に表示される。なお、設計データ取得部２０が取得した設計データＤ０を直接に初期パラメータで表示用ＲＩＰ展開し、操作ＧＵＩ８０の処理領域表示画面８１に表示させる形態であってもよい。
【００９１】
続いて、モードが設定される（ステップＳ２）。具体的には、オペレータが、操作ＧＵＩ８０のモード設定欄２３０で、複数のモードの中から一のモードを選択することによって、モードが設定される。
【００９２】
続いて、オペレータは、操作部９６を介して、処理領域ＲＴを設定する（ステップＳ３）。具体的には、オペレータは、処理領域表示画面８１に表示されているパターン領域を見ながら操作を行い、確認したい領域を処理領域表示画面８１に表示させる。このとき、オペレータが部分領域を確認したい場合には、拡大操作を行うことにより、一部の画像が拡大表示され、線幅、又は形状を細かく確認することができる状態になる。
【００９３】
続いて、オペレータが操作ＧＵＩ８０のパラメータ設定画面８２に指定パラメータＰａ１を入力する。これによって、指定パラメータＰａ１が設定される（ステップＳ４）。操作ＧＵＩ８０への指定パラメータＰａ１の入力が完了した段階、または「Save」キー２１４のクリックにより、当該指定パラメータＰａ１のセットは指定パラメータ保存部２３に保存される。
【００９４】
そして、基準パラメータＰａ２が基準パラメータ設定部２４によって設定される（ステップＳ５）。つまり、設定されたモードに応じたＲＩＰパラメータのセットが指定パラメータ保存部２３から読み出されて基準パラメータＰａ２は設定される。特に、モードが装置制限モードである場合には、指定パラメータＰａ１が設定されることによって、基準パラメータＰａ２は生成する。なお、モードが装置制限モード以外のその他のモードである場合には、モードが設定された段階で、設定されたモードに応じたＲＩＰパラメータのセットが指定パラメータ保存部２３から読み出され、基準パラメータＰａ２として設定されてもよい。
【００９５】
指定パラメータＰａ１が入力された段階で、パラメータ設定画面８２の「Update View」キー２１５がオペレータによってクリックされる。これを契機に、表示用ＲＩＰ展開が即時実行される（ステップＳ６）。
【００９６】
このとき、処理領域表示画面８１における処理領域ＲＴの表示倍率に応じた解像度で表示用ＲＩＰ展開は実行される。具体的に、表示倍率が大きくなる場合、すなわち処理領域ＲＴである表示対象部分がパターン領域の部分領域であって、当該部分領域が処理領域表示画面８１に拡大表示されている場合には、比較的高解像度で表示用ＲＩＰ展開が行われる。
【００９７】
また、表示倍率が小さくなる場合、すなわち処理領域ＲＴである表示対象部分がパターン領域の全体領域であって、当該全体領域が処理領域表示画面８１に縮小表示されている場合には、比較的低解像度で表示用ＲＩＰ展開が行われる。つまり、処理領域ＲＴがパターン領域の部分領域であるときのＲＩＰ展開の解像度は、処理領域ＲＴがパターン領域の全体領域であるときのＲＩＰ展開の解像度よりも小さくなる。
【００９８】
つまり、処理領域ＲＴがパターン領域の部分領域に対応する場合には、表示用ＲＩＰ展開は設計データＤ０の一部分に対して限定的に行われるため、また処理領域ＲＴがパターン領域の全体領域に対応する場合には、表示用ＲＩＰ展開は粗く行われるため、表示用ＲＩＰ展開は、描画用ＲＩＰ展開よりもデータ処理量が抑制されたＲＩＰ展開となる。
【００９９】
指定画像Ｄ２１と基準画像Ｄ２２との共通部分（重なり部分）は、それぞれにおいて描画対象となる各画素を論理値「１」として、対応する画素ごとの論理積をとって得た論理合成画像として特定することができる。
【０１００】
差分抽出部２７は、この指定画像Ｄ２１と基準画像Ｄ２２との差分Ｓを抽出する（ステップＳ７）。具体的には、各画素について指定画像Ｄ２１から基準画像Ｄ２２を差し引くことで差分Ｓは抽出される。
【０１０１】
そして、差分強調表示部２８が、差分Ｓを指定画像Ｄ２１及び基準画像Ｄ２２に重ねるようにして処理領域表示画面８１に表示させる。具体的には、指定画像Ｄ２１と基準画像Ｄ２２と差分Ｓとを、相互に位置合わせしつつ、同一の画面エリア中に、相互に位置合わせされた状態で複合表示させる。
