印刷装置、版胴、ナノ粒子印刷材料生成装置、印刷方法およびそれにより製造された電子シート
【課題】不純物の混入が抑えられるとともに、比較的均質な形状及び大きさに生成された金属のナノ粒子を含むナノ粒子インクで被印刷体にパターンの転写を行うことができる技術を提供する。
【解決手段】印刷装置１は、基板Ｗを保持する載置ステージ２０と、金属のイオンを含んだイオン溶液を供給する溶液供給部３０と、イオン溶液を通過させる溶液通過層１００を備える版胴１０と、を備える。溶液通過層１００はナノメートルオーダーの空孔が分布した多孔質材料によって形成されたナノ多孔質層１１２を備える。イオン溶液はナノ多孔質層１１２を通過することによって金属のナノ粒子を含むナノ粒子溶液に変化する。版胴１０は、溶液通過層１００の外側に形成された転写面１１３５から滲出したナノ粒子溶液の所定のパターンを基板Ｗに転写する。
【解決手段】印刷装置１は、基板Ｗを保持する載置ステージ２０と、金属のイオンを含んだイオン溶液を供給する溶液供給部３０と、イオン溶液を通過させる溶液通過層１００を備える版胴１０と、を備える。溶液通過層１００はナノメートルオーダーの空孔が分布した多孔質材料によって形成されたナノ多孔質層１１２を備える。イオン溶液はナノ多孔質層１１２を通過することによって金属のナノ粒子を含むナノ粒子溶液に変化する。版胴１０は、溶液通過層１００の外側に形成された転写面１１３５から滲出したナノ粒子溶液の所定のパターンを基板Ｗに転写する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、金属の微粒子を含む印刷材料を用いて、被印刷体にパターンを形成する技術に関するもので、特に、半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板、ＰＤＰ用ガラス基板、磁気／光ディスク用のガラス／セラミック基板、ＰＶ、電子ペーパー、無線タグなどの各被印刷体に対して、電気配線などのパターニング印刷を行う所謂プリンテッドエレクトロニクスに好適な技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
溶媒中に金属のナノ粒子が分散しているナノ粒子インクを被印刷体表面に吐出し、吐出された金属のナノ粒子を焼結させることで、電極や電子回路における配線パターンを形成する技術が知られている。
【０００３】
例えば、特許文献１には、金属のナノ粒子がインク中に分散している金属ナノインクが、基板表面上に形成されたレジスト層の側壁と基板表面とで形成された溝に沿って吐出されることによって、パターンを形成する技術が開示されている。この方法では、金属ナノインクが吐出された後でレジスト層が除去されることにより、金属のナノ粒子によって描かれたパターンが基板上に形成される。
【０００４】
また、特許文献２には、非分散性の金属のナノ粒子に、溶媒中における分散性を持たせる表面改質処理技術が開示されている。また、表面改質処理が施された金属のナノ粒子を含むナノインクについても記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００６−２６０９５４号公報
【特許文献２】特開２００８−０９５１９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、上述のナノ粒子インクは、あらかじめ別工程で生成された金属のナノ粒子を、溶媒中に分散させる工程を経て製造される。このため、特許文献１及び特許文献２に開示されている技術は、以下に示す問題点を有する。
【０００７】
一つ目は、ナノ粒子インク中に不純物が混入してしまう問題である。上述のように、ナノ粒子インクは、ナノ粒子そのものの生成工程や、生成されたナノ粒子を溶剤中に混合させる工程などの複数の工程を経て生成されるため、その分不純物が混入しやすい。また、一旦混入した不純物はナノ粒子インク中から取り除き難い。
【０００８】
二つ目は、ナノ粒子の生成工程において、均質な形状及び大きさのナノ粒子の生成が難しいという問題である。各ナノ粒子の形状及び大きさが不揃いである場合、微細なパターンの形成に困難性を有する。
【０００９】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、不純物の混入が抑えられるとともに、比較的均質な形状及び大きさに生成された金属のナノ粒子を含むナノ粒子インクで被印刷体にパターンの転写を行うことができる技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
第１の発明は、印刷装置であって、被印刷体を保持する保持部と、金属のイオンを含んだ第１溶液を供給する溶液供給部と、前記溶液供給部から供給された前記第１溶液を通過させることによって前記第１溶液を第２溶液へと変化させる溶液通過層を備えるとともに、前記溶液通過層の外側に形成された転写面から滲出した前記第２溶液の所定のパターンを前記被印刷体に転写する転写部と、を備え、前記溶液通過層が、ナノメートルオーダーの空孔が分布した多孔質材料によって形成されたナノ多孔質層、を備えることを特徴とする。
【００１１】
第２の発明は、第１の発明に係る印刷装置であって、前記溶液通過層は、前記ナノ多孔質層に形成された空孔よりも径が大きい空孔が分布した補助多孔質材料によって形成され、前記転写面とは反対側において前記ナノ多孔質層に積層された補助多孔質層、をさらに備え、前記溶液供給部から供給された前記第１溶液は、前記補助多孔質層を通過した後に、前記ナノ多孔質層に与えられることを特徴とする。
【００１２】
第３の発明は、第１の発明または第２の発明に係る印刷装置であって、前記溶液通過層は、前記ナノ多孔質層と前記転写面との間に配置された、弾性を有する樹脂多孔質層、をさらに備えることを特徴とする。
【００１３】
第４の発明は、第１の発明ないし第３の発明のいずれか一つに記載の印刷装置であって、前記溶液供給部によって供給された前記第１溶液の温度を調節して前記溶液通過層に与える温度調節部、をさらに備えることを特徴とする。
【００１４】
第５の発明は、第４の発明に係る印刷装置であって、前記転写部の内部には、前記溶液通過層の層面の各部分に前記第１溶液を配送する配送空間が形成されており、前記温度調節部は、前記配送空間内に配置された温調構造を有することを特徴とする。
【００１５】
第６の発明は、第１の発明ないし第５の発明のいずれか一つに記載の印刷装置であって、前記転写部は円筒形とされて、その外周に前記転写面が規定されるとともに、前記溶液通過層は、前記転写面よりも筒心側に配置した円筒型層構造として形成されており、前記第１溶液は、前記円筒型層構造よりも筒心側に設けられた空間に供給されることを特徴とする。
【００１６】
第７の発明は、第１の発明ないし第６の発明のいずれか一つに記載の印刷装置であって、前記ナノ多孔質層の空孔の孔径が２ナノメートル以上５０ナノメートル以下である。
【００１７】
第８の発明は、第１の発明ないし第７の発明のいずれか一つに記載の印刷装置であって、前記ナノ多孔質層の材料は窒化炭素を主たる原料とする。
【００１８】
第９の発明は、版胴であって、円筒構造として形成され、金属のイオンを含んだ第１溶液を筒心側から筒面側に向かって通過させることによって前記第１溶液を第２溶液へと変化させる溶液通過層と、前記円筒構造の前記筒心側に設けられ、前記第１溶液を受け入れて前記溶液通過層に導入する溶液供給管と、を備え、前記溶液通過層の筒面側に所定のパターンを形成することによって、前記第２溶液のパターンを被印刷体に転写可能であり、前記溶液通過層が、ナノメートルオーダーの空孔が分布した多孔質材料によって形成されたナノ多孔質層、を備えることを特徴とする。
【００１９】
第１０の発明は、第９の発明に係る版胴であって、前記溶液供給管が前記円筒構造の回転軸を構成する。
【００２０】
第１１の発明は、第９の発明または第１０の発明に係る版胴であって、前記溶液通過層の前記円筒構造の筒心側の空間が、前記第１溶液を前記溶液通過層の層面の各部分に配送する配送空間とされており、前記配送空間内に配置された温調構造、をさらに備えることを特徴とする。
【００２１】
第１２の発明は、ナノ粒子印刷材料生成装置であって、金属のイオンを含んだ第１溶液を供給する溶液供給部と、前記溶液供給部から供給された前記第１溶液を通過させることによって前記第１溶液を第２溶液へと変化させる溶液通過層と、を備え、前記溶液通過層が、ナノメートルオーダーの空孔が分布した多孔質材料によって形成されたナノ多孔質層、を備えることを特徴とする。
【００２２】
第１３の発明は、印刷方法であって、金属のイオンを含んだ第１溶液を所定の溶液通過層に通過させることによって、前記第１溶液を第２溶液へと変化させる工程と、前記溶液通過層の外側に形成された転写面から滲出した前記第２溶液の所定のパターンを被印刷体に転写する工程と、を備え、前記溶液通過層が、ナノメートルオーダーの空孔が分布した多孔質材料によって形成されたナノ多孔質層、を備えることを特徴とする。
【００２３】
第１４の発明は、第１３の発明に係る印刷方法によって印刷された電子回路パターンを有する電子シートである。
【発明の効果】
【００２４】
第１の発明から第１４の発明において、金属のイオンを含んだ第１溶液がナノ多孔質層を備える溶液通過層を通過することによって金属のイオンが還元されて微粒子が生成される。つまり、第１溶液から、金属の微粒子を含む溶液が第２溶液として生成される。このように、金属の微粒子の生成工程と、金属の微粒子を溶液中で分散させる工程とが一つの工程として行われるため、不純物の混入を抑えられる。
【００２５】
また、生成される微粒子はナノ多孔質層の空孔のサイズと同等の粒子径を有するため、各微粒子の粒子径を揃えることができる。また、いずれの空孔においても微粒子の生成条件はほぼ一定であるため、生成される微粒子の形状を揃えることができる。
【００２６】
特に、第１ないし第１１の発明では、転写面から滲出した第２溶液のパターンが被印刷体に転写されるため、転写面に余分に付着した第２溶液をかき取る部材（ドクターブレードに相当する部材）が不要であり、簡易な装置構成を実現できるという利点もある。
【００２７】
特に、第２の発明において、溶液通過層は、ナノ多孔質層に形成された空孔よりも径が大きい空孔の分布を有する補助多孔質層をさらに備える。このため、溶液通過層の強度が増すとともに、第１溶液が溶液通過層を流れる際の抵抗を低く抑えられる。また、ナノ多孔質層が溶液通過層に占める割合は小さくなるため、溶液通過層の作製にかかるコストも抑えられる。
【００２８】
特に、第３の発明において、溶液通過層が、弾性を有する樹脂材料からなる樹脂多孔質層をさらに備える。このため、印刷処理時に、溶液通過層が被印刷体に押し当てられても、樹脂多孔質層がその衝撃を和らげるため、ナノ多孔質層が破壊されることを抑えられる。
【００２９】
特に、第４の発明において、温度調節部が溶液供給部によって供給された第１溶液の温度を調節する。これによって、外気条件によらず、第１溶液はその粘度が一定に保持された状態で供給される。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る印刷装置の側面図である。
【図２】第１の実施形態に係る印刷装置が備える制御部のハードウェア構成を示すブロック図である。
【図３】第１の実施形態に係る版胴の部分断面図である。
【図４】印刷処理の流れを示すフローチャートである。
【図５】印刷処理の一部である被覆層形成工程が実施される前の版胴の部分断面図である。
【図６】印刷処理の一部である被覆層形成工程が実施された後の版胴の部分断面図である。
【図７】印刷処理の一部であるパターン形成層作製工程が実施されている状態の版胴の部分断面図である。
【図８】印刷処理の一部である溶液供給工程の様子を示す図である。
【図９】印刷処理の一部である洗浄工程の様子を示す図である。
【図１０】本発明の第２の実施形態に係る版胴の部分断面図である。
【図１１】変形例に係る転写プレートの断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３１】
以下、添付の図面を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。以下の実施形態は、本発明を具体化した一例であり、本発明の技術的範囲を限定する事例ではない。
