【課題】Ｃ、Ｎ含有量が低く、Ｔａ／Ｎ組成比が高く、Ｃｕ膜との密着性が確保されているバリア膜として有用な低抵抗タンタル窒化物膜の形成方法の提供。
【解決手段】真空チャンバ内に、Ｔａ元素の周りにＮ＝(Ｒ,Ｒ')(Ｒ及びＲ'は、炭素原子数１〜６個のアルキル基を示し、それぞれが同じ基であっても異なった基であってもよい)が配位した配位化合物からなる原料ガスを導入して基板上に吸着させた後に、酸素原子含有ガスを導入してＴａＯ_ｘＮ_ｙ(Ｒ,Ｒ')_ｚを生成し、次いで活性化した反応ガスを導入してＴａに結合した酸素を還元し、かつ、Ｎに結合したＲ(Ｒ')基を切断除去し、Ｔａリッチのタンタル窒化物膜を形成する。また、得られた膜中にスパッタリングによりタンタル粒子を打ち込み、さらにタンタルリッチとする。 （もっと読む）

【課題】ＣＶＤ法により、Ｃ、Ｎ含有量が低く、Ｔａ／Ｎ組成比が高く、Ｃｕ膜との密着性が確保されているバリア膜として有用な低抵抗タンタル窒化物膜を形成する方法の提供。
【解決手段】成膜室内に、Ｔａ元素の周りにＮ＝(Ｒ,Ｒ')(Ｒ及びＲ'は、炭素原子数１〜６個のアルキル基を示し、それぞれが同じ基であっても異なった基であってもよい)が配位した配位化合物からなる原料ガス及びハロゲンガスを導入してＴａＮ_ｘ(Ｈａｌ)_ｙ(Ｒ,Ｒ')_ｚ化合物膜(Ｈａｌは、ハロゲン原子を表す)を形成し、次いでＨ原子含有ガスを導入してハロゲン化生成物と反応させてタンタルリッチのタンタル窒化物膜を形成する。また、得られた膜中にスパッタリングによりタンタル粒子を打ち込み、さらにタンタルリッチとする。 （もっと読む）

【課題】ＣＶＤ法により、Ｃ、Ｎ含有量が低く、Ｔａ／Ｎ組成比が高く、Ｃｕ膜との密着性が確保されているバリア膜として有用な低抵抗タンタル窒化物膜を形成する方法の提供。
【解決手段】成膜室内に、Ｔａ元素の周りにＮ＝(Ｒ,Ｒ')(Ｒ及びＲ'は、炭素原子数１〜６個のアルキル基を示し、それぞれが同じ基であっても異なった基であってもよい)が配位した配位化合物からなる原料ガス及び酸素原子含有ガスを導入して基板上で反応させて、ＴａＯ_ｘＮ_ｙ(Ｒ,Ｒ')_ｚを生成し、次いでＨ原子含有ガスを導入してタンタルリッチのタンタル窒化物膜を形成する。また、得られた膜中にスパッタリングによりタンタル粒子を打ち込み、さらにタンタルリッチとする。 （もっと読む）

【課題】Ｃ、Ｎ含有量が低く、Ｔａ／Ｎ組成比が高く、Ｃｕ膜との密着性が確保されているバリア膜として有用な低抵抗タンタル窒化物膜の形成方法の提供。
【解決手段】真空チャンバ内に、Ｔａ元素の周りにＮ＝(Ｒ,Ｒ')(Ｒ及びＲ'は、炭素原子数１〜６個のアルキル基を示し、それぞれが同じ基であっても異なった基であってもよい)が配位した配位化合物からなる原料ガスを導入して基板上に吸着させた後に、ＮＨ_３ガスを導入し、次いで反応ガスの活性化したＨラジカルを導入してＮに結合したＲ(Ｒ')基を切断除去し、Ｔａリッチのタンタル窒化物膜を形成する。また、得られた膜中にスパッタリングによりタンタル粒子を打ち込み、さらにタンタルリッチとする。 （もっと読む）