【０１０２】
このとき、差分Ｓは、指定画像Ｄ２１及び基準画像Ｄ２２とは異なる表示色で表示されている。また、差分Ｓの値が正になる部分と差分Ｓの値が負になる部分とにおいても異なる表示色で表示されている。このようにして、差分Ｓの領域は視覚的に強調して表示される（ステップＳ８）。
【０１０３】
より具体的には、黒く表示された背景部分の中で、指定画像Ｄ２１と基準画像Ｄ２２との共通部分（重なり部分）を基準色（たとえば白）で表示させ、差分Ｓの値が正になる部分は赤系統の色で表示し、差分Ｓの値が負になる部分は青系統の色で表示することにより、背景部分（非描画部分）、共通部分、増加部分、減少部分の４種を異なる視覚的態様で表示させる。このように、背景部分や共通部分は無彩色とし、差分Ｓ（増加部分、減少部分）を有彩色とすることによって、差分Ｓの視覚的な強調がなされる。
【０１０４】
なお、差分Ｓと他の部分（背景部分や共通部分）とが視覚的に区別がつけば他の態様でもかまわない。例えば、差分Ｓがより強調されるように、たとえば差分Ｓを間欠的にフラッシュ表示するなどの態様も採用可能である。
【０１０５】
図６には、各比較モードでの指定画像Ｄ２１、基準画像Ｄ２２、そして差分Ｓが表示された画像（以下において、差分表示画像Ｄ２３と称する。）が示されている。図６では、いずれも処理領域ＲＴがパターン領域の部分領域として表示されている。なお、ここでは、差分抽出処理は、基準画像Ｄ２２の各画素から対応する指定画像Ｄ２１の各画素を差し引くことで行われている。
【０１０６】
図６には、装置制限強調モードでの指定画像Ｄ２１、基準画像Ｄ２２、そして、差分表示画像Ｄ２３が示されている（ＳＴ１１）。最小ランが設定されているため、指定画像Ｄ２１では、画素の隙間がつぶれて表示された領域（つぶれ領域）が部分的に形成される。一方、基準画像Ｄ２２では、最小ランがゼロであるため、そのようなつぶれ領域は未形成である。従って、差分表示画像Ｄ２３では、このつぶれ領域の部分が差分Ｓａとして強調表示される（図示の都合上、差分Ｓａは、梨地領域として示されている。）。
【０１０７】
また、図６には、前回条件比較モード又はデフォルト比較モードでの指定画像Ｄ２１、基準画像Ｄ２２、そして差分表示画像Ｄ２３が示されている（ＳＴ１２）。指定パラメータＰａ１と基準パラメータＰａ２との相違点は、線幅の値である。従って、差分表示画像Ｄ２３では、この線幅の異なる部分が差分Ｓｂとして、他の部分と区別された形態で強調表示される（図示の都合上、差分Ｓｂは斜線領域として示されている。）。
【０１０８】
また、図６には、パラメータ調整モードでの指定画像Ｄ２１、基準画像Ｄ２２、そして、差分表示画像Ｄ２３が示されている（ＳＴ１３）。指定パラメータＰａ１と基準パラメータＰａ２との相違点はエッジ露光領域ＥＲの有無に関する項目の設定である。基準画像Ｄ２２では、エッジ露光領域ＥＲが基板の内側部分に未形成の状態の処理領域ＲＴが示されている。これに対して、指定画像Ｄ２１では、エッジ露光領域ＥＲが基板の内側部分に形成された状態の処理領域ＲＴが示されている。従って、差分表示画像Ｄ２３では、このエッジ露光領域ＥＲが形成されている内側部分が差分Ｓｃとして強調表示されている（図示の都合上、差分Ｓｃは梨地領域として示されている。）。
【０１０９】
なお、差分Ｓａと差分Ｓｃとは、指定画像Ｄ２１の一部の画素が対応する基準画像Ｄ２２の一部の画素よりも大きいことによる差分Ｓ、すなわち露光範囲が増大した部分であり、差分Ｓｂは、指定画像Ｄ２１の一部の画素が対応する基準画像Ｄ２２の一部の画素よりも小さいことによる差分Ｓ，すなわち露光範囲が減少した部分である。従って、差分Ｓａ，Ｓｃと差分Ｓｂとは表示色が異なる態様で表示される。
【０１１０】
差分Ｓの強調表示処理が行われると、処理領域ＲＴを再設定して再度表示用ＲＩＰ展開を実施するか否かが判断される（ステップＳ９）。処理領域表示画面８１に表示された処理領域ＲＴが新たに設定される（ステップＳ１０）と、表示用ＲＩＰ展開は新たに行われる。