【００３２】
＜１．第１の実施形態＞
＜１−１．印刷装置１の説明＞
図１には、本発明の実施形態に係る印刷装置１の側面図が示されている。
【００３３】
印刷装置１は、円筒形の版胴１０、載置ステージ２０、溶液供給部３０及び温調水供給部４０を備える。また、印刷装置１は、装置の各動作機構を制御して印刷処理を実行させる制御部９０を備える。なお、制御部９０は印刷装置１とは別体に構成されたコンピュータであってもよい。制御部９０に予めインストールされたプログラムに従って、後述する一連のシーケンスが実行される。
【００３４】
印刷処理は被印刷体が載置ステージ２０上に載置及び保持された状態で実施される。本実施形態では、例えばガラス基板などの基板Ｗが被印刷体に使用される。
【００３５】
載置ステージ２０は平板状の外形を有し、その上面に基板Ｗを水平姿勢に載置する。載置ステージ２０の上面には複数の図示しない吸引孔が形成されており、この吸引孔に負圧（吸引圧）を形成することによって、載置ステージ２０上に載置された基板Ｗが固定保持される。
【００３６】
載置ステージ２０には、一対の直動ガイド７１及びリニアモータ７２などの移動機構７０が配設されている。これらの移動機構７０が駆動することによって、載置ステージ２０は、所定の速度で基台８０の上を図１における水平Ｙ軸方向に沿って往復搬送される。
【００３７】
印刷装置１は、基台８０に設置されるとともに、鉛直方向（Ｚ軸方向）に沿って昇降可能な図示しない昇降テーブルを備える。この昇降テーブルが後に詳述する版胴１０を保持する。載置ステージ２０と版胴１０との鉛直方向における間隔は、昇降テーブルを昇降させることによって調節することができる。これによって、印刷処理時における基板Ｗへの版胴１０の押圧力が調節される。なお、版胴１０は着脱自在であり、昇降テーブルに対して容易に取り外し又は取り付けを行うことができる。
【００３８】
溶液供給部３０はイオン溶液供給部３１と洗浄溶液供給部３２とを備える。イオン溶液供給部３１はイオン溶液（第１溶液）が貯留されるイオン溶液貯留部３１０と、イオン溶液を所定の圧力で後述する溶液通過層１００に押し流すポンプ３１１と、を備える。
【００３９】
イオン溶液は、金属のイオンが溶剤中に存在する溶液であって、基板Ｗにパターンを転写する際に使用される溶液（第２溶液）の基礎となる液体材料である。金属としては例えば金などが使用される。本実施形態では、イオン溶液に含まれる金属のイオンが還元されて、ナノメートルオーダーのサイズを有する微粒子（以下において、ナノ粒子と称する。）が生成される。つまり、第１溶液であるイオン溶液から、金属のナノ粒子が溶剤中に存在するナノ粒子溶液が第２溶液として生成される。
【００４０】
洗浄溶液供給部３２は、洗浄溶液が貯留される洗浄溶液貯留部３２０と、洗浄溶液を所定の圧力で溶液通過層１００に押し流すポンプ３２１とを備える。洗浄溶液は、溶液通過層１００の内部に残るイオン溶液、ナノ粒子溶液及びパターン形成層１１３のレジストを除去し、溶液通過層１００を洗浄するために使用される。
【００４１】
イオン溶液供給部３１と洗浄溶液供給部３２との各々に接続された配管３０２及び配管３０３は、切替弁３００を介して、溶液通過層１００に繋がる流路を構成する配管３０１に接続されている。切替弁３００が切り替えられることによって、パターン転写処理時にはイオン溶液供給部３１と溶液通過層１００とを繋ぐ流路が構成され、洗浄処理時には洗浄溶液供給部３２と溶液通過層１００とを繋ぐ流路が構成される。
【００４２】
なお、図１では、配管３０１と後述する溶液供給配管１２２との接続状態が概略的に記載されている。実際には例えば、メカニカルシールが端部に取り付けられた状態の溶液供給配管１２２が配管３０１に接続されるなど、版胴１０が回転しても溶液供給配管１２２と配管３０１との接続部から溶液が漏れることを抑えられる構造が採用される。
【００４３】
温調水供給部４０は、所定の温度に調節された温調水を貯留する温調水貯留部４１０と、温調水を所定の圧力で温調水配管４１に押し流すポンプ４１１とを備える。
【００４４】
温調水配管４１は、版胴１０の内側に挿通されており、その両端が版胴１０の回転軸１２各々の内側に位置する。後述するように、円筒型層構造とされた溶液通過層１００が版胴１０に形成されており、その筒心側の空間は、イオン溶液を溶液通過層１００の層面の各部へ配送する配送空間ＳＰとされている。温調水配管４１は、この配送空間ＳＰ内に配置されている。
【００４５】
温調水は室温よりも高温に昇温されており、配管４０１を流れて、回転軸１２の一端に位置する温調水配管４１の端部から温調水配管４１の内部に供給され、回転軸１２の他端に位置する温調水配管４１の端部から排出される。温調水配管４１から排出された温調水は、再び温調水貯留部４１０に回収、又は廃棄される。
【００４６】
また、配管４０１は、図１では概略的に記載されているが、実際には温調水配管４１側の配管４０１の部分は配管３０１の内側に配置されており、それ以外の配管４０１の部分は配管３０１の一部分から配管３０１の外側に延び出て、温調水供給部４０に接続されている。温調水配管４１と配管４０１との接続及び温調水配管４１と図示しない排出配管との接続にも、例えばメカニカルシールが使用されるなど、版胴１０が回転しても各接続部分から温調水が漏れることを抑えられる構造が採用される。
【００４７】
図２には、制御部９０のハードウェア構成が示されている。制御部９０のハードウェアとしての構成は、一般的なコンピュータと同様である。即ち、制御部９０は、各種演算処理を行うＣＰＵ９１、基本プログラムを記憶する読み出し専用のメモリであるＲОＭ９２、各種情報を記憶する読み書き自在のメモリであるＲＡＭ９３及び制御用ソフトウェア、又はデータなどを記憶しておく磁気ディスク９４、キーボード及びマウスなどの入力部９５をバスライン９９に接続して構成されている。さらに、バスライン９９には、リニアモータ７２、図示しない版胴１０の回転機構、イオン溶液貯留部３１０、ポンプ３１１、洗浄溶液貯留部３２０、ポンプ３２１、温調水貯留部４１０、ポンプ４１１などが電気的に接続されている。
【００４８】
なお、後述する制御部１６０についても同様のハードウェア構成を備える。制御部１６０では基板Ｗに転写されるパターンのデータが記憶されている。
【００４９】
＜１−２．版胴１０について＞
図３を用いて、本実施形態における版胴１０について説明する。図３には、印刷装置１が備える版胴１０の部分断面図が示されている。版胴１０は、主に円筒形の胴部１１と、胴部１１の中心軸に沿って配設された回転軸１２とを備えており、Ｘ方向に延設された回転軸１２を中心にして、回転機構を構成するモータＭＴＲの駆動によって回転する。この版胴１０が本実施形態における転写部に相当する。
【００５０】
本実施形態における胴部１１は、円筒形状（円筒型層構造）の溶液通過層１００と、溶液通過層１００の両端が固定されてその側面を閉塞する閉塞部１２０とを備える。すなわち、胴部１１は、溶液通過層１００が胴部１１の外周部分の全面を巻回し、その両端面を一対の閉塞部１２０が支持するドラム型となっている。
【００５１】
溶液通過層１００のうちの最内面は、イオン溶液が流入する流入面１０１となっている。また溶液通過層１００の外周面には、ナノ粒子溶液が外部に滲出する滲出面１０２が形成される。つまり、イオン溶液は、円筒形状の溶液通過層の筒心側（内側）から筒面側（外側）に向かって流れる。より詳細には、流入面１０１から流入したイオン溶液は、流入面１０１から滲出面１０２に至る溶液通過層１００の内部流路に沿って流れつつ、後述する過程によってナノ粒子溶液へと変化して、最終的に滲出面１０２から滲出する。なお、滲出面１０２については後に詳述する。
【００５２】
本実施形態における溶液通過層１００は、その内周面が流入面１０１を規定するパイプ部１１０、マイクロ多孔質層１１１及びその外周面が滲出面１０２を規定するナノ多孔質層１１２を備える。
【００５３】
印刷処理時には、この滲出面１０２に規定されるナノ多孔質層１１２の面の外側に、後述するパターン形成層１１３が形成される。より詳細には、パイプ部１１０、マイクロ多孔質層１１１、ナノ多孔質層１１２、及びパターン形成層１１３がこの順に内側から積層配置された四重かつ同心の円筒形状の構造が採用される。つまり、溶液通過層１００の筒面側にパターン形成層が配置される。
【００５４】
パイプ部１１０は円筒形状の金属で構成されており、内側の部分に空間（配送空間ＳＰ）を有する。このパイプ部１１０には多数の貫通孔１１０１がほぼ均等に分布して形成されている。パイプ部１１０の内側の配送空間ＳＰに供給されたイオン溶液及び洗浄溶液は、この貫通孔１１０１から溶液通過層１００の各層面にほぼ均等に流入する。
【００５５】
パイプ部１１０の両端における２つの開口は閉塞部１２０各々によって塞がれている。閉塞部１２０は、パイプ部１１０の開口の面積よりも大きい面積を有するとともに、中心部に回転軸が接続される孔が形成された円形の平板であり、閉塞部１２０の中心と開口の中心とが一致するようにして、パイプ部１１０と一体に接続されている。従って、閉塞部１２０は貫通孔１１０１が形成されたパイプ部１１０の面よりも外周側に張り出た部分を有する。この閉塞部１２０の張り出し部分がマイクロ多孔質層１１１、ナノ多孔質層１１２のＸ軸方向における両端部に接しており、マイクロ多孔質層１１１及びナノ多孔質層１１２の位置ずれを規制する。
【００５６】
マイクロ多孔質層１１１は、マイクロメートルオーダーの多数の空孔のほぼ一様な分布を有する多孔質材料によって構成された多孔質層である。このマイクロ多孔質層１１１は、ナノ多孔質層１１２よりも上流側で、パイプ部１１０よりも下流側に配置されている。パイプ部１１０の貫通孔１１０１から溶液通過層１００に流入したイオン溶液は、マイクロ多孔質層１１１の空孔を流路として、マイクロ多孔質層１１１の内部をナノ多孔質層１１２に向かって流れる。
【００５７】
マイクロ多孔質層１１１は、例えば、セラミックがパイプ部１１０の外側の面に均等に溶射されるとともに、溶射されたセラミックの外側の面が円筒形状に削られることによって形成される。パイプ部１１０が用いられることによって、内側に空間を有するマイクロ多孔質層１１１の成形を容易に行うことができる。
【００５８】
なお、ナノ多孔質層１１２の上流側に配置される多孔質層は、マイクロ多孔質層１１１に限られず、ナノ多孔質層１１２よりも空孔の径が大きい多孔質材料からなる多孔質層であればよい。本実施形態では、マイクロ多孔質層１１１が補助多孔質層に相当する。
【００５９】
ナノ多孔質層１１２はナノメートルオーダーの多数の空孔のほぼ一様な分布を有する多孔質材料で構成された多孔質層である。このナノ多孔質層１１２は、マイクロ多孔質層１１１よりも下流側で、パターン形成層１１３よりも上流側に配置される。後に詳述するように、イオン溶液は、このナノ多孔質層１１２の空孔を流路として流れるうちにナノ粒子溶液に転換される。
【００６０】
このようなナノ多孔質層１１２は、セラミックがマイクロ多孔質層１１１の外側の面に均等に溶射されるとともに、溶射されたセラミックの外側の面が円筒形状に削られることによって形成される。なお、マイクロ多孔質層１１１とナノ多孔質層１１２とは、セラミック溶射の種類、加熱温度などの溶射条件に応じて、生成される空孔の孔径が変化することを利用して作り分けられる。
【００６１】
本実施形態のナノ多孔質層１１２として、空孔の孔径が２〜５０ｎｍであり、窒素と炭素とで構成された物質であるメソポーラス窒化炭素がナノ多孔質層１１２に採用される。この窒化炭素で構成されたナノ多孔質層１１２は空孔の内部にアミノ基を備える。
【００６２】
パターン形成層１１３は、パターンがレジスト層１１４に形成された構造を有する。このパターン形成層１１３は、ナノ多孔質層１１２よりも下流側に配置されており、パターンは、レジスト層１１４の一部が選択的に除去されることによる透孔部１１３１で形成されている。このため、パターン形成層１１３のパターンが形成されている部分では、その内側に位置するナノ多孔質層１１２が透孔部１１３１を介して外部に露出している。この透孔部１１３１から外部に露出した部分のナノ多孔質層１１２の外側の面が滲出面１０２に相当する。滲出面１０２以外のナノ多孔質層１１２の外側の面は、レジストによって塞がれているため、ナノ粒子溶液が外側に滲出することはない。パターン形成層１１３は、印刷版としての機能を有しており、印刷すべきパターンが変わると、新たなパターン用に取り替えられる。このパターン形成層１１３の外側の面が転写面１１３５に相当する。
