【課題】２００ｎｍより短波長の光による露光に好適で高解像度のレジストパターンを形成することができるネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分と、（Ｂ）芳香環又は脂肪族環に直接結合した炭素原子上に２級又は３級アルコール構造を有する多価アルコール化合物、および（Ｃ）露光により酸を発生する酸発生剤成分を少なくとも含有してなるネガ型レジスト組成物であり、樹脂成分（Ａ）が２００ｎｍより短波長の光に対して高度な透明性を有する。 （もっと読む）

【課題】 寸法制御性に優れたポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 （α−メチル）ヒドロキシスチレンから誘導される構成単位（ａ１１）と、アルコール性水酸基を有する（α−低級アルキル）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１２）と、構成単位（ａ１１）の水酸基の水素原子が酸解離性溶解抑制基で置換されてなる構成単位（ａ２１）および／または構成単位（ａ１２）のアルコール性水酸基の水素原子が酸解離性溶解抑制基で置換されてなる構成単位（ａ２２）を有し、下記一般式（ＩＩ）で表される酸解離性溶解抑制基（ＩＩ）と、特定の鎖状の酸解離性溶解抑制基（ＩＩＩ）とを含む酸解離性溶解抑制基を有する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含むポジ型レジスト組成物。
【化１】
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【課題】洗浄用溶剤、特に、残存する樹脂組成物を洗浄除去するための樹脂組成物用洗浄用溶剤であり、沸点が１００℃以上のアルコール系溶剤を少なくとも含有する溶剤を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明の洗浄用溶剤を、沸点が１００℃以上のアルコール系溶剤を少なくとも含有する溶剤をとする。前記溶剤としては、ｎ−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ｎ−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール、および２−オクタノールから選択される少なくともいずれか１種であることが好ましく、イソブチルアルコールであることがさらに好ましい。 （もっと読む）

【課題】 リソグラフィー技術を用いてホトレジストパターンを形成させる際に、製品の表面欠陥、いわゆるディフェクトを減少させ、水リンスにおけるパターン倒れを抑制し、かつ電子線照射に対する耐性を付与して、パターンの収縮を防止することにより、製品の歩留りを向上させるために有効で、しかも水切り速度を促進し、生産効率を上げることができるリンス液を提供する。
【解決手段】 水溶性含窒素複素環化合物を含有する水性溶液からなるリソグラフィー用リンス液であって、
（Ａ）基板上にホトレジスト膜を設ける工程、
（Ｂ）該ホトレジスト膜に対しマスクパターンを介して選択的に露光処理する工程、
（Ｃ）露光後加熱処理する工程、
（Ｄ）アルカリ現像する工程、
及び
（Ｅ）前記したリソグラフィー用リンス液で処理する工程を行うことによりレジストパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】 寸法制御性に優れたフォトマスク製造用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 アルカリ可溶性の構成単位（ａ１）と、酸解離性溶解抑制基を有する構成単位（ａ２）とを有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有し、前記構成単位（ａ１）が、（α−メチル）ヒドロキシスチレンから誘導される構成単位（ａ１１）を有し、前記構成単位（ａ２）が、下記一般式（ＩＩ）で表される酸解離性溶解抑制基（ＩＩ）と、鎖状第３級アルコキシカルボニル基、鎖状第３級アルキル基、および鎖状第３級アルコキシカルボニルアルキル基からなる群から選択される少なくとも１種の酸解離性溶解抑制基（ＩＩＩ）とを有するフォトマスク製造用ポジ型レジスト組成物。
【化１】
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【課題】 感度及び硬化後の遮光性の良好な遮光膜形成用感光性組成物を提供する。
【解決手段】 （ａ）遮光性顔料としてのカーボンブラック、（ｂ）光重合性化合物、および（ｃ）光重合開始剤を含有する遮光膜形成用感光性組成物において、前記カーボンブラックの分散粒子径を１００〜２５０ｎｍ、好ましくは１５０〜２００ｎｍにする。 （もっと読む）

【課題】上面に銅が存在する支持体を用いたときに、レジストパターンに与えられる銅の影響を低減することができるとともに、製造時の管理、制御が容易であり、ミキシングの問題が生じにくいレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】（ａ）上面に銅が存在する支持体と、（ｂ）無機物供給源より供給される無機物からなる無機物層と、（ｃ）化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物からなるホトレジスト層とを積層してホトレジスト積層体を得る積層工程と、前記ホトレジスト積層体に選択的に活性光線又は放射線を照射する露光工程と、前記（ｃ）層とともに前記（ｂ）層を現像することにより、レジストパターンを形成する現像工程とを含むことを特徴とするレジストパターンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】感度、安定性共に優れ、さらにテント強度、解像性およびめっき非汚染性の各種特性のバランスの優れる感光性樹脂組成物および感光性ドライフィルムを提供する。
【解決手段】アルカリ可溶性樹脂（Ａ）と、光重合性化合物（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）とを少なくとも有してなる感光性樹脂組成物において、少なくとも必須成分としてヘキサアリールビスイミダゾール系化合物（Ｃ１）と多官能チオール化合物（Ｃ２）とを含んで光重合開始剤（Ｃ）を構成する。感光性ドライフィルムを少なくとも支持フィルム上に上記感光性樹脂組成物から形成された感光性樹脂層を有する構成とする。 （もっと読む）

【課題】 半導体ウェーハ等の基板とサポートプレートの間に挟まったガスを容易に除去しつつ圧着できる貼り付け装置を提供する。
【解決手段】 減圧チャンバー５０は配管５１を介して真空引き装置につながり、また一側面には搬入・搬出用の開口５２が形成され、この開口５２をシャッター５３で開閉する。このシャッター５３はシリンダユニット５４にて昇降動せしめられ、上昇した位置で側方からプッシャー５５にて押圧することで、シャッター５３の内側面に設けたシールが開口５２の周囲に密に当接し、チャンバー５０内を気密に維持する。またプッシャー５５を後退させシャッター５３を下降させることで、開口５２が開となり、この状態で搬送装置を用いてウェーハＷとサポートプレート２との積層体を出し入れする。そして、チャンバー５０内には前記積層体を圧着する保持台５６と押圧板５７が配置されている。 （もっと読む）

【目的】 基板に搬送装置の熱を直接伝えることなく且つ大型基板でも撓むことのない搬送装置を提供する。
【構成】 アーム１の先端部に円形状ハンド２が取り付けられ、このハンド２の底面５にはピン６が固定されている。またピン６の高さはピンに基板Ｗを載置した状態で、基板Ｗが起立壁４の上端から食み出さない程度、即ち基板Ｗの厚さ分程度、起立壁４の上端よりもピン６の上端を低く設定している。 （もっと読む）