説明

大陽日酸株式会社により出願された特許

81 - 90 / 642


【課題】触媒層上に秀麗な配向CNTを合成でき、CNTを分離回収した後、基板層の再利用を実現することを目的とする。
【解決手段】本発明のCNT製造用の四層型触媒基体1は、基板層2の上に耐熱性樹脂層4を形成し、前記耐熱性樹脂層4の上にAl層6を形成し、前記Al層6の上にCNT合成用の触媒層8を形成している。また、前記基板層2がベルト状に形成された基板ベルトであり、前記基板ベルトの上に前記耐熱性樹脂層4、前記Al層6及び前記触媒層8を積層して四層型触媒基体ベルトも提供できる。400℃以上、好適には500℃以上の耐熱温度を有した耐熱性樹脂層4を形成して、CNT合成時に耐熱性樹脂層4が基板層2と樹脂層8との反応を防ぎ、触媒層8上に配向CNTを合成でき、CNTを分離回収しても基板層2の表面は合成前の状態であり、基板ベルトを含む基板層2の再利用を実現できる。 (もっと読む)


【課題】エッチング選択比の高いマスクを形成する技術を提供する。
【解決手段】エッチングによって被エッチング物をパターニングする際に用いるマスクを形成するためのマスク用材料であって、イソブチル基および/または環状炭化水素を有するシラン化合物からなることを特徴とするマスク用材料を提供する。また、エッチングによって被エッチング物をパターニングする際に用いるマスクの形成方法であって、パターン化されたホトレジスト上に上記マスク形成用材料を用いてALD法により共形膜を形成する工程、エッチバックして前記レジスト膜の側面にマスク形成用材料が残るように加工する工程、前記レジスト膜を除去する工程、とを有することを特徴とするマスクの形成方法を提供する。こうして形成したマスク形成用材料をマスクとしてエッチングすることで、被エッチング物に微細パターンを形成する (もっと読む)


【課題】カーボンナノ構造物の連続合成過程で原料ガスの拡散を防止して原料ガスの初期濃度を高濃度に維持でき、高品質のカーボンナノ構造物の量産を行うことのできる原料ガス拡散抑制型カーボンナノ構造物製造装置を提供することである。
【解決手段】触媒層31を表面に形成した搬送ベルト19により反応炉1内に搬入して昇温領域3及び反応領域2を順に搬送し、昇温領域3を通過した触媒層を反応領域2に移送して原料ガスにより触媒層上にCNTを成長させる。拡散抑制体6、7により、搬送ベルト19が通過可能な間隙8を残して炉内断面を縮減して昇温領域3及び反応領域2の境界領域を仕切り、反応領域2に供給された原料ガスの、昇温領域3側への拡散を抑制する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、取り扱いやすい標準ガスを用いて容易に校正を行なうことが可能で、かつ分析計を劣化させることなく、間接的に水素化物ガスの濃度を測定可能なガス測定装置、及び水素化物ガスの測定方法を提供することを課題とする。
【解決手段】ガスを分析する分析計12と、分析計12の前段に配置されると共に、分析計12と接続され、かつ水素化物ガスと反応することで水素化物が含まれていないガスを発生させる置換剤を有する反応管25と、を含む。 (もっと読む)