【００６３】
印刷すべきパターン（たとえば電子回路パターンや、画素配列パターン）は、ナノ粒子溶液が溶液通過層１００の滲出面１０２からパターン形成層１１３の透孔部１１３１に滲出した状態のパターン形成層１１３の転写面１１３５が押し当てられることによって基板Ｗに転写される。本実施形態では、回転する版胴１０が搬送される基板Ｗの表面に押し当てられることでパターンの転写処理が実施される。なお、パターンの転写処理は、版胴１０が移動しながら、固定設置された基板Ｗの表面に押し当てられつつ回転することで実施される形態であっても構わない。
【００６４】
本実施形態では、レジスト層１１４及びパターン形成層１１３が未形成の状態の版胴１０を処理前版胴９と称する。一般的に、パターン転写処理が施される直前に、処理前版胴９に対して後述する被覆層形成工程及びパターン形成層作製工程が実施される。これによって、パターン形成層１１３が処理前版胴９の外側の面に形成され、版胴１０を用いたパターン転写処理の実施が可能となる。
【００６５】
回転軸１２には、溶液供給配管１２２の内側に温調水配管４１が挿通された二重構造の配管が採用される。
【００６６】
回転軸１２を構成する溶液供給配管１２２の一端は溶液供給部３０に繋がる配管３０１に連結され、他端は閉塞部１２０の中心部に連結されている。また、溶液供給配管１２２の内側の空間はパイプ部１１０の内側の配送空間ＳＰに連なっている。つまり、溶液供給部３０から供給されたイオン溶液または洗浄溶液は、溶液供給配管１２２を流れて、パイプ部１１０の内側の配送空間ＳＰに供給される。溶液供給配管１２２が回転中心である回転軸１２を構成するため、版胴１０が回転するにもかかわらず、比較的簡易な構成でイオン溶液及び洗浄溶液をパイプ部１１０の内側の配送空間ＳＰに供給することができる。
【００６７】
温調水配管４１は、上述のように、溶液供給配管１２２と溶液供給配管１２２に連設されるパイプ部１１０との内側の配送空間ＳＰに挿通されている。このため、イオン溶液または洗浄溶液は溶液供給配管１２２を流れる段階で、温調水配管４１によって効率よく所定の温度に調節される。
【００６８】
＜１−３．印刷方法＞
続いて、図４のフローチャートに沿って、本実施形態の印刷装置の動作と、それを用いた印刷方法について説明する。
【００６９】
＜被覆層形成工程＞
被覆層形成工程（ステップＳ１）ではまず、処理前版胴９（図５）が、図示しないレジスト塗布機構に取り付けられる。レジスト塗布機構では、処理前版胴９をその軸心まわりに回転させつつ、レジストの被膜が処理前版胴９の外周面上に一定の膜厚で塗布される。このようにして、ナノ多孔質層１１２の外側の面を覆うレジスト層１１４、つまり本実施形態における被覆層が、図６に示すように形成される。
【００７０】
＜パターン形成層作製工程＞
次に、ナノ多孔質層１１２の外側の面に形成されたレジスト層１１４に対してパターン形成層作製工程が実施される（ステップＳ２）。パターン形成層作製工程は、例えば精密レーザ１５０によって実施される。
【００７１】
図７には、精密レーザ１５０がレジスト層１１４にパターンを形成する様子が示されている。精密レーザ１５０は、レジスト層１１４に形成されるパターンが予めパターンデータとして記憶されている制御部１６０に接続されている。
【００７２】
この制御部１６０が精密レーザ１５０の駆動を制御する。制御部１６０は、精密レーザ１５０がレジスト層１１４に照射するレーザをパターンデータに則って変調させつつ、精密レーザ１５０を版胴１０の延在方向（Ｘ軸方向）に沿って走査させる。精密レーザ１５０が処理前版胴９の延在方向（Ｘ軸方向）に沿ってレジスト層１１４の一端から他端に移動すると、処理前版胴９は所定の角度だけ回転し、精密レーザ１５０は、未走査のレジスト層１１４の面に露光を行う。
【００７３】
露光処理が施されたレジスト層１１４に対して現像処理が実施される。これによって、精密レーザ１５０に照射されたレジストの部分は取り除かれ、パターン形成層１１３が作製される。
【００７４】
＜溶液供給工程＞
図８には、溶液供給工程（ステップＳ３）における版胴１０の様子が示されている。
【００７５】
まず、版胴１０が印刷装置１の昇降テーブルに取り付けられるとともに、昇降テーブルの高さ調整、換言すれば載置ステージ２０と版胴１０との間隔が調節される。また、溶液供給配管１２２と配管３０１とが連結されるとともに切替弁３００が切り替えられて、溶液供給部３０と溶液供給配管１２２とを繋ぐイオン溶液の流路が構成される。さらに、温調水配管４１の一端に配管４０１が連結され、温調水配管４１の他端に図示しない温調水の排出管が連結される。このようにして、温調水供給部４０によって供給された温調水が温調水配管４１を流れる流路が構成される。
【００７６】
続いて、温調水貯留部４１０が備える開閉弁が開放されて、所定の温度に調節された温調水の供給が開始される。温調水は、ポンプ４１１によって所定の圧力で押し流され、温調水配管４１に供給される。
【００７７】
そして、イオン溶液供給部３１がイオン溶液の供給を開始する。イオン溶液貯留部３１０が備える開閉弁が開放されることで流れ出たイオン溶液はポンプ３１１の駆動により所定の圧力で押し流され、パイプ部１１０の内側の配送空間ＳＰに供給される。このとき、イオン溶液は溶液供給配管１２２内で温調水配管４１（温調構造）の外側の面に接しつつ流れるため、所定の温度に調節される。つまり、イオン溶液の粘度が調節される。
【００７８】
ポンプ３１１はイオン溶液に対して圧力をかけ続けるため、パイプ部１１０の内側の配送空間ＳＰがイオン溶液で充たされると、イオン溶液はマイクロ多孔質層１１１の空孔を流路としてマイクロ多孔質層１１１に滲入し始める。マイクロ多孔質層１１１に滲入したイオン溶液は流路を通ってナノ多孔質層１１２に向かって流れる。
【００７９】
ナノ多孔質層１１２に滲入したイオン溶液は、ナノ多孔質層１１２の空孔を流路としてパターン形成層１１３に向かって流れる。このとき、イオン溶液に印加されるポンプ３１１の圧力に基づいてポンプ３１１の駆動は調節され、圧力制御が行われる。
【００８０】
イオン溶液がナノ多孔質層１１２に形成された空孔の内部を流れると、イオン溶液中に含まれる金属のイオンが還元されて微粒子が生成される。より具体的には、本実施形態では、窒化炭素がナノ多孔質層１１２に使用されるため、窒化炭素のアミノ基が、金属のイオンを空孔内に固定するとともに、ゼロ価の金属原子に還元させる。このゼロ価の金属原子が凝集し、空孔のサイズに応じた孔径に成長することで、金属の微粒子が生成される。本実施形態では、孔径が２ｎｍ〜５０ｎｍであるメソポーラスな窒化炭素がナノ多孔質層１１２に使用されるため、ナノメートルオーダーの径を有する金属のナノ粒子が生成される。
【００８１】
イオン溶液に加えられる圧力がポンプ３１１で調節されることにより、アミノ基による金属のナノ粒子の固定状態は解除される。つまり、イオン溶液に印加される圧力が所定の圧力以上に調節されることによって、生成された金属のナノ粒子は液中に分散する。このようにして、金属のイオンが溶剤中に存在するイオン溶液から、金属のナノ粒子が溶剤中に存在するナノ粒子溶液が生成される。
【００８２】
ナノ多孔質層１１２の滲出面１０２から滲出したナノ粒子溶液は、ナノ多孔質層１１２を覆うパターン形成層１１３に形成された透孔部１１３１を通って、パターン形成層１１３の転写面１１３５から滲出する。
【００８３】
＜パターン転写工程＞
続いて、パターン転写工程（ステップＳ４）について説明する。
【００８４】
ナノ粒子溶液がパターンの形状に沿ってパターン形成層１１３の転写面１１３５に滲出し始めた段階で、制御部９０は版胴１０の回転及び基板Ｗが載置された載置ステージ２０の移動を開始させる。
【００８５】
そして、ダミー転写処理が実施される。ダミー転写処理は、転写面１１３５から不規則にナノ粒子溶液が滲出する間、すなわち版胴１０がモータＭＴＲによって回転を始めておよそ一回転する間、版胴１０が、基板Ｗにおける進行方向の下流側の部分を占めるパターンの非転写領域に押し当てられる処理をいう。これによって、転写面１１３５から滲出するナノ粒子溶液の状態は整えられ、ナノ粒子溶液は規則的に滲出するようになる。
【００８６】
ダミー転写処理が実施された後でパターン転写処理が実施される。版胴１０の外側の面（転写面１１３５）が基板Ｗにおけるパターンの転写領域に押し当てられて、モータＭＴＲによる版胴１０の回転と載置ステージ２０の並進移動とが同期して行われつつ、ナノ粒子溶液のパターンが基板Ｗの表面に順次転写されていく。パターンが転写された基板Ｗは、載置ステージ２０によって、次工程の処理が施される装置へと搬送される。
【００８７】
制御部９０は、当該金属のナノ粒子でのパターン転写処理が未実施の基板Ｗが存在するか否かを判断し（ステップＳ５）、未処理の基板Ｗが存在する限り、パターン転写処理は連続して行われる。
【００８８】
＜洗浄工程＞
制御部９０が、未処理の基板Ｗが存在しないことを判断すると、洗浄工程（ステップＳ６）が実施される。図９には、洗浄処理が実施されている状態の版胴１０が示されている。
【００８９】
まず、吸収剤２００が載置ステージ２０上に設置される。吸収剤２００には、例えば不織布などが採用される。
【００９０】
続いて、流路の切り替えが行われる。切替弁３００が切り替えられ、洗浄溶液供給部３２と溶液供給配管１２２とが繋がる洗浄溶液の流路が設定される。そして、洗浄溶液貯留部３２０が備える開閉弁が開放され、貯留されていた洗浄溶液がポンプ３２１によって所定の圧力で押し流される。洗浄溶液はパイプ部１１０の内側の空間に供給される。
【００９１】
洗浄溶液は、溶液供給工程時におけるイオン溶液と同様に、パイプ部１１０、マイクロ多孔質層１１１そしてナノ多孔質層１１２へと順に流れる。これによって、空孔内に残存するイオン溶液及びナノ粒子溶液は各層から取り除かれる。また、洗浄溶液はナノ多孔質層１１２の外周面を覆うレジストを剥離する。吸収剤２００がこれらのイオン溶液、ナノ粒子溶液及びレジストを含む洗浄溶液を吸収し、版胴１０の洗浄処理が行われる。
【００９２】
なお、温調水供給部４０は、洗浄処理時においても温調水を供給し続けるため、洗浄溶液は洗浄に適した温度に調節された状態で使用される。従って、より効果的に洗浄を行うことが可能である。
【００９３】
洗浄工程が実施されると、制御部９０は、新たな種類のイオン溶液、またはパターンで印刷処理を行うか否かを判断し（ステップＳ７）、印刷処理が行われる場合には被覆層形成工程が再び実施され、印刷処理が行われない場合には処理が終了する。
【００９４】
このようにして、金属のナノ粒子を含むナノ粒子溶液で被印刷体の表面にパターン形成が行われる。この印刷方法は、電子回路パターンを有するシート、例えば電子ペーパー、又は電子タグなどの製造に際して、金属材料で回路配線を印刷する際に採用される。これによって、より微細なパターンを備える電子ペーパーや電子タグなどを実現することが可能となる。
【００９５】
以上のように、本実施形態では、金属のイオンを含んだイオン溶液がナノ多孔質層１１２を備える溶液通過層１００を通過することによって、金属のナノ粒子を含むナノ粒子溶液が生成される。従って、金属のナノ粒子の生成工程と、金属のナノ粒子を溶液中で分散させる工程とが一つの工程として行われる。つまり、ナノ粒子が溶剤中に存在するナノ粒子溶液を作製するにあたって複数の工程を要しないため、不純物の混入を抑えられる。
【００９６】
また、ナノ多孔質層１１２が備える空孔の大きさ、イオン溶液の粘度及び空孔内を流れるイオン溶液の流速は、ナノ多孔質層１１２のいずれの位置を占める空孔においても同等である。換言すれば、ナノ粒子の生成条件はナノ多孔質層１１２における空孔各々で同等であるため、生成される金属のナノ粒子はいずれも同等の形状を有する。また、ナノ粒子の生成は、ナノ多孔質層１１２に形成された空孔内で起こるため、生成された金属のナノ粒子が空孔の大きさ以上になることはない。従って、生成される金属のナノ粒子はいずれも同等の大きさになる。このように、比較的均質な形状及び大きさでナノ粒子は生成されるため、印刷後の焼結等の工程が安定する。
