説明

大陽日酸株式会社により出願された特許

11 - 20 / 642


【課題】金属薄膜を成膜する際に、金属薄膜材料の蒸気圧を向上させて、単位時間当たりの有機金属の供給量を増大させるとともに、配管へ吸着した原料を効率よくパージする金属薄膜材料および金属薄膜の成膜方法を提供する。
【解決手段】コバルトに金属原子が環状炭化水素を含み、炭素、窒素、水素ならびに金属元素のみからなり、酸素を含まない構造であることを特徴とする金属薄膜材料を提供する。また、そのような金属薄膜材料の蒸気を基板表面に搬送し、窒素を含有する反応性ガスを、前記金属薄膜材料の蒸気と同時または順次に基板表面に供給することを特徴とする金属薄膜の成膜方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】基板温度の低温下を達成しつつ、成膜速度が向上された金属薄膜の成膜方法および金属薄膜成膜用原料を提供する。
【解決手段】アミジナート配位子を有する金属薄膜原料9と、窒素原子および水素原子を有する反応ガス23と、を用いて、前記金属薄膜原料と前記反応ガスを交互または同時に基板6表面に供給することにより、低不純物の金属薄膜を成膜する金属薄膜の成膜方法を提供する。また、窒素原子および水素原子を有する反応ガスとともに用いられることで金属薄膜を成膜する金属薄膜成膜用原料であって、アミジナート配位子を有する金属薄膜成膜用原料。 (もっと読む)


【課題】多量のガス供給のために多量の温風が必要な場合でも、筐体からの多量の排気を抑える。
【解決手段】ガス供給装置100は、液化ガスが充填されたガスシリンダー2と、そのガスシリンダー2から排出されたガスを供給するためのガス供給流路11と、導風ガイド3と、温風循環流路4とを備えている。温風循環流路4には、途上に設けられた温風発生器により生成された温風が循環する。導風ガイド3は、ガスシリンダー2を覆う筒状の遮蔽板であり、温風循環流路4の吐出口4aからの温風が流入するガイド吸引口と、温風循環流路4の吸引口4bに吸引されるように温風を排出するガイド吐出口とが設けられ、ガイド吸引口から流入した温風が、ガスシリンダー2との間の空隙を流れて、ガイド吐出口から排出されるように構成されている。 (もっと読む)


【課題】フラックスを使用せず、高価な真空炉も必要とせずに、効率よく確実にアルミニウムのろう付けを行うことができるアルミニウムのろう付け方法を提供する。
【解決手段】0.05〜5.0重量%、好ましくは1.0〜5.0重量%のマグネシウムを含有したろう材を用いて、窒素濃度が1%以下のアルゴン雰囲気又はヘリウム雰囲気中で加熱する。加熱する際の昇温速度は、毎分30〜200℃の範囲、好ましくは毎分40〜180℃の範囲に設定する。加熱時の圧力を大気圧付近に設定することにより、真空炉が不要となる。 (もっと読む)


【課題】凍結効率や歩留まりの向上を図り、コスト低減を図ると共に、柔らかくて形状が安定しないものでも良好に急速凍結させることができる急速凍結装置を提供する。
【解決手段】急速凍結装置11は、被凍結物17を収容する凹部13bを備えたトレイ13と、トレイ13を支持して水平方向に搬送する搬送用コンベア12と、該搬送用コンベア12の搬送方向上流側で、凹部内に被凍結物17を収容したトレイ13を搬送用コンベア12に支持させた状態で凹部内に低温液化ガスを供給するノズル15と、搬送用コンベア12の下流側で、低温液化ガスによって急速凍結された凍結物17を凹部内から回収する凍結物回収部16とを備えている。 (もっと読む)