【課題】フレキシブルチューブの最小曲げ半径を確保できるとともに、低温液化ガスを小分けする際の操作性も良好な低温液化ガス移送装置を提供する。
【解決手段】液化ガス貯槽11に貯留した低温液化ガスを、真空断熱構造を有するとともに屈曲自在な可撓性を有するフレキシブルチューブ16を備えた移送管12を介して小型容器13に移送する低温液化ガス移送装置において、フレキシブルチューブを、フレキシブルチューブの最小曲げ半径以上の半径を有し、かつ、フレキシブルチューブを軸線方向に移動可能に支持する円弧状のガイド部材21で支持し、ガイド部材を上方が凸になる状態で装置上方から吊持手段(バランサ22)で上下動可能に吊持するとともに、上部滑車23と下部滑車24とに掛け回され、張力調節手段27で張力を調節されたガイドロープ25をガイド部材に連結する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、筒状支持部材の両端に、生産性を向上させた上で、シール性を確保するのに十分な厚さとされた金属被膜を、筒状支持部材を破損させることなく、低コストで形成可能な膜エレメント及びその製造方法、並びに膜モジュールを提供することを課題とする。
【解決手段】多孔質セラミックスよりなる筒状支持部材21の外周側面のうち、前記筒状支持部材21の両端に位置する第1及び第2の金属被膜形成面21a,21bに、溶射法により形成された少なくとも1層の金属層よりなる金属被膜22と、金属被膜22を介して、筒状支持部材21の両端に設けられた第1及び第2の金属金具25,26と、を有する。 (もっと読む)


【課題】低温液化ガスを浸漬槽内に安定した状態で供給することができる低温液化ガス供給方法及び低温液化ガス浸漬装置を提供する。
【解決手段】浸漬槽14内に貯留した低温液化ガス中に被冷却物を浸漬して該被冷却物を冷却する低温液化ガス浸漬装置において、浸漬槽内の低温液化ガスより高い圧力の高圧低温液化ガスを供給する低温液化ガス供給経路16と、高圧低温液化ガス供給経路から供給される高圧低温液化ガスと浸漬槽内の低温液化ガスと同じ圧力の低圧低温液化ガスとを熱交換させて高圧低温液化ガスを冷却して過冷却状態とする熱交換器17と、熱交換器で冷却された高圧低温液化ガスを降圧して浸漬槽内に供給する降圧手段18とを備えている。 (もっと読む)


【課題】転動部材が隣接する転動部材に乗り上がってしまうことを防止することができる自公転機構を備えた気相成長装置を提供する。
【解決手段】加熱手段によって加熱されるとともに駆動手段によって回転するサセプタ11に、該サセプタの周方向に複数の基板保持部材21を転動部材(ボール22,23)を介して回転可能に設け、前記サセプタの回転に伴って前記基板保持部材を回転させ、該基板保持部材に保持された基板12をサセプタの回転軸に対して公転させながら自転させる自公転構造を備えた気相成長装置において、前記転動部材として、径が異なる転動部材(大径ボール22及び小径ボール23)を交互に配置する。 (もっと読む)


【課題】プラズマCVD装置を用いてシリコン窒化膜を形成する際に、低温環境下で膜特性に優れたシリコン窒化膜を形成することが可能なシリコン窒化膜の形成方法を提供する。
【解決手段】プラズマCVD装置を用いて、シリコン源となる原料ガスと窒素源となる原料ガスとの混合ガスを真空環境下でプラズマ化することにより、シリコン窒化膜を形成する方法であって、シリコン源として、テトラメチルジシラザンを用いることを特徴とするシリコン窒化膜の形成方法を採用する。 (もっと読む)


【課題】NO低減効果を発揮する、実用的に価値のあるバーナの燃焼方法を提供する。
【解決手段】酸化剤流れと、燃料流れを供給して燃焼するバーナの燃焼方法であって、前記酸化剤流れは、前記燃料流れの周囲または前記燃料流れの近傍から噴出する1次酸化剤流れと、複数の2次酸化剤流れとからなり、前記1次酸化剤流れ、及び複数の前記2次酸化剤流れの流量の少なくとも一つを周期的に変化させるとともに、前記酸化剤流れ中の酸素濃度に周期的な変化を与え、前記酸化剤流れによって供給される供給酸素量を理論必要酸素量で除した酸素比に周期的変化を与え、前記酸素濃度と前記酸素比の周期的変化に差を設けることにより、燃焼状態が周期的な振動状態となることを特徴とするバーナの燃焼方法。 (もっと読む)


81 - 90 / 642