【０１１１】
また、差分Ｓの強調表示処理が行われると、指定パラメータＰａ１を再設定して表示用ＲＩＰ展開を再度実施するか否かが判断される（ステップＳ１１）。描画装置３が描画処理を行う際に、差分Ｓが露光品質に悪影響を及ぼすなどと判断される場合には、指定パラメータＰａ１が更新され、表示用ＲＩＰ展開が新たに行われる。
【０１１２】
オペレータは、指定パラメータＰａ１または処理領域ＲＴを様々に更新し、差分Ｓが強調して表示された表示画像を更新させつつ、これらの表示画像を目視で確認する。そして、最適な表示画像が得られる指定パラメータＰａ１の値が、描画用ＲＩＰ展開に使用されるＲＩＰパラメータに決定される。決定された指定パラメータＰａ１は、指定パラメータ保存部２３から読み出され、送信部３０によって描画装置３に送信される。
【０１１３】
このように、表示用ＲＩＰ展開、差分抽出処理、及び差分強調表示処理は、指定パラメータＰａ１が新たに設定されたとき、又は処理領域表示画面８１に表示された処理領域ＲＴが新たに設定されたときに、その都度リアルタイムで実施される。
【０１１４】
このような指定パラメータＰａ１の更新あるいは処理領域ＲＴの更新に応答して表示用ＲＩＰ展開が再度なされ、かつ処理領域表示画面８１における表示がリアルタイムで更新されることにより、実質的に画像の変化を動的にモニタしつつ指定パラメータＰａ１などの調整が可能となる。ただし、ここで言うリアルタイムとは、指定パラメータＰａ１の更新、あるいは処理領域ＲＴの更新に応答する場合のみならず、指定パラメータＰａ１の更新後、あるいは処理領域ＲＴの更新後、オペレータが更新指令を与えることによって表示用ＲＩＰ展開が行われ、表示が更新される場合も含んでいる。換言すれば、描画用ＲＩＰ展開にかかる時間を要することなくパラメータ更新とその結果の確認が可能という意味において、本実施形態の装置はリアルタイム性を有する。
【０１１５】
以上のように、本実施形態における画像処理装置２では、描画用ＲＩＰ展開よりもデータ処理量を抑制した表示用ＲＩＰ展開でＲＩＰ展開が行われる。また、指定パラメータＰａ１に基づく表示用ＲＩＰ展開によって得られた指定画像Ｄ２１と、基準パラメータＰａ２に基づく表示用ＲＩＰ展開によって得られた基準画像Ｄ２２との差分Ｓが視覚的に区分された状態で処理領域表示画面８１に表示される。従って、表示用ＲＩＰ展開は速やかに行われるとともに、指定画像Ｄ２１と基準画像Ｄ２２との差分Ｓの見落としは生じにくくなる。
【０１１６】
また、差分Ｓは指定画像Ｄ２１と基準画像Ｄ２２との共通部分よりも視覚的に強調して表示されることによって、視覚的により明らかに区分することが可能である。従って、差分Ｓの見落としはより生じにくくなる。
【０１１７】
また、指定パラメータＰａ１の更新に応答して表示用ＲＩＰ展開がなされ、処理領域表示画面８１における画像の表示が更新される。すなわち、リアルタイムで画像を確認することができるため、差分Ｓの表示にかかる時間ロスを抑制できる。このため、手軽に指定パラメータＰａ１及び処理領域を設定し直して差分Ｓを確認することができる。
【０１１８】
特に、パターンが細かく、描画領域が広くなる半導体基板においては、描画用ＲＩＰ展開に時間を要するため、ＲＩＰパラメータの設定ミスによる時間ロスが大きな課題であった。また、パターンが細かいため、差分の見落としが生じやすく、確認作業に時間を要していた。画像処理装置２は、これらの問題を解決可能である。
【０１１９】
また、処理領域ＲＴがパターン領域の部分領域である場合には、比較的高解像度でＲＩＰ展開が行われ、処理領域ＲＴがパターン領域の全体領域である場合には、低解像度でＲＩＰ展開が行われる。このため、表示用ＲＩＰ展開を速やかに実行することが可能になる。
【０１２０】
また、複数のモードから選択された一のモードに応じて、基準パラメータＰａ２は設定される。このため、指定パラメータＰａ１と基準パラメータＰａ２との比較目的に応じた基準パラメータＰａ２を設定することができる。
【０１２１】