【課題】 構造の簡素化とメンテナンス性の向上が図られ、伝熱ガスのシール性も確保できる静電チャック及びこれを備えた真空処理装置を提供する。
【解決手段】 ホットプレート１７とステージ１８との間に中間体１９を挟持させ、ホットプレート１７と中間体１９の各々の接触面１７Ａ，１９Ａを表面粗さ（Ｒａ）１０ｎｍ以下とすることにより、これらホットプレート１７と中間体１９とを直に接触させて両者間の所定のシール性を得るようにしている。これにより、耐熱性のあるシール材を用いることなく、ホットプレート１７とステージ１８間の接触界面を介しての伝熱ガスの外部への漏洩を抑制でき、構造の簡素化及び低コスト化を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】 真空成膜装置に使用され、 搬送ローラの位置の移動にステンレス・ベローズを使用しない基板の搬送機構、基板の幅の変更に対処しうる搬送機構を提供すること。
【解決手段】 真空成膜装置の移載室２において、ガラス基板ＧをキャリアＣから取出トレイＴｏへ移し換えるに際してキャリアＣを上昇、下降させるが、その時にキャリアＣを支持して搬送する搬送ローラ２３が支障とならないように、移載室２の側壁２ｓを挿通される搬送ローラ２３の回転軸３１を大気側回転軸３１ａと真空側回転軸３１ｂがそれぞれに設けたマグネットにより、大気側回転軸３１ａに属している真空隔壁３８を介して、マグネットカップリングされたものとし、真空側回転軸３１ｂに取り付けられてキャリアＣの搬送位置にある搬送ローラ２３を、カップリングを解除し真空側回転軸３１ｂを大気側へ移動させることによって退避位置とする。 （もっと読む）

【課題】 基板への熱輻射を小さくして載置される基板の温度上昇を抑制して、基板の反りによる搬送不良を防止できるようにする。
【解決手段】 アルミナ材からなる基板搬送ハンド９の基板載置部９ｂ、９ｃの全外周面にアルミナ材より輻射率が小さいアルミニウムを成膜したことにより、基板載置部９ｂ、９ｃからガラス基板への熱輻射を小さくし、基板載置部９ｂ、９ｃの表面に載置されるガラス基板の温度上昇を抑制して、基板の反りによる搬送不良を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】 有機材料膜を、比較的短時間で、しかも、簡単な構成により、無機材料により構成される基材表面に形成する方法を提供する。
【解決手段】 無機材料により構成される基材表面を、酸化処理してから、真空雰囲気下においてシランカップリング剤蒸気に晒し、その後、前記基材表面に有機材料膜を形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】蒸着時における加熱温度及び蒸発速度の制御を正確且つ応答性良く行うことが可能な有機材料用蒸発源及びこれを用いた有機蒸着装置を提供する。
【解決手段】本発明の有機材料用蒸発源３は、所定の有機材料を収容する収容凹部３３ａを有する蒸発用容器３３と、有機材料を加熱するための高周波誘導用のコイル５０からなる加熱部とを備えている。蒸発用容器３３の収容凹部３３ａは、開口側に向って開口形状が漸次大きくなるように略断面円錐形状に形成されている。蒸発用容器３３の収容凹部３３ａの表面には、当該蒸発材料１０の含浸を防止するための含浸防止部が設けられている。含浸防止部は、例えば薄膜のコーティングにより形成する。 （もっと読む）

【課題】 抗菌性を付与する対象となる部材表面全面に、いわゆる抗菌剤を用いることなく抗菌性を付与する。
【解決手段】 セラミックスなどの多孔質部材の表面に蒸着重合法により合成樹脂被膜を形成後、オゾン処理することにより前記多孔質部材に抗菌性を付与することを特徴とする。この多孔質部材を空気調和機や空気清浄機で抗菌フィルターとして用いる。 （もっと読む）