【００９７】
また、版胴１０の外側の面にパターン形成層１１３が形成されており、パターンに沿ってナノ粒子溶液が滲出した状態の版胴１０が基板Ｗに押し当てられることでパターンが転写される。このため、印刷装置１は、版胴１０の表面に塗布された余分なナノ粒子溶液をかき取る部材、つまりドクターブレードを備える必要がない。従って、印刷装置１は簡易な装置構成を実現できる。
【００９８】
さらに、本実施形態では、インクに圧力をかけて押し出すため、従来のグラビア印刷やフレキソ印刷よりも厚膜印刷を行うことができ、電子部品の製造に適している。
【００９９】
また、金属のイオンを含むイオン溶液がナノ多孔質層１１２を流れることで自動的にナノ粒子溶液が生成されるため、予めナノ粒子が液中に分散しているナノ粒子溶液は不要であり、コストを削減することができる。
【０１００】
また、転写部である版胴１０がナノ多孔質層１１２を備える。このため、多孔質材料の空孔が、配線サイズが微細化することによって、印刷されるパターンに対して相対的に大きくなることを抑えられる。従って、ナノ粒子溶液の供給はパターンに対して均一に行うことが可能であり、微細な配線パターンを印刷してもパターン欠けなどの不具合が生じにくく、歩留まりも向上する。
【０１０１】
また、溶液通過層１００は円筒形状の構造を有する。また、転写部である版胴１０は、溶液通過層１００の回転軸１２、ナノ多孔質層１１２の内側にイオン溶液を供給する溶液供給配管１２２を備える。従って、ナノ粒子溶液は、円筒形状の溶液通過層１００の外側の面から外部に滲出するため、溶液通過層１００を回転させることで連続した印刷処理を容易に実施することができる。
【０１０２】
また、溶液供給配管１２２が回転軸１２を構成するため、転写部である版胴１０が回転するにもかかわらず、比較的簡易な構成でイオン溶液をナノ多孔質層１１２の内側の空間に供給できる。
【０１０３】
また、溶液通過層１００は、マイクロ多孔質層１１１のような、ナノ多孔質層１１２に形成された空孔よりも径が大きい空孔を有する多孔質材料からなる多孔質層をさらに備える。このため、溶液通過層１００の厚みが同じである場合、ナノ多孔質層１１２で構成された溶液通過層１００と比較して、溶液通過層１００の強度が増すとともに、イオン溶液が流路を流れる際の抵抗を低く抑えられる。また、ナノ多孔質層１１２が溶液通過層１００に占める割合は小さくなるため、溶液通過層１００の作製にかかるコストも抑えられる。
【０１０４】
また、温調水供給部４０が溶液供給部３０によって供給されたイオン溶液の温度を調節する。これによって、外気条件によらず、イオン溶液はその粘度が一定に保持された状態で供給される。従って、イオン溶液の粘度変化によって、ポンプ３１１の印加圧力が変化する要素は排除されるため、生成された金属のナノ粒子を溶剤中に分散させることを目的としたポンプ３１１による印加圧力の制御を行うことができる。
【０１０５】
また、窒化炭素がナノ多孔質層１１２に採用されることによって、金属のナノ粒子を生成させるに際して、従来の工程では必要であった還元剤及び安定剤が不要である。このため、金属のナノ粒子の生成にかかるコストを抑えられる。
【０１０６】
＜２．第２の実施形態＞
次に、図１０を参照しつつ、本発明の第２の実施形態について説明する。なお、以下において、上記第１の実施形態に示される構成要素と同じ構成要素は、同じ参照符号が付されており、上記第１の実施形態と異なる点についてのみ説明するものとする。
【０１０７】
上記第１の実施形態では、溶液通過層１００は、パイプ部１１０、マイクロ多孔質層１１１、ナノ多孔質層１１２を備えていたが、このような構成に限られない。溶液通過層１００が、弾性を有する樹脂材料で形成された樹脂多孔質層１１６をさらに備えていてもよい。以下において、樹脂多孔質層１１６をさらに備える溶液通過層１００を溶液通過層１００ａと称し、溶液通過層１００ａを備える版胴を版胴１０ａと称する。
【０１０８】
樹脂多孔質層１１６は、溶液通過層１００のナノ多孔質層１１２よりも下流側（つまり版胴１０ａの外周側）に配置される。パターン形成層１１３は、この樹脂多孔質層１１６の外側に形成される。つまり、本実施形態では、パターン形成層１１３の透孔部１１３１から外部に露出している樹脂多孔質層１１６の外側の面が滲出面１０２に相当する。樹脂多孔質層１１６に形成された空孔が、溶液通過層１００におけるナノ粒子溶液の流路を構成する。従って、ナノ粒子溶液は、ナノ多孔質層１１２、樹脂多孔質層１１６、そしてパターン形成層１１３の順に流れる。
【０１０９】
樹脂多孔質層１１６はナノ多孔質層１１２よりも下流側、すなわち転写面１１３５側に配置されるため、版胴１０ａが基板Ｗの表面に押し当てられた際に、樹脂多孔質層１１６がその衝撃を和らげる。このため、印刷処理時において、ナノ多孔質層１１２に過大な力がかかることは抑えられ、ナノ多孔質層１１２が破壊されることを抑えられる。
【０１１０】
＜３．変形例＞
転写部は、例えば平たい板状の構造を有する転写プレート６０であっても構わない。図１１には、転写プレート６０の断面図が示されている。なお、図１１では、洗浄溶液供給部及び温調水供給部は不図示としている。
【０１１１】
転写プレート６０は、中空部６５、マイクロ多孔質層１１１ａ及びナノ多孔質層１１２ａが順に積み重ねられた構造を有する。このうち、マイクロ多孔質層１１１ａ及びナノ多孔質層１１２ａはいずれも平板状に形成されている。印刷処理時には、ナノ多孔質層１１２ａの外側の面に平板状のパターン形成層１１３ａが形成される。
【０１１２】
イオン溶液は、中空部６５の内側に形成された空間に所定の圧力で供給される。中空部６５に供給されたイオン溶液は中空部６５の下面に形成された貫通孔６５１から下層に向けて各層を順に流れる。そして、ナノ多孔質層１１２ａにてイオン溶液から生成されたナノ粒子溶液が、パターンを形成する滲出面１０２ａから透孔部１１３１ａを通ってパターン形成層１１３の外側に滲出する。
【０１１３】
パターン形成層１１３ａからナノ粒子溶液が滲出した状態の転写プレート６０が、転写プレート６０の下方に載置された基板Ｗの表面に降下し、基板Ｗの表面に押し当てられる。これによって、基板Ｗの表面にナノ粒子溶液のパターンが転写される。パターンが基板Ｗに転写されると転写プレート６０は上昇し、パターンが転写された基板Ｗは次工程に搬送される。このように、昇降動作が行われることによって、基板Ｗにパターンの転写処理を行う転写プレート６０が転写部として採用されても構わない。
【０１１４】
また、上記実施形態では、転写部である版胴１０が溶液通過層１００を備えており、版胴１０の内側からナノ粒子溶液を滲出させて印刷処理を行う形態であったが、これに限られない。例えば、メソポーラス窒化炭素で構成された多孔質層を通過することによって、イオン溶液から生成されたナノ粒子溶液が、版胴の外側の面に固定されて所定のパターンが形成された印刷版に外部から塗布され、印刷版を被印刷体に押し当てることでパターンを転写する形態であってもよい。この場合には、上記実施形態と同様の溶液通過層１００を用いた装置は、印刷装置内で使用される「ナノ粒子印刷材料生成装置」として機能する。
【符号の説明】
【０１１５】
１ 印刷装置
１０ 版胴
１２ 回転軸
２０ 載置ステージ
３０ 溶液供給部
４０ 温調水供給部
４１ 温調水配管（温調構造）
７０ 移動機構
８０ 基台
９０ 制御部
１００ 溶液通過層
１０２ 滲出面
１１１ マイクロ多孔質層（補助多孔質層）
１１２ ナノ多孔質層
１１３ パターン形成層
１１４ レジスト層
１１６ 樹脂多孔質層
１２０ 閉塞部
１２２ 溶液供給配管
１１３５ 転写面
Ｗ 基板
【技術分野】
【０００１】
本発明は、金属の微粒子を含む印刷材料を用いて、被印刷体にパターンを形成する技術に関するもので、特に、半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板、ＰＤＰ用ガラス基板、磁気／光ディスク用のガラス／セラミック基板、ＰＶ、電子ペーパー、無線タグなどの各被印刷体に対して、電気配線などのパターニング印刷を行う所謂プリンテッドエレクトロニクスに好適な技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
溶媒中に金属のナノ粒子が分散しているナノ粒子インクを被印刷体表面に吐出し、吐出された金属のナノ粒子を焼結させることで、電極や電子回路における配線パターンを形成する技術が知られている。
【０００３】
例えば、特許文献１には、金属のナノ粒子がインク中に分散している金属ナノインクが、基板表面上に形成されたレジスト層の側壁と基板表面とで形成された溝に沿って吐出されることによって、パターンを形成する技術が開示されている。この方法では、金属ナノインクが吐出された後でレジスト層が除去されることにより、金属のナノ粒子によって描かれたパターンが基板上に形成される。
【０００４】
また、特許文献２には、非分散性の金属のナノ粒子に、溶媒中における分散性を持たせる表面改質処理技術が開示されている。また、表面改質処理が施された金属のナノ粒子を含むナノインクについても記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００６−２６０９５４号公報
【特許文献２】特開２００８−０９５１９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、上述のナノ粒子インクは、あらかじめ別工程で生成された金属のナノ粒子を、溶媒中に分散させる工程を経て製造される。このため、特許文献１及び特許文献２に開示されている技術は、以下に示す問題点を有する。
【０００７】
一つ目は、ナノ粒子インク中に不純物が混入してしまう問題である。上述のように、ナノ粒子インクは、ナノ粒子そのものの生成工程や、生成されたナノ粒子を溶剤中に混合させる工程などの複数の工程を経て生成されるため、その分不純物が混入しやすい。また、一旦混入した不純物はナノ粒子インク中から取り除き難い。
【０００８】
二つ目は、ナノ粒子の生成工程において、均質な形状及び大きさのナノ粒子の生成が難しいという問題である。各ナノ粒子の形状及び大きさが不揃いである場合、微細なパターンの形成に困難性を有する。
【０００９】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、不純物の混入が抑えられるとともに、比較的均質な形状及び大きさに生成された金属のナノ粒子を含むナノ粒子インクで被印刷体にパターンの転写を行うことができる技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
第１の発明は、印刷装置であって、被印刷体を保持する保持部と、金属のイオンを含んだ第１溶液を供給する溶液供給部と、前記溶液供給部から供給された前記第１溶液を通過させることによって前記第１溶液を第２溶液へと変化させる溶液通過層を備えるとともに、前記溶液通過層の外側に形成された転写面から滲出した前記第２溶液の所定のパターンを前記被印刷体に転写する転写部と、を備え、前記溶液通過層が、ナノメートルオーダーの空孔が分布した多孔質材料によって形成されたナノ多孔質層、を備えることを特徴とする。
【００１１】
第２の発明は、第１の発明に係る印刷装置であって、前記溶液通過層は、前記ナノ多孔質層に形成された空孔よりも径が大きい空孔が分布した補助多孔質材料によって形成され、前記転写面とは反対側において前記ナノ多孔質層に積層された補助多孔質層、をさらに備え、前記溶液供給部から供給された前記第１溶液は、前記補助多孔質層を通過した後に、前記ナノ多孔質層に与えられることを特徴とする。
【００１２】
第３の発明は、第１の発明または第２の発明に係る印刷装置であって、前記溶液通過層は、前記ナノ多孔質層と前記転写面との間に配置された、弾性を有する樹脂多孔質層、をさらに備えることを特徴とする。
【００１３】
第４の発明は、第１の発明ないし第３の発明のいずれか一つに記載の印刷装置であって、前記溶液供給部によって供給された前記第１溶液の温度を調節して前記溶液通過層に与える温度調節部、をさらに備えることを特徴とする。
【００１４】
第５の発明は、第４の発明に係る印刷装置であって、前記転写部の内部には、前記溶液通過層の層面の各部分に前記第１溶液を配送する配送空間が形成されており、前記温度調節部は、前記配送空間内に配置された温調構造を有することを特徴とする。