また、指定画像Ｄ２１と基準画像Ｄ２２と差分Ｓとが相互に位置合わせされた状態で処理領域表示画面８１に複合表示されている。このため、差分Ｓが形成されている画像上の位置を容易に把握することができる。
【０１２２】
また、差分Ｓの処理領域表示画面８１における表示色は、指定画像Ｄ２１と基準画像Ｄ２２とのそれぞれの表示色とは異なる。このため、差分Ｓは目視によって、より容易に確認することができる。
【０１２３】
また、差分Ｓの値が正の場合の差分Ｓの表示色と、差分Ｓの値が負の場合の差分Ｓの表示色とが異なる。このため、差分Ｓを確認したときに、当該差分Ｓは、描画範囲が増大したことによる差分であるか、それとも描画範囲が減少したことによる差分であるかを、容易に見分けることができる。
【０１２４】
また、上記の実施形態の装置は、半導体基板やＦＤＰディスプレイパネル用基板やプリント基板など精密電子基板製造用の光ビーム直接描画装置を想定しているが、印刷などの分野における直接描画においてもこの発明は適用できる。光ビームではなく、電子ビームなどによる直接描画装置にも適用可能である。
【符号の説明】
【０１２５】
２ 画像処理装置（画像表示装置）
３ 直接描画装置
２０ 設計データ取得部
２２ 指定パラメータ設定部
２４ 基準パラメータ設定部
２５ 処理領域設定部
２６ 表示用ＲＩＰ展開部
２７ 差分抽出部
２８ 差分強調表示部
３１ モード設定部
８１ 処理領域表示画面
８２ パラメータ設定画面
９５ 表示部
１００ 図形描画システム
ＲＴ 処理領域
Ｒ パターン領域
Ｐａ１ 指定パラメータ
Ｐａ２ 基準パラメータ
Ｄ０ 設計データ
Ｄ２ 画像データ
Ｄ２１ 指定画像
Ｄ２２ 基準画像
Ｓ 差分
【特許請求の範囲】
【請求項１】
描画ビームの走査によって所定のパターンを描画対象物に直接描画する直接描画装置用の画像表示装置であって、
前記パターンを記述したベクトル形式の設計データを取得する取得部と、
前記設計データのＲＩＰ展開に使用される指定パラメータを設定する指定パラメータ設定部と、
ＲＩＰ展開される前記設計データの処理領域を設定する処理領域設定部と、
前記指定パラメータと所定の基準パラメータとを用いて、前記設計データのうち前記処理領域に対応する部分をそれぞれＲＩＰ展開して、指定画像と基準画像とを得る表示用ＲＩＰ展開部と、
前記指定画像と前記基準画像とを重ね合わせて可視的に表示する表示部と、
を備え、
前記表示用ＲＩＰ展開部におけるＲＩＰ展開は、前記直接描画のための描画用ＲＩＰ展開よりもデータ処理量を抑制した表示用ＲＩＰ展開であり、かつ
前記表示部は、前記指定画像と前記基準画像との差分を、前記指定画像と前記基準画像との共通部分とは視覚的に区別可能に表示させること、
を特徴とする直接描画装置用の画像表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載の直接描画装置用の画像表示装置であって、
前記表示部は、前記差分を前記共通部分よりも視覚的に強調して表示させることを特徴とする直接描画装置用の画像表示装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の直接描画装置用の画像表示装置であって、
前記指定パラメータの更新に応答して、前記表示用ＲＩＰ展開がなされ、かつ前記表示部における表示が更新されることを特徴とする直接描画装置用の画像表示装置。
【請求項４】
請求項１ないし３に記載の直接描画装置用の画像表示装置であって、
前記表示用ＲＩＰ展開部は、
前記処理領域が、前記パターンの部分領域に対応する場合には、第１の解像度で前記表示用ＲＩＰ展開を行う一方で、
前記処理領域が、前記パターンの全体領域に対応する場合には、第２の解像度で前記表示用ＲＩＰ展開を行い、
前記第２の解像度は前記第１の解像度よりも低いことを特徴とする直接描画装置用の画像表示装置。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれか一つに記載の直接描画装置用の画像表示装置であって、
前記基準パラメータの決定に関する複数のモードから一のモードを設定するモード設定部と、
