【課題】スパッタリング空間の圧力を均一に保持可能な反応性スパッタリング装置を提供する。
【解決手段】反応性スパッタリング装置は、チャンバーに設けられた基板ホルダー７と、ターゲット４を保持するためのターゲットホルダー６と、ターゲットホルダーと基板ホルダーとの間でスパッタリング空間を形成するるとともに、前記チャンバー内壁へのスパッタ粒子の付着を防止するための防着板４０ａ、４０ｂ、４０ｃ、２３と、スパッタリング空間に反応性ガスを導入するための反応性ガス導入配管１６１と、スパッタリング空間の外側に不活性ガスを導入する不活性ガス導入口３５と、を備え、スパッタリングの際に、ターゲットホルダーに取り付けられたターゲットからのスパッタ粒子が、反応性ガス導入配管の導入口に付着するのを防止する遮蔽部材を備えている。 （もっと読む）

【課題】極高真空領域まで真空排気される真空容器のシール材としてエラストマー素材のシール材を使用することができる真空容器を提供する。
【解決手段】２分割される真空容器１２の合せ面にシール材２０を有して気密に保持される真空容器１２であって、合せ面の真空容器の内側にラビリンス形成装置を備え、ラビリンス形成装置２２は、凹部２３が形成された凹部材２３と、凹部２３ａの内面と僅かな隙間を有して配置される凸部２５を有する凸部材２５ａと、凹部材２３ａに凸部材２５ａを近づける方向に動作させる上下動機構２８とを有する。 （もっと読む）

【課題】シャッターの形状や導電性などシャッター装置の種類に関わらず、基板電位の変動を抑制し、ＥＳＤ（Ｅｌｅｃｔｒｏsｔａｔｉｃ Ｄａｍａｇｅ）の発生を防ぐことができるイオンビームエッチング方法を提供する。
【解決手段】開閉移動するシャッター５を備えるイオンビームエッチング装置を用い、シャッター５が閉位置５ａから開位置５ｂに移動するとき、イオン源から放出されるイオンビームの量を一定にするとともに、中和器から放出される電子の量をシャッターの移動前と比べて一旦減量した後に増量することで基板電位の変動を抑制するイオンエッチング方法。 （もっと読む）

【課題】ロール・ツー・ロール方式を用いた成膜装置において、基板上に付着したパーティクルを除去、回収することができる成膜装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 ロール・ツー・ロール方式により長尺基板を搬送する成膜装置において、前記長尺基板の進行方向に位置する第一のローラと、前記長尺基板の進行方向に対して前記第一のローラの次に位置する第二のローラと、パーティクル回収容器と、を有し、前記パーティクル回収容器は、前記第一のローラの鉛直下方に設けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】プラズマにおいて、ガラス基板などの絶縁性基板を短時間で加熱して静電吸着させることが可能な静電吸着方法を提供することである。
【解決手段】静電吸着機構を備えたプラズマ処理装置において、静電吸着機構に絶縁性基板を載置して、高周波電力を印加して絶縁性基板に面した空間にプラズマを形成する。該プラズマによって静電吸着機構を不必要に加熱することなく、被処理基板のみを急速に加熱することが出来る。これにより絶縁性基板の静電吸着を短時間で行うことが可能となる。 （もっと読む）

【課題】大型の基板であっても、安定して搬送することができ、同時に、搬送する基板の下方に充分なスペースを確保することができる搬送機構を提供することにある。
さらに、係る搬送機構によって基板を安定に搬送しながら効率良く真空処理を行いうる真空処理装置を提供することにある。
【解決手段】駆動軸に回転運動を付与する駆動系と、駆動軸に該駆動軸の中央に最も径が大きいコロを有するローラーとを具備し、ローラーに接触する金属ベルトを、駆動系でローラーを回転させることにより進行させて、金属ベルト上の被搬送物を順次移送させることを特徴とする搬送機構であり、及びそれを備えた真空処理装置である。 （もっと読む）

【課題】各種電子装置の製造で、基板に対して加熱処理や成膜処理等の表面処理を施す真空処理装置の基板の搬送方法であって、基板移載時におけるトレイへの基板移載機構の精度が低い場合においても、トレイに対して基板を常に安定して保持させることが可能な基板の搬送方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置の設置面に対して水平の位置にある第一のトレイに基板を搭載し保持するステップと、基板を保持した第一のトレイを設置面に対して鉛直方向に傾いた第二のトレイに装着するステップと、第一のトレイが装着された第二のトレイを、基板処理装置が有する減圧したチャンバー内に搬送機構により搬送するステップと、を有することを特徴とする基板の搬送方法である。 （もっと読む）

【課題】従来よりも高いＭＲ比を持った磁気抵抗素子とその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、磁気ディスク駆動装置の磁気再生ヘッド、磁気ランダムアクセスメモリの記憶素子及び磁気センサーに用いられる磁気抵抗素子、好ましくは、トンネル磁気抵抗素子（さらに好ましくは、スピンバルブ型トンネル磁気抵抗素子）に関し、基板、トンネルバリア層、Ｃｏ（コバルト）Ｆｅ（鉄）合金からなる強磁性層及びＢ（ボロン）を含有した非磁性金属層を有する磁気抵抗素子。 （もっと読む）

【課題】整合器内部の損傷を回避可能なプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】プラズマ処理装置は、高周波電源１０と、高周波電源からの電力が印加される負荷３０と、高周波電源から負荷への印加電力による高周波放電によりプラズマが生成される処理室４０と、高周波電源と負荷との間でインピーダンス整合を行う、１以上の可変リアクタンス（Ｃ１、Ｃ２）、入力端子及び出力端子を有する構成要素を備える整合器２０と、整合器内に設けられ、各構成要素のリアクタンス値をもとに、高周波電源から整合器に印加可能な限界値を算出する算出手段２７と、算出手段から限界値を受け、高周波電源から負荷への出力の目標値を指示する制御部５０を備え、制御部は、目標値が限界値を超えた場合、高周波電源の出力を低減又は停止するように制御する。 （もっと読む）

【課題】位置決めの再現性、制御応答性及びサーボ剛性を向上できる基板搬送装置を実現する。
【解決手段】基板搬送装置は、基板を保持することが可能な基板保持器と、前記基板保持器を進退動作させるリンク部と、前記リンク部を動作させる駆動力を発生する駆動部と、前記基板保持器及び前記リンク部のいずれか一方に設けられたガイドバーと、前記基板保持器及び前記リンク部のいずれか他方に設けられ、前記リンク部の動作により前記基板保持器が移動する際に前記ガイドバーをスライド可能に支持する支持部と、を有する。 （もっと読む）