【００１５】
第６の発明は、第１の発明ないし第５の発明のいずれか一つに記載の印刷装置であって、前記転写部は円筒形とされて、その外周に前記転写面が規定されるとともに、前記溶液通過層は、前記転写面よりも筒心側に配置した円筒型層構造として形成されており、前記第１溶液は、前記円筒型層構造よりも筒心側に設けられた空間に供給されることを特徴とする。
【００１６】
第７の発明は、第１の発明ないし第６の発明のいずれか一つに記載の印刷装置であって、前記ナノ多孔質層の空孔の孔径が２ナノメートル以上５０ナノメートル以下である。
【００１７】
第８の発明は、第１の発明ないし第７の発明のいずれか一つに記載の印刷装置であって、前記ナノ多孔質層の材料は窒化炭素を主たる原料とする。
【００１８】
第９の発明は、版胴であって、円筒構造として形成され、金属のイオンを含んだ第１溶液を筒心側から筒面側に向かって通過させることによって前記第１溶液を第２溶液へと変化させる溶液通過層と、前記円筒構造の前記筒心側に設けられ、前記第１溶液を受け入れて前記溶液通過層に導入する溶液供給管と、を備え、前記溶液通過層の筒面側に所定のパターンを形成することによって、前記第２溶液のパターンを被印刷体に転写可能であり、前記溶液通過層が、ナノメートルオーダーの空孔が分布した多孔質材料によって形成されたナノ多孔質層、を備えることを特徴とする。
【００１９】
第１０の発明は、第９の発明に係る版胴であって、前記溶液供給管が前記円筒構造の回転軸を構成する。
【００２０】
第１１の発明は、第９の発明または第１０の発明に係る版胴であって、前記溶液通過層の前記円筒構造の筒心側の空間が、前記第１溶液を前記溶液通過層の層面の各部分に配送する配送空間とされており、前記配送空間内に配置された温調構造、をさらに備えることを特徴とする。
【００２１】
第１２の発明は、ナノ粒子印刷材料生成装置であって、金属のイオンを含んだ第１溶液を供給する溶液供給部と、前記溶液供給部から供給された前記第１溶液を通過させることによって前記第１溶液を第２溶液へと変化させる溶液通過層と、を備え、前記溶液通過層が、ナノメートルオーダーの空孔が分布した多孔質材料によって形成されたナノ多孔質層、を備えることを特徴とする。
【００２２】
第１３の発明は、印刷方法であって、金属のイオンを含んだ第１溶液を所定の溶液通過層に通過させることによって、前記第１溶液を第２溶液へと変化させる工程と、前記溶液通過層の外側に形成された転写面から滲出した前記第２溶液の所定のパターンを被印刷体に転写する工程と、を備え、前記溶液通過層が、ナノメートルオーダーの空孔が分布した多孔質材料によって形成されたナノ多孔質層、を備えることを特徴とする。
【００２３】
第１４の発明は、第１３の発明に係る印刷方法によって印刷された電子回路パターンを有する電子シートである。
【発明の効果】
【００２４】
第１の発明から第１４の発明において、金属のイオンを含んだ第１溶液がナノ多孔質層を備える溶液通過層を通過することによって金属のイオンが還元されて微粒子が生成される。つまり、第１溶液から、金属の微粒子を含む溶液が第２溶液として生成される。このように、金属の微粒子の生成工程と、金属の微粒子を溶液中で分散させる工程とが一つの工程として行われるため、不純物の混入を抑えられる。
【００２５】
また、生成される微粒子はナノ多孔質層の空孔のサイズと同等の粒子径を有するため、各微粒子の粒子径を揃えることができる。また、いずれの空孔においても微粒子の生成条件はほぼ一定であるため、生成される微粒子の形状を揃えることができる。
【００２６】
特に、第１ないし第１１の発明では、転写面から滲出した第２溶液のパターンが被印刷体に転写されるため、転写面に余分に付着した第２溶液をかき取る部材（ドクターブレードに相当する部材）が不要であり、簡易な装置構成を実現できるという利点もある。
【００２７】
特に、第２の発明において、溶液通過層は、ナノ多孔質層に形成された空孔よりも径が大きい空孔の分布を有する補助多孔質層をさらに備える。このため、溶液通過層の強度が増すとともに、第１溶液が溶液通過層を流れる際の抵抗を低く抑えられる。また、ナノ多孔質層が溶液通過層に占める割合は小さくなるため、溶液通過層の作製にかかるコストも抑えられる。
【００２８】
特に、第３の発明において、溶液通過層が、弾性を有する樹脂材料からなる樹脂多孔質層をさらに備える。このため、印刷処理時に、溶液通過層が被印刷体に押し当てられても、樹脂多孔質層がその衝撃を和らげるため、ナノ多孔質層が破壊されることを抑えられる。
【００２９】
特に、第４の発明において、温度調節部が溶液供給部によって供給された第１溶液の温度を調節する。これによって、外気条件によらず、第１溶液はその粘度が一定に保持された状態で供給される。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る印刷装置の側面図である。
【図２】第１の実施形態に係る印刷装置が備える制御部のハードウェア構成を示すブロック図である。
【図３】第１の実施形態に係る版胴の部分断面図である。
【図４】印刷処理の流れを示すフローチャートである。
【図５】印刷処理の一部である被覆層形成工程が実施される前の版胴の部分断面図である。
【図６】印刷処理の一部である被覆層形成工程が実施された後の版胴の部分断面図である。
【図７】印刷処理の一部であるパターン形成層作製工程が実施されている状態の版胴の部分断面図である。
【図８】印刷処理の一部である溶液供給工程の様子を示す図である。
【図９】印刷処理の一部である洗浄工程の様子を示す図である。
【図１０】本発明の第２の実施形態に係る版胴の部分断面図である。
【図１１】変形例に係る転写プレートの断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３１】
以下、添付の図面を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。以下の実施形態は、本発明を具体化した一例であり、本発明の技術的範囲を限定する事例ではない。
【００３２】
＜１．第１の実施形態＞
＜１−１．印刷装置１の説明＞
図１には、本発明の実施形態に係る印刷装置１の側面図が示されている。
【００３３】
印刷装置１は、円筒形の版胴１０、載置ステージ２０、溶液供給部３０及び温調水供給部４０を備える。また、印刷装置１は、装置の各動作機構を制御して印刷処理を実行させる制御部９０を備える。なお、制御部９０は印刷装置１とは別体に構成されたコンピュータであってもよい。制御部９０に予めインストールされたプログラムに従って、後述する一連のシーケンスが実行される。
【００３４】
印刷処理は被印刷体が載置ステージ２０上に載置及び保持された状態で実施される。本実施形態では、例えばガラス基板などの基板Ｗが被印刷体に使用される。
【００３５】
載置ステージ２０は平板状の外形を有し、その上面に基板Ｗを水平姿勢に載置する。載置ステージ２０の上面には複数の図示しない吸引孔が形成されており、この吸引孔に負圧（吸引圧）を形成することによって、載置ステージ２０上に載置された基板Ｗが固定保持される。
【００３６】
載置ステージ２０には、一対の直動ガイド７１及びリニアモータ７２などの移動機構７０が配設されている。これらの移動機構７０が駆動することによって、載置ステージ２０は、所定の速度で基台８０の上を図１における水平Ｙ軸方向に沿って往復搬送される。
【００３７】
印刷装置１は、基台８０に設置されるとともに、鉛直方向（Ｚ軸方向）に沿って昇降可能な図示しない昇降テーブルを備える。この昇降テーブルが後に詳述する版胴１０を保持する。載置ステージ２０と版胴１０との鉛直方向における間隔は、昇降テーブルを昇降させることによって調節することができる。これによって、印刷処理時における基板Ｗへの版胴１０の押圧力が調節される。なお、版胴１０は着脱自在であり、昇降テーブルに対して容易に取り外し又は取り付けを行うことができる。
【００３８】
溶液供給部３０はイオン溶液供給部３１と洗浄溶液供給部３２とを備える。イオン溶液供給部３１はイオン溶液（第１溶液）が貯留されるイオン溶液貯留部３１０と、イオン溶液を所定の圧力で後述する溶液通過層１００に押し流すポンプ３１１と、を備える。
【００３９】
イオン溶液は、金属のイオンが溶剤中に存在する溶液であって、基板Ｗにパターンを転写する際に使用される溶液（第２溶液）の基礎となる液体材料である。金属としては例えば金などが使用される。本実施形態では、イオン溶液に含まれる金属のイオンが還元されて、ナノメートルオーダーのサイズを有する微粒子（以下において、ナノ粒子と称する。）が生成される。つまり、第１溶液であるイオン溶液から、金属のナノ粒子が溶剤中に存在するナノ粒子溶液が第２溶液として生成される。
【００４０】
洗浄溶液供給部３２は、洗浄溶液が貯留される洗浄溶液貯留部３２０と、洗浄溶液を所定の圧力で溶液通過層１００に押し流すポンプ３２１とを備える。洗浄溶液は、溶液通過層１００の内部に残るイオン溶液、ナノ粒子溶液及びパターン形成層１１３のレジストを除去し、溶液通過層１００を洗浄するために使用される。
【００４１】
イオン溶液供給部３１と洗浄溶液供給部３２との各々に接続された配管３０２及び配管３０３は、切替弁３００を介して、溶液通過層１００に繋がる流路を構成する配管３０１に接続されている。切替弁３００が切り替えられることによって、パターン転写処理時にはイオン溶液供給部３１と溶液通過層１００とを繋ぐ流路が構成され、洗浄処理時には洗浄溶液供給部３２と溶液通過層１００とを繋ぐ流路が構成される。
【００４２】
なお、図１では、配管３０１と後述する溶液供給配管１２２との接続状態が概略的に記載されている。実際には例えば、メカニカルシールが端部に取り付けられた状態の溶液供給配管１２２が配管３０１に接続されるなど、版胴１０が回転しても溶液供給配管１２２と配管３０１との接続部から溶液が漏れることを抑えられる構造が採用される。
【００４３】
温調水供給部４０は、所定の温度に調節された温調水を貯留する温調水貯留部４１０と、温調水を所定の圧力で温調水配管４１に押し流すポンプ４１１とを備える。
【００４４】
温調水配管４１は、版胴１０の内側に挿通されており、その両端が版胴１０の回転軸１２各々の内側に位置する。後述するように、円筒型層構造とされた溶液通過層１００が版胴１０に形成されており、その筒心側の空間は、イオン溶液を溶液通過層１００の層面の各部へ配送する配送空間ＳＰとされている。温調水配管４１は、この配送空間ＳＰ内に配置されている。
【００４５】
温調水は室温よりも高温に昇温されており、配管４０１を流れて、回転軸１２の一端に位置する温調水配管４１の端部から温調水配管４１の内部に供給され、回転軸１２の他端に位置する温調水配管４１の端部から排出される。温調水配管４１から排出された温調水は、再び温調水貯留部４１０に回収、又は廃棄される。
【００４６】
また、配管４０１は、図１では概略的に記載されているが、実際には温調水配管４１側の配管４０１の部分は配管３０１の内側に配置されており、それ以外の配管４０１の部分は配管３０１の一部分から配管３０１の外側に延び出て、温調水供給部４０に接続されている。温調水配管４１と配管４０１との接続及び温調水配管４１と図示しない排出配管との接続にも、例えばメカニカルシールが使用されるなど、版胴１０が回転しても各接続部分から温調水が漏れることを抑えられる構造が採用される。
【００４７】
図２には、制御部９０のハードウェア構成が示されている。制御部９０のハードウェアとしての構成は、一般的なコンピュータと同様である。即ち、制御部９０は、各種演算処理を行うＣＰＵ９１、基本プログラムを記憶する読み出し専用のメモリであるＲОＭ９２、各種情報を記憶する読み書き自在のメモリであるＲＡＭ９３及び制御用ソフトウェア、又はデータなどを記憶しておく磁気ディスク９４、キーボード及びマウスなどの入力部９５をバスライン９９に接続して構成されている。さらに、バスライン９９には、リニアモータ７２、図示しない版胴１０の回転機構、イオン溶液貯留部３１０、ポンプ３１１、洗浄溶液貯留部３２０、ポンプ３２１、温調水貯留部４１０、ポンプ４１１などが電気的に接続されている。
【００４８】
