【課題】ターゲットを取り付け可能な冷却部材であって、必要な強度を確保するとともに薄型化することでターゲットの冷却能力とターゲット表面での最適な磁場強度を得ることができる裏板を提供する。
【解決手段】裏板２０２は、冷却媒体を流通させる冷媒流路２１４ａ，２１４ｂが内部に形成されるとともに、カソードマグネットに対向する薄型化されたターゲット取り付け部１と、ターゲット取り付け部１を周囲から支持する締結部２とを有しており、冷媒流路２１４ａ，２１４ｂに冷却媒体を給排出する供給口２１５ａ，２１５ｂと排出口２１６ａ，２１６ｂはターゲット取り付け面の法線に対して所定角度傾斜した方向に冷却媒体を流通させるように形成されている。 （もっと読む）

【課題】パーティクルの発生を低減するとともに、高精度にマスクの位置を決めるマスク位置合わせ機構及びこのようなマスク位置合わせ機構を備えた真空処理装置を提供する。
【解決手段】マスク位置合わせ機構は、基板搬送の際に上下動可能、且つ４つのテーパピンが形成された基板ホルダ７と、それぞれのテーパピンを挿入可能な溝３７が形成されたマスク３１を有して構成されており、テーパピンは、基板を挟んで対峙して配設された長いテーパピン３５ａと短いテーパピン３５ｂの一対ずつからなり、長いテーパピンと短いテーパピンにそれぞれ形成されているテーパ面は異なる高さに位置している。 （もっと読む）

【課題】 エネルギー消費の少ない真空排気技術を提供すること。
【解決手段】冷凍機を有する真空排気ポンプの複数台が共通の圧縮機に繋がれており、複数台の真空排気ポンプのうちの少なくとも一台は、冷凍機のバルブが動作することによってシリンダの内部が低圧状態から高圧状態に移行することにより、低圧状態のガスが断熱圧縮される工程と、断熱圧縮されたガス中をディスプレーサが通過する工程とを含む動作を繰り返す運転をしており、複数台の真空排気ポンプのうちの他の少なくとも一台は、冷凍機のバルブが動作することによってシリンダの内部が高圧状態から低圧状態に移行することにより、高圧状態のガスが断熱膨張する工程と、断熱膨張したガス中をディスプレーサが通過する工程とを含む動作を繰り返す運転をしている。 （もっと読む）

【課題】量産時、ＴＭＲ素子を用いたＭＡＲＭの完成品間で、ＭＲＡＭのメモリー特性にバラツキがあり、不良品発生頻度が高かった。このバラツキは、量産時のＴＭＲ素子のＭＲ比がウエハー製品間で一定値に維持されず、変動していたことが原因していたので、バラツキを抑制する製造方法を提供する。
【解決手段】高周波成分カットフィルターにより高周波成分をカットした直流電力印加の下で、強磁性体ターゲットをDCスパッタリングすることによってアモルファス状態の強磁性体膜を成膜し、そして酸化マグネシウムターゲットを高周波スパッタリングすることによって結晶酸化マグネシウム膜を成膜する工程及び該工程を実行する制御プログラムを備えた成膜スパッタリング装置２００。 （もっと読む）

【課題】 加熱される基板面上への熱電子の放出が均一になるようにして、基板の加熱時の温度分布を改善すること。
【解決手段】 減圧下の容器内に保持されている基板に対向して配置され、基板を加熱する導電性ヒータを有する基板加熱装置は、導電性ヒータの内部に配置されて、フィラメント電源と接続して熱電子を発生させるフィラメントと、フィラメントと導電性ヒータとの間で熱電子を加速する加速電源と、を備えフィラメントは、複数の支柱によりフィラメントベースに支持され、フィラメントの第１の端部は、第１の電力導入棒と接続され、当該第１の電力導入棒を介して加速電源と接続されており、フィラメントの第２の端部は、第２の電力導入棒と接続され、当該第２の電力導入棒を介して加速電源と接続され、第１の端部および第２の端部は、フィラメントとフィラメントベースとの間に配置されている。 （もっと読む）

【課題】スパッタリング装置に使用されるシールドが原因となる、異常放電や付着膜の剥がれを低減させたスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】排気可能なスパッタリング室と、該スパッタリング室内に設けられた、ターゲット搭載用のそれぞれ回転可能な複数の支持体と、それぞれの該支持体の複数の面に、互いに離間するように設けられた、複数のカソードと、前記スパッタリング室内で位置決めされた基板の被成膜面の位置に応じて、前記複数の支持体毎に回転させることにより、前記カソードのターゲット搭載面に搭載された前記ターゲットの位置決めをして前記基板に成膜を行うスパッタリング装置のシールドが、前記支持体の前記ターゲットをプラズマクリーニングするために、該ターゲットの表面と平行関係にある構成を有している。 （もっと読む）

【課題】
ストロークの大きな真空搬送装置であっても、適時にその駆動系を覆う容器の内部を真空排気出来る基板搬送装置を提供することを本発明の課題とする。
【解決手段】
本発明の係わる真空搬送装置は、内部を排気し得る第一の容器、前記第一の容器内に位置する内部を排気し得る第二の容器、前記第二の容器を一の方向に並進移動をさせる運動手段、排気手段と連通／遮断をするバルブ及び第一の容器に設けられた中空部分を有する第一の接合部、前記第二の容器に設けられた前記第一の接続部に対向する中空柱状体の突出部並びに前記中空柱状体の突出部の内側を移動可能で、前記第一の接合部に前記運動手段により接合可能な中空柱状体の部分を有する第二の接続部を有する構成とする。 （もっと読む）

【課題】本発明における課題は、大面積にわたり均一な高密度プラズマを低圧力で形成することのできるプラズマ処理装置を提供することにある。
【解決手段】本発明では、処理基板と対向するプラズマ発生室の電極に円筒型の電極を使用し，大気側にポイントカスプ磁場を発生する磁場発生装置を配置する。または円筒状の電極の一端を閉じて，閉じた箇所の外側に永久磁石をリング状に磁極の向きが交互になり，かつ同心円になるように配置する。 （もっと読む）

【課題】
スパッタリング装置のバッキングプレート等、冷却水の導入が必要な箇所におけるリークチェックの作業性を向上させた真空処理装置を提供する。
【解決手段】
カソードを構成する処理室隔壁に設けられた導入菅の開口部と、バッキングプレート内の導入菅を接続する場合、導入菅と空隙である中間層（大気）とを封止（シール）する第１のＯリングと、中間層（大気）と真空である処理室内を封止（シール）する第２のＯリングが配置され、第１のＯリングと第２のＯリングの間の空隙である中間層（大気）に、処理室外の大気と連通しているリークテストポートが設けられている。 （もっと読む）

【課題】パーティクルの発生を抑制するとともに交換部品及び交換回数の低減を図ることができる真空処理装置及び基板搬送装置並びに成膜方法を提供する。
【解決手段】基板搬送装置２は、基板Ｇを垂直姿勢で保持して、搬送レール６上を搬送可能なキャリア部材４を備えており、キャリア部材４に取付けられたキャリア側ガイドマグネット１５，１６，１７，１８が、搬送レール側６に取付けられたレール側ガイドマグネット２１，２２，２３，２４から水平方向の斥力を常時受けることで、キャリア部材４は左右の搬送レール６側と非接触状態で移動できる。また、レール側ガイドマグネット２１，２３を、搬送空間Ｔとプロセス空間Ｐとの境界部分に配置することでパーティクルの除去を行う。 （もっと読む）