設定された前記一のモードに応じて、前記基準パラメータを設定する基準パラメータ設定部と、
をさらに備えることを特徴とする直接描画装置用の画像表示装置。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれか一つに記載の直接描画装置用の画像表示装置であって、
前記指定画像と前記基準画像と前記差分とが、一の画面エリア中に、相互に位置合わせされた状態で複合表示されていることを特徴とする直接描画装置用の画像表示装置。
【請求項７】
請求項６に記載の直接描画装置用の画像表示装置であって、
前記表示部における前記差分の表示色は、前記指定画像と前記基準画像とのそれぞれの表示色とは異なることを特徴とする直接描画装置用の画像表示装置。
【請求項８】
請求項７に記載の直接描画装置用の画像表示装置であって、
前記差分の値が正の場合の前記差分の表示色と、前記差分の値が負の場合の前記差分の表示色とが異なることを特徴とする直接描画装置用の画像表示装置。
【請求項９】
描画ビームの走査によって所定のパターンを描画対象物に直接描画する直接描画装置用の表示画面を備えるコンピュータが読み取り可能なプログラムであって、
前記コンピュータが前記プログラムを読み取り、前記コンピュータのＣＰＵがメモリを用いて前記プログラムを実行することにより、前記コンピュータを、
前記パターンを記述したベクトル形式の設計データを取得する取得部と、
前記設計データのＲＩＰ展開に使用される指定パラメータを設定する指定パラメータ設定部と、
ＲＩＰ展開される前記設計データの処理領域を設定する処理領域設定部と、
前記指定パラメータと所定の基準パラメータとを用いて、前記設計データのうち前記処理領域に対応する部分をそれぞれＲＩＰ展開して、指定画像と基準画像とを得る表示用ＲＩＰ展開部と、
前記指定画像と前記基準画像とを重ね合わせて前記表示画面に可視的に表示する表示部と、
を備える画像表示装置として機能させ、
前記表示用ＲＩＰ展開部におけるＲＩＰ展開は、前記直接描画のための描画用ＲＩＰ展開よりもデータ処理量を抑制した表示用ＲＩＰ展開であり、かつ
前記表示部は、前記指定画像と前記基準画像との差分を、前記指定画像と前記基準画像との共通部分とは視覚的に区別可能に表示させることを特徴とする画像表示装置として機能させるプログラム。
【請求項１】
描画ビームの走査によって所定のパターンを描画対象物に直接描画する直接描画装置用の画像表示装置であって、
前記パターンを記述したベクトル形式の設計データを取得する取得部と、
前記設計データのＲＩＰ展開に使用される指定パラメータを設定する指定パラメータ設定部と、
ＲＩＰ展開される前記設計データの処理領域を設定する処理領域設定部と、
前記指定パラメータと所定の基準パラメータとを用いて、前記設計データのうち前記処理領域に対応する部分をそれぞれＲＩＰ展開して、指定画像と基準画像とを得る表示用ＲＩＰ展開部と、
前記指定画像と前記基準画像とを重ね合わせて可視的に表示する表示部と、
を備え、
前記表示用ＲＩＰ展開部におけるＲＩＰ展開は、前記直接描画のための描画用ＲＩＰ展開よりもデータ処理量を抑制した表示用ＲＩＰ展開であり、かつ
前記表示部は、前記指定画像と前記基準画像との差分を、前記指定画像と前記基準画像との共通部分とは視覚的に区別可能に表示させること、
を特徴とする直接描画装置用の画像表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載の直接描画装置用の画像表示装置であって、
前記表示部は、前記差分を前記共通部分よりも視覚的に強調して表示させることを特徴とする直接描画装置用の画像表示装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の直接描画装置用の画像表示装置であって、
前記指定パラメータの更新に応答して、前記表示用ＲＩＰ展開がなされ、かつ前記表示部における表示が更新されることを特徴とする直接描画装置用の画像表示装置。
【請求項４】