なお、後述する制御部１６０についても同様のハードウェア構成を備える。制御部１６０では基板Ｗに転写されるパターンのデータが記憶されている。
【００４９】
＜１−２．版胴１０について＞
図３を用いて、本実施形態における版胴１０について説明する。図３には、印刷装置１が備える版胴１０の部分断面図が示されている。版胴１０は、主に円筒形の胴部１１と、胴部１１の中心軸に沿って配設された回転軸１２とを備えており、Ｘ方向に延設された回転軸１２を中心にして、回転機構を構成するモータＭＴＲの駆動によって回転する。この版胴１０が本実施形態における転写部に相当する。
【００５０】
本実施形態における胴部１１は、円筒形状（円筒型層構造）の溶液通過層１００と、溶液通過層１００の両端が固定されてその側面を閉塞する閉塞部１２０とを備える。すなわち、胴部１１は、溶液通過層１００が胴部１１の外周部分の全面を巻回し、その両端面を一対の閉塞部１２０が支持するドラム型となっている。
【００５１】
溶液通過層１００のうちの最内面は、イオン溶液が流入する流入面１０１となっている。また溶液通過層１００の外周面には、ナノ粒子溶液が外部に滲出する滲出面１０２が形成される。つまり、イオン溶液は、円筒形状の溶液通過層の筒心側（内側）から筒面側（外側）に向かって流れる。より詳細には、流入面１０１から流入したイオン溶液は、流入面１０１から滲出面１０２に至る溶液通過層１００の内部流路に沿って流れつつ、後述する過程によってナノ粒子溶液へと変化して、最終的に滲出面１０２から滲出する。なお、滲出面１０２については後に詳述する。
【００５２】
本実施形態における溶液通過層１００は、その内周面が流入面１０１を規定するパイプ部１１０、マイクロ多孔質層１１１及びその外周面が滲出面１０２を規定するナノ多孔質層１１２を備える。
【００５３】
印刷処理時には、この滲出面１０２に規定されるナノ多孔質層１１２の面の外側に、後述するパターン形成層１１３が形成される。より詳細には、パイプ部１１０、マイクロ多孔質層１１１、ナノ多孔質層１１２、及びパターン形成層１１３がこの順に内側から積層配置された四重かつ同心の円筒形状の構造が採用される。つまり、溶液通過層１００の筒面側にパターン形成層が配置される。
【００５４】
パイプ部１１０は円筒形状の金属で構成されており、内側の部分に空間（配送空間ＳＰ）を有する。このパイプ部１１０には多数の貫通孔１１０１がほぼ均等に分布して形成されている。パイプ部１１０の内側の配送空間ＳＰに供給されたイオン溶液及び洗浄溶液は、この貫通孔１１０１から溶液通過層１００の各層面にほぼ均等に流入する。
【００５５】
パイプ部１１０の両端における２つの開口は閉塞部１２０各々によって塞がれている。閉塞部１２０は、パイプ部１１０の開口の面積よりも大きい面積を有するとともに、中心部に回転軸が接続される孔が形成された円形の平板であり、閉塞部１２０の中心と開口の中心とが一致するようにして、パイプ部１１０と一体に接続されている。従って、閉塞部１２０は貫通孔１１０１が形成されたパイプ部１１０の面よりも外周側に張り出た部分を有する。この閉塞部１２０の張り出し部分がマイクロ多孔質層１１１、ナノ多孔質層１１２のＸ軸方向における両端部に接しており、マイクロ多孔質層１１１及びナノ多孔質層１１２の位置ずれを規制する。
【００５６】
マイクロ多孔質層１１１は、マイクロメートルオーダーの多数の空孔のほぼ一様な分布を有する多孔質材料によって構成された多孔質層である。このマイクロ多孔質層１１１は、ナノ多孔質層１１２よりも上流側で、パイプ部１１０よりも下流側に配置されている。パイプ部１１０の貫通孔１１０１から溶液通過層１００に流入したイオン溶液は、マイクロ多孔質層１１１の空孔を流路として、マイクロ多孔質層１１１の内部をナノ多孔質層１１２に向かって流れる。
【００５７】
マイクロ多孔質層１１１は、例えば、セラミックがパイプ部１１０の外側の面に均等に溶射されるとともに、溶射されたセラミックの外側の面が円筒形状に削られることによって形成される。パイプ部１１０が用いられることによって、内側に空間を有するマイクロ多孔質層１１１の成形を容易に行うことができる。
【００５８】
なお、ナノ多孔質層１１２の上流側に配置される多孔質層は、マイクロ多孔質層１１１に限られず、ナノ多孔質層１１２よりも空孔の径が大きい多孔質材料からなる多孔質層であればよい。本実施形態では、マイクロ多孔質層１１１が補助多孔質層に相当する。
【００５９】
ナノ多孔質層１１２はナノメートルオーダーの多数の空孔のほぼ一様な分布を有する多孔質材料で構成された多孔質層である。このナノ多孔質層１１２は、マイクロ多孔質層１１１よりも下流側で、パターン形成層１１３よりも上流側に配置される。後に詳述するように、イオン溶液は、このナノ多孔質層１１２の空孔を流路として流れるうちにナノ粒子溶液に転換される。
【００６０】
このようなナノ多孔質層１１２は、セラミックがマイクロ多孔質層１１１の外側の面に均等に溶射されるとともに、溶射されたセラミックの外側の面が円筒形状に削られることによって形成される。なお、マイクロ多孔質層１１１とナノ多孔質層１１２とは、セラミック溶射の種類、加熱温度などの溶射条件に応じて、生成される空孔の孔径が変化することを利用して作り分けられる。
【００６１】
本実施形態のナノ多孔質層１１２として、空孔の孔径が２〜５０ｎｍであり、窒素と炭素とで構成された物質であるメソポーラス窒化炭素がナノ多孔質層１１２に採用される。この窒化炭素で構成されたナノ多孔質層１１２は空孔の内部にアミノ基を備える。
【００６２】
パターン形成層１１３は、パターンがレジスト層１１４に形成された構造を有する。このパターン形成層１１３は、ナノ多孔質層１１２よりも下流側に配置されており、パターンは、レジスト層１１４の一部が選択的に除去されることによる透孔部１１３１で形成されている。このため、パターン形成層１１３のパターンが形成されている部分では、その内側に位置するナノ多孔質層１１２が透孔部１１３１を介して外部に露出している。この透孔部１１３１から外部に露出した部分のナノ多孔質層１１２の外側の面が滲出面１０２に相当する。滲出面１０２以外のナノ多孔質層１１２の外側の面は、レジストによって塞がれているため、ナノ粒子溶液が外側に滲出することはない。パターン形成層１１３は、印刷版としての機能を有しており、印刷すべきパターンが変わると、新たなパターン用に取り替えられる。このパターン形成層１１３の外側の面が転写面１１３５に相当する。
【００６３】
印刷すべきパターン（たとえば電子回路パターンや、画素配列パターン）は、ナノ粒子溶液が溶液通過層１００の滲出面１０２からパターン形成層１１３の透孔部１１３１に滲出した状態のパターン形成層１１３の転写面１１３５が押し当てられることによって基板Ｗに転写される。本実施形態では、回転する版胴１０が搬送される基板Ｗの表面に押し当てられることでパターンの転写処理が実施される。なお、パターンの転写処理は、版胴１０が移動しながら、固定設置された基板Ｗの表面に押し当てられつつ回転することで実施される形態であっても構わない。
【００６４】
本実施形態では、レジスト層１１４及びパターン形成層１１３が未形成の状態の版胴１０を処理前版胴９と称する。一般的に、パターン転写処理が施される直前に、処理前版胴９に対して後述する被覆層形成工程及びパターン形成層作製工程が実施される。これによって、パターン形成層１１３が処理前版胴９の外側の面に形成され、版胴１０を用いたパターン転写処理の実施が可能となる。
【００６５】
回転軸１２には、溶液供給配管１２２の内側に温調水配管４１が挿通された二重構造の配管が採用される。
【００６６】
回転軸１２を構成する溶液供給配管１２２の一端は溶液供給部３０に繋がる配管３０１に連結され、他端は閉塞部１２０の中心部に連結されている。また、溶液供給配管１２２の内側の空間はパイプ部１１０の内側の配送空間ＳＰに連なっている。つまり、溶液供給部３０から供給されたイオン溶液または洗浄溶液は、溶液供給配管１２２を流れて、パイプ部１１０の内側の配送空間ＳＰに供給される。溶液供給配管１２２が回転中心である回転軸１２を構成するため、版胴１０が回転するにもかかわらず、比較的簡易な構成でイオン溶液及び洗浄溶液をパイプ部１１０の内側の配送空間ＳＰに供給することができる。
【００６７】
温調水配管４１は、上述のように、溶液供給配管１２２と溶液供給配管１２２に連設されるパイプ部１１０との内側の配送空間ＳＰに挿通されている。このため、イオン溶液または洗浄溶液は溶液供給配管１２２を流れる段階で、温調水配管４１によって効率よく所定の温度に調節される。
【００６８】
＜１−３．印刷方法＞
続いて、図４のフローチャートに沿って、本実施形態の印刷装置の動作と、それを用いた印刷方法について説明する。
【００６９】
＜被覆層形成工程＞
被覆層形成工程（ステップＳ１）ではまず、処理前版胴９（図５）が、図示しないレジスト塗布機構に取り付けられる。レジスト塗布機構では、処理前版胴９をその軸心まわりに回転させつつ、レジストの被膜が処理前版胴９の外周面上に一定の膜厚で塗布される。このようにして、ナノ多孔質層１１２の外側の面を覆うレジスト層１１４、つまり本実施形態における被覆層が、図６に示すように形成される。
【００７０】
＜パターン形成層作製工程＞
次に、ナノ多孔質層１１２の外側の面に形成されたレジスト層１１４に対してパターン形成層作製工程が実施される（ステップＳ２）。パターン形成層作製工程は、例えば精密レーザ１５０によって実施される。
【００７１】
図７には、精密レーザ１５０がレジスト層１１４にパターンを形成する様子が示されている。精密レーザ１５０は、レジスト層１１４に形成されるパターンが予めパターンデータとして記憶されている制御部１６０に接続されている。
【００７２】
この制御部１６０が精密レーザ１５０の駆動を制御する。制御部１６０は、精密レーザ１５０がレジスト層１１４に照射するレーザをパターンデータに則って変調させつつ、精密レーザ１５０を版胴１０の延在方向（Ｘ軸方向）に沿って走査させる。精密レーザ１５０が処理前版胴９の延在方向（Ｘ軸方向）に沿ってレジスト層１１４の一端から他端に移動すると、処理前版胴９は所定の角度だけ回転し、精密レーザ１５０は、未走査のレジスト層１１４の面に露光を行う。
【００７３】
露光処理が施されたレジスト層１１４に対して現像処理が実施される。これによって、精密レーザ１５０に照射されたレジストの部分は取り除かれ、パターン形成層１１３が作製される。
【００７４】
＜溶液供給工程＞
図８には、溶液供給工程（ステップＳ３）における版胴１０の様子が示されている。
【００７５】
まず、版胴１０が印刷装置１の昇降テーブルに取り付けられるとともに、昇降テーブルの高さ調整、換言すれば載置ステージ２０と版胴１０との間隔が調節される。また、溶液供給配管１２２と配管３０１とが連結されるとともに切替弁３００が切り替えられて、溶液供給部３０と溶液供給配管１２２とを繋ぐイオン溶液の流路が構成される。さらに、温調水配管４１の一端に配管４０１が連結され、温調水配管４１の他端に図示しない温調水の排出管が連結される。このようにして、温調水供給部４０によって供給された温調水が温調水配管４１を流れる流路が構成される。
【００７６】
続いて、温調水貯留部４１０が備える開閉弁が開放されて、所定の温度に調節された温調水の供給が開始される。温調水は、ポンプ４１１によって所定の圧力で押し流され、温調水配管４１に供給される。
【００７７】
そして、イオン溶液供給部３１がイオン溶液の供給を開始する。イオン溶液貯留部３１０が備える開閉弁が開放されることで流れ出たイオン溶液はポンプ３１１の駆動により所定の圧力で押し流され、パイプ部１１０の内側の配送空間ＳＰに供給される。このとき、イオン溶液は溶液供給配管１２２内で温調水配管４１（温調構造）の外側の面に接しつつ流れるため、所定の温度に調節される。つまり、イオン溶液の粘度が調節される。
【００７８】
ポンプ３１１はイオン溶液に対して圧力をかけ続けるため、パイプ部１１０の内側の配送空間ＳＰがイオン溶液で充たされると、イオン溶液はマイクロ多孔質層１１１の空孔を流路としてマイクロ多孔質層１１１に滲入し始める。マイクロ多孔質層１１１に滲入したイオン溶液は流路を通ってナノ多孔質層１１２に向かって流れる。
【００７９】
ナノ多孔質層１１２に滲入したイオン溶液は、ナノ多孔質層１１２の空孔を流路としてパターン形成層１１３に向かって流れる。このとき、イオン溶液に印加されるポンプ３１１の圧力に基づいてポンプ３１１の駆動は調節され、圧力制御が行われる。