【課題】ハロゲン化物ガスとハロゲン化物粒子とを含む除害対象ガスの除害処理を確実に行うことができる除害方法を提供する。
【解決手段】ハロゲン化物ガスと常温で固体であるハロゲン化物粒子とを含む除害対象ガスの除害方法において、前記除害対象ガスを、金属水酸化物、好ましくはアルカリ金属の水酸化物あるいはアルカリ土類金属の水酸化物を含む第1の除害剤に接触させた後、ハロゲン化物を除害可能で、前記第1の除害剤の大きさより小さな大きさを有する第2の除害剤に接触させる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、対象物の脱水処理及び冷却処理を、構成が簡略化された1つの真空冷却チャンバーを用いて連続処理可能で、かつ対象物に応じて効率よく冷凍可能な冷凍装置を提供することを課題とする。
【解決手段】対象物11の脱水処理及び冷凍処理を行なう真空冷却チャンバー12と、真空冷却チャンバー12内に収容され、通気用貫通部、及び上面に対象物11が載置される載置面25aを有し、対象物11を冷却する冷却プレート17と、真空冷却チャンバー12内に収容されると共に、冷却プレート17の上方に配置され、対象物11に対して冷媒を噴射する冷媒噴射ユニット13と、冷却プレート17の下面側に装着され、冷却プレート17の下面及び通気用貫通部を露出する空間を有し、冷却プレート17の下面に装着された真空吸引ポート21と、真空吸引ポート21内の空間の圧力を減圧可能な構成とされた真空ポンプ22と、を有する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、コストを抑制可能であり、酸化を抑制するためのシールド効果を高めることが可能であり、かつ十分な溶け込み深さを得ることの可能なフェライト系ステンレス鋼のTIG溶接方法を提供することを課題とする。
【解決手段】第1のシールドガスとして、アルゴンガスとヘリウムガスとの混合ガスで、かつ該混合ガスに含まれるヘリウムガスが20〜90体積%のガスを用い、第1のシールドガスの第1の流速Sを0.175m/sec≦S≦1.75m/secの範囲内で設定すると共に、第2のシールドガスとして、アルゴンガスを用い、第2のシールドガスの第2の流速Sを0.05m/sec≦S≦1.51m/secの範囲内で設定して、フェライト系ステンレス鋼11のTIG溶接を行なう。 (もっと読む)


【課題】バーナを回転させたり、振動させたりするための大掛かりな機械的駆動装置を使用することなく、一本で広い範囲を均一に加熱することができるバーナを提供する。
【解決手段】酸化剤流れと燃料流れとを供給して燃焼させるバーナであって、前記酸化剤流れは、1次酸化剤流れと、2次酸化剤流れとからなり、前記燃料流れ、前記1次酸化剤流れ、および前記2次酸化剤流れの各流れを形成する流体噴出流路のうち、少なくとも1つが、該流れの噴出口に向かって拡がるように形成され、側壁7において対向する位置に2つの開口部8,9が設けられており、前記開口部8,9には、圧力を制御する圧力制御機構5が設けられており、前記圧力制御機構5によって、一方の開口部の圧力が静圧より低い圧力のときに、他方の開口部の圧力が静圧より高い圧力に制御されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、表面に反応防止膜が形成された反応防止膜付基板に対し、好適な濡れ性を有し、触媒金属塩の溶媒として使用でき、均一な触媒層を形成し、最終的に製造される配向CNTのサイズを制御することを目的としている。
【解決手段】本発明は、溶媒に触媒金属塩を分散及び/又は溶解した触媒金属塩液を基板の表面に塗布加熱し、熱CVD処理により配向CNTを合成する製造方法において、前記溶媒は、PGEと前記PGEとの相溶性があって非親水性を有する非親水液とが混合した特性溶媒であり、前記非親水液が前記PGEより加水分解反応が少なく、前記基板が基板表面に反応防止膜が形成された反応防止膜付基板であり、前記触媒金属塩液の金属塩濃度と前記配向CNTのサイズとの相関から相関関係を導出し、前記相関関係により前記金属塩濃度を調整して前記サイズを制御する配向CNT製造方法である。 (もっと読む)


11 - 20 / 642