【課題】 下層に密パターンを形成し、上層にパターンを形成するレジストパターンの形成方法において、ミキシングを抑制できるレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】 次の（i）〜（ii）の工程；（i）基板上にポジ型レジスト組成物を用いて第１のレジスト層を形成し、選択的に露光して、該第１のレジスト層に密パターンの潜像部を形成する工程；（ii）該第１のレジスト層の上にネガ型レジスト組成物を用いて第２のレジスト層を形成し、選択的に露光した後、第１のレジスト層と第２のレジスト層を同時に現像して、前記密パターンの潜像部の一部を露出させる工程；を含むレジストパターンの形成方法であって、前記ネガ型レジスト組成物として、第１のレジスト層を溶解しない有機溶剤に溶解したネガ型レジスト組成物を用いることを特徴とするレジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

レジスト膜上に設けられる、液浸露光プロセス用レジスト保護膜形成用材料であって、露光光に対して透明で、液浸露光用の液体に対して実質的な相溶性を持たず、かつ前記レジスト膜との間でミキシングを生じない特性を有する材料、当該材料により形成された保護膜及びレジスト膜を有する複合膜、及びこれらを用いたレジストパターン形成方法が提供され、これらにより、液浸露光中のレジスト膜の変質および使用液体の変質を同時に防止し、液浸露光を用いた高解像性レジストパターンの形成を可能とする。 （もっと読む）

【課題】レーザーダイシングによってウエーハよりチップを製造するに際し、ウエーハ表面との接着性が高く、且つチップの周縁部分も含め、その全面にわたってデブリの付着を有効に防止することが可能な保護膜を形成し得るレーザーダイシング用保護膜剤を提供する。
【解決手段】水溶性樹脂と、水溶性染料、水溶性色素及び水溶性紫外線吸収剤からなる群より選択された少なくとも１種のレーザー光吸収剤とが溶解した溶液を保護膜剤として使用し、この保護膜剤をウエーハ２加工面に塗布、乾燥して保護膜２４を形成し、この保護膜２４を通してのレーザー光の照射により、レーザー加工を行う。 （もっと読む）

【課題】 酸化クロム層上で矩形のパターンを形成でき、ベーク温度マージンにも優れたホトマスク用ネガ型レジスト組成物および該ホトマスク用ネガ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 アルカリ可溶性樹脂（Ａ）、放射線の照射により酸を発生する酸発生剤（Ｂ）、および架橋剤（Ｃ）を含有し、 前記架橋剤（Ｃ）が、メラミン系架橋剤と尿素系架橋剤とを含有することを特徴とするホトマスク用ネガ型レジスト組成物。 （もっと読む）

脱ガス現象を低減することができるシルセスキオキサン樹脂、ポジ型レジスト組成物、レジスト積層体、レジストパターン形成方法が提供され、またイマージョンリソグラフィーに好適なシリコン含有レジスト組成物及びレジストパターン形成方法が提供される。上記シルセスキオキサン樹脂は、下記一般式［式中、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立に、直鎖状、分岐状又は環状の飽和脂肪族炭化水素基；Ｒ^３は単環又は多環式基を含有する炭化水素基からなる酸解離性溶解抑制基；Ｒ^４は水素原子、もしくは直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基；Ｘは、少なくとも１つの水素原子がフッ素原子で置換された炭素数１〜８のアルキル基；ｍは１〜３の整数］で表される構成単位を有する。

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【課題】 半導体ウェーハ等の基板を薄板化した後に、サポートプレートと基板とを接着している接着層に短時間のうちに溶剤が供給できる構造のサポートプレート、及びこのサポートプレートを用いた剥離方法を提供する。
【解決手段】 サポートプレート２は半導体ウェーハＷよりも大径で、貫通穴３が形成され、更に外縁部は貫通穴のない平坦部４なっている。このサポートプレート２の上から溶剤としてアルコールを注ぐと、アルコールはサポートプレート２の貫通孔３を介して接着剤層１に到達し接着剤層１を溶解し除去する。 （もっと読む）

【課題】ｈ線に高い感度を有し、レジストパターンの解像性に優れたｈ線露光用感光性樹脂組成物、および、これを用いた感光性ドライフィルムを提供することを課題とする。
【解決手段】脂環式エポキシ基含有不飽和化合物をカルボキシル基含有アクリル共重合体のカルボキシル基の一部に有するとともに重量平均分子量が１０００〜１０００００であるアルカリ可溶性樹脂（Ａ）と、エチレン性不飽和化合物（Ｂ）と、少なくとも必須成分として４０５ｎｍ波長光における吸光係数１以上の光重合開始剤（Ｃ１）を含む光重合開始剤（Ｃ）とで感光性樹脂組成物を構成する。 （もっと読む）

【課題】 ディフェクトを低減することができるレジスト組成物の製造方法およびレジスト組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ可溶性が変化する樹脂成分、及び（Ｂ）露光により酸を発生する酸発生剤成分を含有するレジスト組成物の製造方法であって、同じ種類の構成単位からなり、かつ相互に接触角の測定値が異なる、複数種類の共重合体を混合して、（Ａ）成分を得ることを特徴とするレジスト組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 感度及び硬化後の遮光性の良好な遮光膜形成用感光性組成物を提供する。
【解決手段】 （ａ）遮光性顔料としてのカーボンブラック、（ｂ）光重合性化合物、および（ｃ）光重合開始剤を含有する遮光膜形成用感光性組成物において、前記カーボンブラックの一次粒子径を２０〜６０ｎｍ、好ましくは３０〜４５ｎｍにする。 （もっと読む）

【課題】 最近の微細化、多層化した半導体、液晶表示素子の形成に用いるホトリソグラフィー技術において、Ａｌ系金属（Ａｌ、Ａｌ合金）、Ｍｏ、さらにはその他の金属に対しても腐食を発生せず、かつ、ホトレジスト膜の剥離性に優れたホトレジスト用剥離液を提供する。
【解決手段】 （ａ）Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミンを０．５〜５０質量％、（ｂ）アルカノールアミン（例えば、モノイソプロパノールアミン、モノエタノールアミン、Ｎ−メチルエタノールアミンなど）を２〜３０質量％、および（ｃ）水溶性有機溶媒（上記（ａ）成分以外。例えば、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジメチルスルホキシドなど））を４０〜９５質量％含有するホトレジスト用剥離液。 （もっと読む）