【００８０】
イオン溶液がナノ多孔質層１１２に形成された空孔の内部を流れると、イオン溶液中に含まれる金属のイオンが還元されて微粒子が生成される。より具体的には、本実施形態では、窒化炭素がナノ多孔質層１１２に使用されるため、窒化炭素のアミノ基が、金属のイオンを空孔内に固定するとともに、ゼロ価の金属原子に還元させる。このゼロ価の金属原子が凝集し、空孔のサイズに応じた孔径に成長することで、金属の微粒子が生成される。本実施形態では、孔径が２ｎｍ〜５０ｎｍであるメソポーラスな窒化炭素がナノ多孔質層１１２に使用されるため、ナノメートルオーダーの径を有する金属のナノ粒子が生成される。
【００８１】
イオン溶液に加えられる圧力がポンプ３１１で調節されることにより、アミノ基による金属のナノ粒子の固定状態は解除される。つまり、イオン溶液に印加される圧力が所定の圧力以上に調節されることによって、生成された金属のナノ粒子は液中に分散する。このようにして、金属のイオンが溶剤中に存在するイオン溶液から、金属のナノ粒子が溶剤中に存在するナノ粒子溶液が生成される。
【００８２】
ナノ多孔質層１１２の滲出面１０２から滲出したナノ粒子溶液は、ナノ多孔質層１１２を覆うパターン形成層１１３に形成された透孔部１１３１を通って、パターン形成層１１３の転写面１１３５から滲出する。
【００８３】
＜パターン転写工程＞
続いて、パターン転写工程（ステップＳ４）について説明する。
【００８４】
ナノ粒子溶液がパターンの形状に沿ってパターン形成層１１３の転写面１１３５に滲出し始めた段階で、制御部９０は版胴１０の回転及び基板Ｗが載置された載置ステージ２０の移動を開始させる。
【００８５】
そして、ダミー転写処理が実施される。ダミー転写処理は、転写面１１３５から不規則にナノ粒子溶液が滲出する間、すなわち版胴１０がモータＭＴＲによって回転を始めておよそ一回転する間、版胴１０が、基板Ｗにおける進行方向の下流側の部分を占めるパターンの非転写領域に押し当てられる処理をいう。これによって、転写面１１３５から滲出するナノ粒子溶液の状態は整えられ、ナノ粒子溶液は規則的に滲出するようになる。
【００８６】
ダミー転写処理が実施された後でパターン転写処理が実施される。版胴１０の外側の面（転写面１１３５）が基板Ｗにおけるパターンの転写領域に押し当てられて、モータＭＴＲによる版胴１０の回転と載置ステージ２０の並進移動とが同期して行われつつ、ナノ粒子溶液のパターンが基板Ｗの表面に順次転写されていく。パターンが転写された基板Ｗは、載置ステージ２０によって、次工程の処理が施される装置へと搬送される。
【００８７】
制御部９０は、当該金属のナノ粒子でのパターン転写処理が未実施の基板Ｗが存在するか否かを判断し（ステップＳ５）、未処理の基板Ｗが存在する限り、パターン転写処理は連続して行われる。
【００８８】
＜洗浄工程＞
制御部９０が、未処理の基板Ｗが存在しないことを判断すると、洗浄工程（ステップＳ６）が実施される。図９には、洗浄処理が実施されている状態の版胴１０が示されている。
【００８９】
まず、吸収剤２００が載置ステージ２０上に設置される。吸収剤２００には、例えば不織布などが採用される。
【００９０】
続いて、流路の切り替えが行われる。切替弁３００が切り替えられ、洗浄溶液供給部３２と溶液供給配管１２２とが繋がる洗浄溶液の流路が設定される。そして、洗浄溶液貯留部３２０が備える開閉弁が開放され、貯留されていた洗浄溶液がポンプ３２１によって所定の圧力で押し流される。洗浄溶液はパイプ部１１０の内側の空間に供給される。
【００９１】
洗浄溶液は、溶液供給工程時におけるイオン溶液と同様に、パイプ部１１０、マイクロ多孔質層１１１そしてナノ多孔質層１１２へと順に流れる。これによって、空孔内に残存するイオン溶液及びナノ粒子溶液は各層から取り除かれる。また、洗浄溶液はナノ多孔質層１１２の外周面を覆うレジストを剥離する。吸収剤２００がこれらのイオン溶液、ナノ粒子溶液及びレジストを含む洗浄溶液を吸収し、版胴１０の洗浄処理が行われる。
【００９２】
なお、温調水供給部４０は、洗浄処理時においても温調水を供給し続けるため、洗浄溶液は洗浄に適した温度に調節された状態で使用される。従って、より効果的に洗浄を行うことが可能である。
【００９３】
洗浄工程が実施されると、制御部９０は、新たな種類のイオン溶液、またはパターンで印刷処理を行うか否かを判断し（ステップＳ７）、印刷処理が行われる場合には被覆層形成工程が再び実施され、印刷処理が行われない場合には処理が終了する。
【００９４】
このようにして、金属のナノ粒子を含むナノ粒子溶液で被印刷体の表面にパターン形成が行われる。この印刷方法は、電子回路パターンを有するシート、例えば電子ペーパー、又は電子タグなどの製造に際して、金属材料で回路配線を印刷する際に採用される。これによって、より微細なパターンを備える電子ペーパーや電子タグなどを実現することが可能となる。
【００９５】
以上のように、本実施形態では、金属のイオンを含んだイオン溶液がナノ多孔質層１１２を備える溶液通過層１００を通過することによって、金属のナノ粒子を含むナノ粒子溶液が生成される。従って、金属のナノ粒子の生成工程と、金属のナノ粒子を溶液中で分散させる工程とが一つの工程として行われる。つまり、ナノ粒子が溶剤中に存在するナノ粒子溶液を作製するにあたって複数の工程を要しないため、不純物の混入を抑えられる。
【００９６】
また、ナノ多孔質層１１２が備える空孔の大きさ、イオン溶液の粘度及び空孔内を流れるイオン溶液の流速は、ナノ多孔質層１１２のいずれの位置を占める空孔においても同等である。換言すれば、ナノ粒子の生成条件はナノ多孔質層１１２における空孔各々で同等であるため、生成される金属のナノ粒子はいずれも同等の形状を有する。また、ナノ粒子の生成は、ナノ多孔質層１１２に形成された空孔内で起こるため、生成された金属のナノ粒子が空孔の大きさ以上になることはない。従って、生成される金属のナノ粒子はいずれも同等の大きさになる。このように、比較的均質な形状及び大きさでナノ粒子は生成されるため、印刷後の焼結等の工程が安定する。
【００９７】
また、版胴１０の外側の面にパターン形成層１１３が形成されており、パターンに沿ってナノ粒子溶液が滲出した状態の版胴１０が基板Ｗに押し当てられることでパターンが転写される。このため、印刷装置１は、版胴１０の表面に塗布された余分なナノ粒子溶液をかき取る部材、つまりドクターブレードを備える必要がない。従って、印刷装置１は簡易な装置構成を実現できる。
【００９８】
さらに、本実施形態では、インクに圧力をかけて押し出すため、従来のグラビア印刷やフレキソ印刷よりも厚膜印刷を行うことができ、電子部品の製造に適している。
【００９９】
また、金属のイオンを含むイオン溶液がナノ多孔質層１１２を流れることで自動的にナノ粒子溶液が生成されるため、予めナノ粒子が液中に分散しているナノ粒子溶液は不要であり、コストを削減することができる。
【０１００】
また、転写部である版胴１０がナノ多孔質層１１２を備える。このため、多孔質材料の空孔が、配線サイズが微細化することによって、印刷されるパターンに対して相対的に大きくなることを抑えられる。従って、ナノ粒子溶液の供給はパターンに対して均一に行うことが可能であり、微細な配線パターンを印刷してもパターン欠けなどの不具合が生じにくく、歩留まりも向上する。
【０１０１】
また、溶液通過層１００は円筒形状の構造を有する。また、転写部である版胴１０は、溶液通過層１００の回転軸１２、ナノ多孔質層１１２の内側にイオン溶液を供給する溶液供給配管１２２を備える。従って、ナノ粒子溶液は、円筒形状の溶液通過層１００の外側の面から外部に滲出するため、溶液通過層１００を回転させることで連続した印刷処理を容易に実施することができる。
【０１０２】
また、溶液供給配管１２２が回転軸１２を構成するため、転写部である版胴１０が回転するにもかかわらず、比較的簡易な構成でイオン溶液をナノ多孔質層１１２の内側の空間に供給できる。
【０１０３】
また、溶液通過層１００は、マイクロ多孔質層１１１のような、ナノ多孔質層１１２に形成された空孔よりも径が大きい空孔を有する多孔質材料からなる多孔質層をさらに備える。このため、溶液通過層１００の厚みが同じである場合、ナノ多孔質層１１２で構成された溶液通過層１００と比較して、溶液通過層１００の強度が増すとともに、イオン溶液が流路を流れる際の抵抗を低く抑えられる。また、ナノ多孔質層１１２が溶液通過層１００に占める割合は小さくなるため、溶液通過層１００の作製にかかるコストも抑えられる。
【０１０４】
また、温調水供給部４０が溶液供給部３０によって供給されたイオン溶液の温度を調節する。これによって、外気条件によらず、イオン溶液はその粘度が一定に保持された状態で供給される。従って、イオン溶液の粘度変化によって、ポンプ３１１の印加圧力が変化する要素は排除されるため、生成された金属のナノ粒子を溶剤中に分散させることを目的としたポンプ３１１による印加圧力の制御を行うことができる。
【０１０５】
また、窒化炭素がナノ多孔質層１１２に採用されることによって、金属のナノ粒子を生成させるに際して、従来の工程では必要であった還元剤及び安定剤が不要である。このため、金属のナノ粒子の生成にかかるコストを抑えられる。
【０１０６】
＜２．第２の実施形態＞
次に、図１０を参照しつつ、本発明の第２の実施形態について説明する。なお、以下において、上記第１の実施形態に示される構成要素と同じ構成要素は、同じ参照符号が付されており、上記第１の実施形態と異なる点についてのみ説明するものとする。
【０１０７】
上記第１の実施形態では、溶液通過層１００は、パイプ部１１０、マイクロ多孔質層１１１、ナノ多孔質層１１２を備えていたが、このような構成に限られない。溶液通過層１００が、弾性を有する樹脂材料で形成された樹脂多孔質層１１６をさらに備えていてもよい。以下において、樹脂多孔質層１１６をさらに備える溶液通過層１００を溶液通過層１００ａと称し、溶液通過層１００ａを備える版胴を版胴１０ａと称する。
【０１０８】
樹脂多孔質層１１６は、溶液通過層１００のナノ多孔質層１１２よりも下流側（つまり版胴１０ａの外周側）に配置される。パターン形成層１１３は、この樹脂多孔質層１１６の外側に形成される。つまり、本実施形態では、パターン形成層１１３の透孔部１１３１から外部に露出している樹脂多孔質層１１６の外側の面が滲出面１０２に相当する。樹脂多孔質層１１６に形成された空孔が、溶液通過層１００におけるナノ粒子溶液の流路を構成する。従って、ナノ粒子溶液は、ナノ多孔質層１１２、樹脂多孔質層１１６、そしてパターン形成層１１３の順に流れる。
【０１０９】
樹脂多孔質層１１６はナノ多孔質層１１２よりも下流側、すなわち転写面１１３５側に配置されるため、版胴１０ａが基板Ｗの表面に押し当てられた際に、樹脂多孔質層１１６がその衝撃を和らげる。このため、印刷処理時において、ナノ多孔質層１１２に過大な力がかかることは抑えられ、ナノ多孔質層１１２が破壊されることを抑えられる。
【０１１０】
＜３．変形例＞
転写部は、例えば平たい板状の構造を有する転写プレート６０であっても構わない。図１１には、転写プレート６０の断面図が示されている。なお、図１１では、洗浄溶液供給部及び温調水供給部は不図示としている。
【０１１１】
転写プレート６０は、中空部６５、マイクロ多孔質層１１１ａ及びナノ多孔質層１１２ａが順に積み重ねられた構造を有する。このうち、マイクロ多孔質層１１１ａ及びナノ多孔質層１１２ａはいずれも平板状に形成されている。印刷処理時には、ナノ多孔質層１１２ａの外側の面に平板状のパターン形成層１１３ａが形成される。
【０１１２】
イオン溶液は、中空部６５の内側に形成された空間に所定の圧力で供給される。中空部６５に供給されたイオン溶液は中空部６５の下面に形成された貫通孔６５１から下層に向けて各層を順に流れる。そして、ナノ多孔質層１１２ａにてイオン溶液から生成されたナノ粒子溶液が、パターンを形成する滲出面１０２ａから透孔部１１３１ａを通ってパターン形成層１１３の外側に滲出する。
【０１１３】
パターン形成層１１３ａからナノ粒子溶液が滲出した状態の転写プレート６０が、転写プレート６０の下方に載置された基板Ｗの表面に降下し、基板Ｗの表面に押し当てられる。これによって、基板Ｗの表面にナノ粒子溶液のパターンが転写される。パターンが基板Ｗに転写されると転写プレート６０は上昇し、パターンが転写された基板Ｗは次工程に搬送される。このように、昇降動作が行われることによって、基板Ｗにパターンの転写処理を行う転写プレート６０が転写部として採用されても構わない。
