【課題】 微細、高精度で、エッチング耐性に優れたレジストパターンを形成する。
【解決手段】 所定の光源に感光性を有するレジスト組成物をリソグラフィー技術により現像処理をして、基板１上に形成されたレジストパターン２を、架橋剤４を含む超臨界流体３’からなる超臨界処理液５’に接触させることを特徴とするレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 ガラス基板や半導体ウェーハの表面に厚膜を形成するのに好適な加熱装置を提供する。
【解決手段】 多段式の乾燥装置の構成として、各段にホットプレートを設けず、壁面にヒータを設けることで、基板を上下両面から加熱することができ、全体の高さを低くできる。また、各段にホットプレートを設け、このホットプレートの周囲に隙間を設け、この隙間から上部の排気口に排気を取ることで、基板の昇温スピードを緩やか且つ均一にすることができる。 （もっと読む）

【課題】 微細かつ高精度で、好ましくは高感度性とエッチング耐性の一方あるいは両方に優れたパターンを供給できる技術を提供する。
【解決手段】基板１上に１層以上の被膜２を設け、該被膜２に、露光、現像を含むリソグラフィ技術によりレジストパターンを形成するパターン方法であって、
露光もしくは現像前に、前記被膜２を有機物４を溶解した超臨界処理液５’に接触させる超臨界処理を行うことを特徴とするレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 微細なパターンを形成する際のパターン倒れを容易に抑制できるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 酸の作用によりアルカリ可溶性が変化する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するレジスト組成物を用いて基板上にレジスト膜を形成する工程と、前記レジスト膜を選択的に露光する工程と、前記レジスト膜を、アルカリ現像液を用いて、３０秒未満の現像時間で現像してレジストパターンを形成する工程とを含むことを特徴とするレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】高解像性で、ＤＯＦを向上できるポジ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】 酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分（Ａ）が、一般式（ａ１−０１）および一般式（ａ１−０２）で表される構成単位のうちの少なくとも１種（ａ１）を有し、かつ露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）として、一般式（ｂ−１）で表されるカチオン部を有するオニウム塩系酸発生剤（Ｂ１）を含有するポジ型レジスト組成物。
【化１】


［式中、Ｙは脂肪族環式基；ｎは０または１〜３の整数；ｍは０または１；Ｒは各々独立して水素原子、低級アルキル基、フッ素原子またはフッ素化低級アルキル基；Ｒ^１、Ｒ^２は各々独立して水素原子または低級アルキル基を表す。］
【化２】


［式中、Ｒ^１１はアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、または水酸基；Ｒ^１２、Ｒ^１３は各々独立してアリール基またはアルキル基；ｎ’は０または１〜３の整数を表す。］ （もっと読む）

【課題】 耐エッチング特性や、短波長光に対する反射防止能（短波長光の吸収能）を改善した中間層形成用組成物を提供する。
【解決手段】 中間層形成用組成物を、
下記一般式（1）
【化１】


（式中、Ｒ₁、Ｒ₂は、それぞれ独立して水素または炭素数１〜２０のアルキル基であり、ｍおよびｎは繰り返し単位数を表す整数である。）
で表される繰り返し単位を有するシリルフェニレン系ポリマー（Ａ）と、
溶剤（Ｂ）と、
を少なくとも含有させて構成する。 （もっと読む）

【課題】 基板上に形成される塗膜の厚さを均一にできるスリットノズルを提供する。
【解決手段】 ノズル半体１のノズル半体２との対向面には、塗布液の第１貯留部４及び第２貯留部５が形成されている。第１貯留部４は幅方向の中央部が最も高く、両端が低くなるように山形に形成され、最も高くなった中央部において塗布液供給孔６と連通している。また、最も高くなった中央部にはエア抜き穴７が連通している。第２貯留部５は前記第１貯留部４の下側に連続して形成され、その深さはノズル半体１の厚み方向を基準として前記第１貯留部４よりも小さくされている。この第２貯留部５の下辺はノズル半体１の幅方向の中央部が最も低く、両端に行くに従って高くなるＶ字状傾斜面８となるように設計されている。 （もっと読む）

【課題】高解像性で、DOFを向上できるポジ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】 酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)が、一般式(a1-01)で表される構成単位および一般式(a1-02)で表される構成単位からなる群から選択される少なくとも1種の構成単位(a1)を有し、かつ露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)が、一般式(b-3)又は(b-4)で表されるアニオン部を有するオニウム塩系酸発生剤(B1)を含有するポジ型レジスト組成物。


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【目的】 基板に温度ムラに起因するピン跡を残さない支持ピンを提供する。
【構成】 基板支持ピン２０は本体部２１に対し先端部２２が交換可能に装着され、先端部２２の上面は球面状とされている。また、先端部２２はプラスチック焼結多孔質体からなり、その気孔率は２０％〜６０％とされている。その結果、ピン先端部に熱がこもらず、基板との接触部に温度差が生じない。 （もっと読む）

【課題】 レジストパターンの膨潤を抑制できるネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）アルカリ可溶性樹脂成分、（Ｂ）露光により酸を発生する酸発生剤成分および（Ｃ）架橋剤成分を含有するネガ型レジスト組成物であって、前記（Ａ）アルカリ可溶性樹脂成分が、フッ素化されたヒドロキシアルキル基を有する脂環式基を主鎖に有する構成単位（ａ１）と、水酸基含有鎖状または環状アルキル基を有し、かつα位にフッ素化アルキル基またはフッ素原子が結合しているアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ２）と、フッ素化されたヒドロキシアルキル基を有する脂環式基を有し、かつα位にフッ素化アルキル基またはフッ素原子が結合しているアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ３）とを含む共重合体（Ａ１）であることを特徴とするネガ型レジスト組成物。 （もっと読む）