請求項１ないし３に記載の直接描画装置用の画像表示装置であって、
前記表示用ＲＩＰ展開部は、
前記処理領域が、前記パターンの部分領域に対応する場合には、第１の解像度で前記表示用ＲＩＰ展開を行う一方で、
前記処理領域が、前記パターンの全体領域に対応する場合には、第２の解像度で前記表示用ＲＩＰ展開を行い、
前記第２の解像度は前記第１の解像度よりも低いことを特徴とする直接描画装置用の画像表示装置。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれか一つに記載の直接描画装置用の画像表示装置であって、
前記基準パラメータの決定に関する複数のモードから一のモードを設定するモード設定部と、
設定された前記一のモードに応じて、前記基準パラメータを設定する基準パラメータ設定部と、
をさらに備えることを特徴とする直接描画装置用の画像表示装置。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれか一つに記載の直接描画装置用の画像表示装置であって、
前記指定画像と前記基準画像と前記差分とが、一の画面エリア中に、相互に位置合わせされた状態で複合表示されていることを特徴とする直接描画装置用の画像表示装置。
【請求項７】
請求項６に記載の直接描画装置用の画像表示装置であって、
前記表示部における前記差分の表示色は、前記指定画像と前記基準画像とのそれぞれの表示色とは異なることを特徴とする直接描画装置用の画像表示装置。
【請求項８】
請求項７に記載の直接描画装置用の画像表示装置であって、
前記差分の値が正の場合の前記差分の表示色と、前記差分の値が負の場合の前記差分の表示色とが異なることを特徴とする直接描画装置用の画像表示装置。
【請求項９】
描画ビームの走査によって所定のパターンを描画対象物に直接描画する直接描画装置用の表示画面を備えるコンピュータが読み取り可能なプログラムであって、
前記コンピュータが前記プログラムを読み取り、前記コンピュータのＣＰＵがメモリを用いて前記プログラムを実行することにより、前記コンピュータを、
前記パターンを記述したベクトル形式の設計データを取得する取得部と、
前記設計データのＲＩＰ展開に使用される指定パラメータを設定する指定パラメータ設定部と、
ＲＩＰ展開される前記設計データの処理領域を設定する処理領域設定部と、
前記指定パラメータと所定の基準パラメータとを用いて、前記設計データのうち前記処理領域に対応する部分をそれぞれＲＩＰ展開して、指定画像と基準画像とを得る表示用ＲＩＰ展開部と、
前記指定画像と前記基準画像とを重ね合わせて前記表示画面に可視的に表示する表示部と、
を備える画像表示装置として機能させ、
前記表示用ＲＩＰ展開部におけるＲＩＰ展開は、前記直接描画のための描画用ＲＩＰ展開よりもデータ処理量を抑制した表示用ＲＩＰ展開であり、かつ
前記表示部は、前記指定画像と前記基準画像との差分を、前記指定画像と前記基準画像との共通部分とは視覚的に区別可能に表示させることを特徴とする画像表示装置として機能させるプログラム。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【公開番号】特開２０１３−７７７１８（Ｐ２０１３−７７７１８Ａ）
【公開日】平成２５年４月２５日（２０１３．４．２５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−２１７０６５（Ｐ２０１１−２１７０６５）
【出願日】平成２３年９月３０日（２０１１．９．３０）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年４月２５日（２０１３．４．２５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年９月３０日（２０１１．９．３０）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
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