【０１１４】
また、上記実施形態では、転写部である版胴１０が溶液通過層１００を備えており、版胴１０の内側からナノ粒子溶液を滲出させて印刷処理を行う形態であったが、これに限られない。例えば、メソポーラス窒化炭素で構成された多孔質層を通過することによって、イオン溶液から生成されたナノ粒子溶液が、版胴の外側の面に固定されて所定のパターンが形成された印刷版に外部から塗布され、印刷版を被印刷体に押し当てることでパターンを転写する形態であってもよい。この場合には、上記実施形態と同様の溶液通過層１００を用いた装置は、印刷装置内で使用される「ナノ粒子印刷材料生成装置」として機能する。
【符号の説明】
【０１１５】
１ 印刷装置
１０ 版胴
１２ 回転軸
２０ 載置ステージ
３０ 溶液供給部
４０ 温調水供給部
４１ 温調水配管（温調構造）
７０ 移動機構
８０ 基台
９０ 制御部
１００ 溶液通過層
１０２ 滲出面
１１１ マイクロ多孔質層（補助多孔質層）
１１２ ナノ多孔質層
１１３ パターン形成層
１１４ レジスト層
１１６ 樹脂多孔質層
１２０ 閉塞部
１２２ 溶液供給配管
１１３５ 転写面
Ｗ 基板
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被印刷体を保持する保持部と、
金属のイオンを含んだ第１溶液を供給する溶液供給部と、
前記溶液供給部から供給された前記第１溶液を通過させることによって前記第１溶液を第２溶液へと変化させる溶液通過層を備えるとともに、前記溶液通過層の外側に形成された転写面から滲出した前記第２溶液の所定のパターンを前記被印刷体に転写する転写部と、
を備え、
前記溶液通過層が、
ナノメートルオーダーの空孔が分布した多孔質材料によって形成されたナノ多孔質層、
を備えることを特徴とする印刷装置。
【請求項２】
請求項１に記載の印刷装置であって、
前記溶液通過層は、
前記ナノ多孔質層に形成された空孔よりも径が大きい空孔が分布した補助多孔質材料によって形成され、前記転写面とは反対側において前記ナノ多孔質層に積層された補助多孔質層、
をさらに備え、
前記溶液供給部から供給された前記第１溶液は、前記補助多孔質層を通過した後に、前記ナノ多孔質層に与えられることを特徴とする、印刷装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の印刷装置であって、
前記溶液通過層は、
前記ナノ多孔質層と前記転写面との間に配置された、弾性を有する樹脂多孔質層、
をさらに備えることを特徴とする、印刷装置。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれか一つに記載の印刷装置であって、
前記溶液供給部によって供給された前記第１溶液の温度を調節して前記溶液通過層に与える温度調節部、
をさらに備えることを特徴とする、印刷装置。
【請求項５】
請求項４に記載の印刷装置であって、
前記転写部の内部には、前記溶液通過層の層面の各部分に前記第１溶液を配送する配送空間が形成されており、
前記温度調節部は、
前記配送空間内に配置された温調構造を有することを特徴とする、印刷装置。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれか一つに記載の印刷装置であって、
前記転写部は円筒形とされて、その外周に前記転写面が規定されるとともに、
前記溶液通過層は、前記転写面よりも筒心側に配置した円筒型層構造として形成されており、
前記第１溶液は、前記円筒型層構造よりも筒心側に設けられた空間に供給されることを特徴とする、印刷装置。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれか一つに記載の印刷装置であって、
前記ナノ多孔質層の空孔の孔径が２ナノメートル以上５０ナノメートル以下である印刷装置。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれか一つに記載の印刷装置であって、
前記ナノ多孔質層の材料は窒化炭素を主たる原料とする印刷装置。
【請求項９】
円筒構造として形成され、金属のイオンを含んだ第１溶液を筒心側から筒面側に向かって通過させることによって前記第１溶液を第２溶液へと変化させる溶液通過層と、
前記円筒構造の前記筒心側に設けられ、前記第１溶液を受け入れて前記溶液通過層に導入する溶液供給管と、
を備え、
前記溶液通過層の筒面側に所定のパターンを形成することによって、前記第２溶液のパターンを被印刷体に転写可能であり、
前記溶液通過層が、
ナノメートルオーダーの空孔が分布した多孔質材料によって形成されたナノ多孔質層、
を備えることを特徴とする、版胴。
【請求項１０】
請求項９に記載の版胴であって、
前記溶液供給管が前記円筒構造の回転軸を構成する、版胴。
【請求項１１】
請求項９または１０に記載の版胴であって、
前記溶液通過層の前記円筒構造の筒心側の空間が、前記第１溶液を前記溶液通過層の層面の各部分に配送する配送空間とされており、
前記配送空間内に配置された温調構造、
をさらに備えることを特徴とする、版胴。
【請求項１２】
金属のイオンを含んだ第１溶液を供給する溶液供給部と、
前記溶液供給部から供給された前記第１溶液を通過させることによって前記第１溶液を第２溶液へと変化させる溶液通過層と、
を備え、
前記溶液通過層が、
ナノメートルオーダーの空孔が分布した多孔質材料によって形成されたナノ多孔質層、
を備えることを特徴とする、ナノ粒子印刷材料生成装置。
【請求項１３】
金属のイオンを含んだ第１溶液を所定の溶液通過層に通過させることによって、前記第１溶液を第２溶液へと変化させる工程と、
前記溶液通過層の外側に形成された転写面から滲出した前記第２溶液の所定のパターンを被印刷体に転写する工程と、
を備え、
前記溶液通過層が、
ナノメートルオーダーの空孔が分布した多孔質材料によって形成されたナノ多孔質層、
を備えることを特徴とする、印刷方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載の印刷方法によって印刷された電子回路パターンを有する電子シート。
【請求項１】
被印刷体を保持する保持部と、
金属のイオンを含んだ第１溶液を供給する溶液供給部と、
前記溶液供給部から供給された前記第１溶液を通過させることによって前記第１溶液を第２溶液へと変化させる溶液通過層を備えるとともに、前記溶液通過層の外側に形成された転写面から滲出した前記第２溶液の所定のパターンを前記被印刷体に転写する転写部と、
を備え、
前記溶液通過層が、
ナノメートルオーダーの空孔が分布した多孔質材料によって形成されたナノ多孔質層、
を備えることを特徴とする印刷装置。
【請求項２】
請求項１に記載の印刷装置であって、
前記溶液通過層は、
前記ナノ多孔質層に形成された空孔よりも径が大きい空孔が分布した補助多孔質材料によって形成され、前記転写面とは反対側において前記ナノ多孔質層に積層された補助多孔質層、
をさらに備え、
前記溶液供給部から供給された前記第１溶液は、前記補助多孔質層を通過した後に、前記ナノ多孔質層に与えられることを特徴とする、印刷装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の印刷装置であって、
前記溶液通過層は、
前記ナノ多孔質層と前記転写面との間に配置された、弾性を有する樹脂多孔質層、
をさらに備えることを特徴とする、印刷装置。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれか一つに記載の印刷装置であって、
前記溶液供給部によって供給された前記第１溶液の温度を調節して前記溶液通過層に与える温度調節部、
をさらに備えることを特徴とする、印刷装置。
【請求項５】
請求項４に記載の印刷装置であって、
前記転写部の内部には、前記溶液通過層の層面の各部分に前記第１溶液を配送する配送空間が形成されており、
前記温度調節部は、
前記配送空間内に配置された温調構造を有することを特徴とする、印刷装置。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれか一つに記載の印刷装置であって、
前記転写部は円筒形とされて、その外周に前記転写面が規定されるとともに、
前記溶液通過層は、前記転写面よりも筒心側に配置した円筒型層構造として形成されており、
前記第１溶液は、前記円筒型層構造よりも筒心側に設けられた空間に供給されることを特徴とする、印刷装置。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれか一つに記載の印刷装置であって、
前記ナノ多孔質層の空孔の孔径が２ナノメートル以上５０ナノメートル以下である印刷装置。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれか一つに記載の印刷装置であって、
前記ナノ多孔質層の材料は窒化炭素を主たる原料とする印刷装置。
【請求項９】
円筒構造として形成され、金属のイオンを含んだ第１溶液を筒心側から筒面側に向かって通過させることによって前記第１溶液を第２溶液へと変化させる溶液通過層と、
前記円筒構造の前記筒心側に設けられ、前記第１溶液を受け入れて前記溶液通過層に導入する溶液供給管と、
を備え、
前記溶液通過層の筒面側に所定のパターンを形成することによって、前記第２溶液のパターンを被印刷体に転写可能であり、
前記溶液通過層が、
ナノメートルオーダーの空孔が分布した多孔質材料によって形成されたナノ多孔質層、
を備えることを特徴とする、版胴。
【請求項１０】
請求項９に記載の版胴であって、
前記溶液供給管が前記円筒構造の回転軸を構成する、版胴。
【請求項１１】
請求項９または１０に記載の版胴であって、
前記溶液通過層の前記円筒構造の筒心側の空間が、前記第１溶液を前記溶液通過層の層面の各部分に配送する配送空間とされており、
前記配送空間内に配置された温調構造、
をさらに備えることを特徴とする、版胴。
【請求項１２】
金属のイオンを含んだ第１溶液を供給する溶液供給部と、
前記溶液供給部から供給された前記第１溶液を通過させることによって前記第１溶液を第２溶液へと変化させる溶液通過層と、
を備え、
前記溶液通過層が、
ナノメートルオーダーの空孔が分布した多孔質材料によって形成されたナノ多孔質層、
を備えることを特徴とする、ナノ粒子印刷材料生成装置。
【請求項１３】
金属のイオンを含んだ第１溶液を所定の溶液通過層に通過させることによって、前記第１溶液を第２溶液へと変化させる工程と、
前記溶液通過層の外側に形成された転写面から滲出した前記第２溶液の所定のパターンを被印刷体に転写する工程と、
を備え、
前記溶液通過層が、
ナノメートルオーダーの空孔が分布した多孔質材料によって形成されたナノ多孔質層、
を備えることを特徴とする、印刷方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載の印刷方法によって印刷された電子回路パターンを有する電子シート。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【公開番号】特開２０１３−２８０６８（Ｐ２０１３−２８０６８Ａ）
【公開日】平成２５年２月７日（２０１３．２．７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１６５５５４（Ｐ２０１１−１６５５５４）
【出願日】平成２３年７月２８日（２０１１．７．２８）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年２月７日（２０１３．２．７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年７月２８日（２０１１．７．２８）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
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