【課題】グリッド・アセンブリ内の熱ひずみが小さいイオンビーム発生器を提供すること。
【解決手段】放電チャンバの側壁（１Ａ）、取付けプラットホーム（４０）および抽出グリッド電極アセンブリ（２０）の熱膨張係数α_Ｐ、α_Ｍおよびα_Ｇが、α_Ｐ＞α_Ｍ≧α_Ｇの関係を有するように選択される。たとえば、放電チャンバ側壁の材料はステンレス鋼またはアルミニウムであり、グリッドの材料はＭｏ、ＷまたはＣであり、また、プラットホームの材料はＴｉまたはＭｏである。 （もっと読む）

【課題】安定して良好な磁気特性分布を持った磁性膜を作製可能なガス導入装置、スパッタリング装置、およびスパッタリング方法を提供すること。
【解決手段】本発明の一実施形態に係るガス導入装置は、ターゲット３を配置可能なカソード４の周囲を覆うように設けられたリングシールド５と、リングシールド５の内部に設けられ、ガス供給源からリングシールド５の内部に供給されたガスを該内部に拡散させるガスだまり部６と、リングシールド５の内部に設けられ、ガスだまり部６に接続されたガス経路７であって、供給されたガスをガスだまり部６からターゲット３の表面に沿って吹き出すように形成されたガス経路７とを備える。 （もっと読む）

【課題】３枚の多孔板電極からなる引き出し電極を備えたイオンビーム発生装置において、第３電極を損傷することなく、第３電極に付着した付着膜を除去する技術を提供する。
【解決手段】第１電極７ａを正電位に、第２電極７ｂを負電位に、第３電極７ｃを接地電位にそれぞれ設定し、第３電極７ｃに流れる電流値を電流計９で測定しながら、該電流計９で測定された電流値が設定値を超えた場合には、フィードバック制御部１０によって第２電極７ｂに印加する電圧の絶対値を上げる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、基板の冷却効果及び、加熱効率を高めた、省スペースのロードロック室を提供する。
【解決手段】 ロードロック室は、未処理基板を搬入し、処理基板を搬入するロードロック室であって、ロードロック室内部の上方に設けられた基板加熱手段と、ロードロック室内部であって、かつ基板加熱手段の下方に対向配置された、基板冷却手段と、ロードロック室を区画するように設けられ、基板加熱手段に接近可能な第１ステージと、第１ステージに設けられ、基板を支持する複数の第１ピンと、基板冷却手段を備えた第２ステージと、前記第２ステージに設けられ、基板を支持する複数の第２ピンと、を備え、基板加熱手段によって基板を加熱する際には、第１ピンは第１ステージ内に収納されず、基板冷却手段によって基板を冷却する際には、第２ピンは第２ステージ内に収納されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 基板を目的の温度に迅速に冷却でき、均一冷却が可能な装置を提供すること。
【解決手段】 ＥＳＣステージにおいて、熱伝達ガスを導入可能な内側領域２５と外側領域２６を設け、これらの間に排気溝３０を設ける。排気領域は、内側領域２５との間を隔てる内周隔壁３４、外側領域２５との間を隔てる中間隔壁２９とに挟まれた溝状で、内周隔壁３４、中間隔壁２９を介して、内側領域、外側領域を排気する。 （もっと読む）

【課題】パネルをカセットでチッピングを起こすことなく配置することができ、且つ、液晶注入時の液晶及びカセット洗浄時の洗浄液が、カセットの最下段であるパネル受け部へ残留させないことにより、歩留まりを向上させることができるカセットを備えた液晶注入装置を提供することを目的とする。
【解決手段】液晶が注入されるパネルを載置するカセットと、液晶を収容した液晶皿とが配置されるチャンバーと、チャンバー内に設けられ、カセットと液晶皿とを接近させる移動機構とを備えた液晶注入装置であって、カセットは、パネルが該カセット内に搭置されたときに、該パネルの角部と該カセット内の底部との接触を避ける溝部が形成されていることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】作業者の作業負担を軽減した基板処理装置、該基板処理装置を制御する制御装置及びそれらを用いた基板処理方法を提供すること。
【解決手段】本発明の一実施形態に係る基板処理装置は、第一の処理方法を実行する第一のグループに属する処理室と、第二の処理方法を実行する第二のグループに属する処理室と、処理室に基板を搬送する搬送手段とを備える。このような基板処理装置において、作業者により入力された処理方法を取得し（ステップＳ３）、前記作業者により入力された処理方法が前記第一の処理方法であるときには前記第一のグループに属する処理室の一つに前記基板を搬送し、前記作業者により入力された処理方法が前記第二の処理方法であるときには前記第二のグループに属する処理室の一つに前記基板を搬送するように前記搬送手段を制御する（ステップＳ４〜Ｓ６）。 （もっと読む）

【課題】メンテナンス作業をより簡便なものとすることで、メンテナンスコスト及びランニングコストの低減に寄与する基板支持装置及び基板支持装置を備える真空処理装置を提供する。
【解決手段】基板３を搭載して真空処理装置Ｓ内を搬送される基板支持装置１は、基板３を一端部側で支持する弾性体からなる少なくとも１つの基板支持爪１５と、基板支持爪１５の他端部側が配置されるホルダー１１と、ホルダー１１に取り付けられるホルダカバー１３と、を有してなり、ホルダカバー１３をホルダー１１に取り付けることにより、基板支持爪１５をホルダカバー１３とホルダー１１との間に挟んで所定位置に支持することができる。 （もっと読む）

【課題】モータを効率的に冷却するとともに、メンテナンス性を向上し、且つリサイクル使用に適したモータ冷却ユニット及びモータを提供する。
【解決手段】モータ冷却ユニット５は、モータボディ８の外側表面に接した状態で取り付けられ、冷却媒体が流通可能な冷却ジャケット１２が形成されたブラケット１５を有するモータ冷却ユニットであって、冷却ジャケット１２は、モータボディ８の外側表面とブラケット１５の内側表面との間に形成されている。モータボディ８の外表面を冷却ジャケットの壁面として活用することで冷却効率を向上させるとともに、モータ冷却ユニット５をモータ２から着脱することで繰り返し使用することができる。 （もっと読む）

【課題】高い光電変換効率の太陽電池、光センサーや撮像素子等の光電変換装置を提供すること。
【解決手段】高周波成分をカットした直流電力印加の下でのＣｕ（Ｃｕ-Ｇａ）ターゲットへのＤＣ印加と導電性基板への高周波印加とによりＣｕ（Ｃｕ-Ｇａ）膜を成膜し、該Ｃｕ（Ｃｕ-Ｇａ）膜上に、高周波成分をカットした直流電力印加の下でのＩｎターゲットへのＤＣ印加と導電性基板への高周波印加とによりＩｎ膜をＣｕ（Ｃｕ-Ｇａ）膜上に積層成膜する工程を有する光電変換装置の製法。 （もっと読む）