【課題】 結晶性の良好なＺｎＯ薄膜を低温で、特に加熱することなく室温で、形成させる方法を提供すること。
【解決手段】 基板上に４００℃未満の温度で結晶性酸化亜鉛薄膜を形成させる方法であって、該基板上に表面が主に（１１１）格子面となる結晶性緩衝層を設けた後、該緩衝層の上に酸化亜鉛薄膜を気相法により堆積させることを特徴とする方法。 （もっと読む）

【課題】 窒化アルミニウム（ＡｌＮ）膜を有する窒化アルミニウム積層基板を提供する。
【解決手段】 サファイア等の単結晶α−アルミナ基板を、窒素、カーボンおよび一酸化炭素の存在下に加熱、窒化処理して結晶性窒化アルミニウム膜を同基板上に積層するとともに、同一工程で同時に該α−アルミナ基板と結晶性窒化アルミニウム膜層との界面に気孔を不規則に点在せしめることを特徴とする結晶性窒化アルミニウム積層基板の製法と当該積層基板。 （もっと読む）

【課題】 精密な裁断及び貼合技術が要求されることなく、簡便な工程により低コストで製造することができ、しかも複屈折波長分散特性の制御が容易で広帯域位相差フィルム等に利用することができる単層の旋光性フィルム、並びにその製造方法を提供すること。
【解決手段】 液晶性高分子を含有する溶液を配向規制力のある基板上に塗布する工程、
前記基板の配向規制力によって基板側にある液晶性高分子を第一の方向に配向させる工程、
前記液晶性高分子に磁場を印加し、基板から離れた側にある液晶性高分子を、第一の方向に対して３０〜９０°の角度をなす第二の方向に配向させると共に、液晶性高分子の配向方向が第一の方向から第二の方向に連続的に変化するねじれ部を中間に形成せしめる工程、及び
配向せしめた前記液晶性高分子を冷却してガラス状態とする工程、
を含むことを特徴とする旋光性フィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 低コスト化及び省電力化を実現できる光ダイオードを提供すること。
【解決手段】 本発明の光ダイオード２１は、選択反射波長帯域を有する左巻きのらせん構造を有するコレステリック液晶（ＣＬＣ）層２、ＣＬＣ層２の選択反射波長帯域内の波長を有する左円偏光の２つの固有偏光の位相差を変化させる位相子２４を備える。光ダイオード２１によれば、例えばＣＬＣ層２の選択反射波長帯域内の波長を有する左円偏光を位相子２４に入射すると、位相子２４により左円偏光が右円偏光とされ、この右円偏光はＣＬＣ層２を透過することが可能となる。一方、ＣＬＣ層２に、ＣＬＣ層２の選択反射波長帯域内の波長を有する左円偏光が入射されると、この左円偏光はＣＬＣ層２で選択的に反射される。こうして光ダイオード特性が実現される。また光ダイオード２１によれば、製造に手間がかからない。更に非線形光学効果が利用されないため、入射光として、非線形光学効果を生じさせる程度の十分高強度なレーザ光を入射させる必要がない。 （もっと読む）

【課題】 酸化ストロンチウムイリジウム（ＳｒＩｒＯ₃）に基づく金属酸化物、特にペロブスカイト型のＳｒＩｒＯ₃に基づく金属酸化物の薄膜を提供する。
【解決手段】 有機ストロンチウム（Ｓｒ）化合物１１と有機イリジウム（Ｉｒ）化合物１２とを含有する原料ガスを用いる有機金属化学気相成長法によって、基材３の表面上に、特に立方晶系、正方晶系又は斜方晶系の（１００）面又は（１１０）面である基材３の表面上に、ＳｒＩｒＯ₃、特にペロブスカイト型構造のＳｒＩｒＯ₃に基づく金属酸化物の薄膜を製造する方法とする。 （もっと読む）

【課題】 簡単な装置構成により高密度のプラズマを発生させることのできるプラズマエッチング装置を提供する。
【解決手段】 エッチングチャンバー１０内にプラズマ発生用高周波印加電極１１を備え、円形状又はリング状の表面を有する磁石２０が、当該円形状又はリング状の表面を高周波印加電極１１に対向させるよう配置されているプラズマエッチング装置１とする。このようなプラズマエッチング装置１によれば、簡単な装置構成により、高密度のプラズマを発生させることができる。また、この高密度のプラズマを生成することにより、異方性の高いエッチング処理を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】
金属酸化膜や化学吸着膜の形成用材料等として有用であり、酸や塩基によりｐＨを調整したり、分散安定化剤を添加しなくとも有機溶媒中で凝集することがない、新規な分子構造を有する金属化合物、その製造方法、並びに金属酸化物膜等の形成に有用な分散液及び分散体を提供する。
【解決手段】
１分子内に、空間的に６つの金属原子が５角錐の頂点に位置する配置と、５つの金属原子が頂点に位置する５角形からなる配置を含む分子構造を有することを特徴とする金属化合物、その製造方法、前記金属化合物の微粒子が有機溶媒中で分散してなる分散液、及びこの分散液に、該金属化合物に対し、０．１〜１．０倍モルの水を添加し、加熱処理して得られる分散体。 （もっと読む）

【課題】 極大誘電率温度を低下させたビスマス層状化合物誘電体薄膜を提供すること。
【解決手段】 ペロブスカイトブロック層と酸化ビスマス層とが互いに積層した結晶構造を有するビスマス層状化合物を含んで成る誘電体薄膜であって、該ビスマス層状化合物が組成式：
（Ｂｉ_２Ｏ_２）²⁺（Ａ_ｘＢ_ｍＯ_３ｍ＋１）^2-
で表され、上記組成式中、ＡがＮａ、Ｋ、Ｐｂ、Ｂａ、Ｓｒ、ＣａまたはＢｉを表し、ＢがＦｅ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｇａ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｓｂ、Ｖ、ＭｏまたはＷを表し、ｍが２以上の正数であり、かつ、ｘがｍ−１より小さい正数であり、そして該化合物の極大誘電率温度Ｔ_ｍが、上記組成式においてｘがｍ−１である対応するビスマス層状化合物の極大誘電率温度より低いことを特徴とする誘電体薄膜。 （もっと読む）

【課題】 簡単な構成により、容易に小型化に対応することができるようにした、マスキング機構及びそれを備えた成膜装置を提供する。
【解決手段】 真空チャンバーの開口部を密閉して取り付ける真空フランジ１１と、真空フランジ１１に対して回転可能にそして軸方向に移動可能に支持され、その外端に回転運動及び直線運動が加えられる駆動軸１２と、駆動軸１２の内端に取り付けたマスク部１３とを備え、マスク部１３が、駆動軸１２に対して垂直に固定保持された円板状のマスク支持円板１３ａと、マスク支持円板１３ａの外周縁に沿って軸方向内側に延びるように、全体としてほぼ多角柱状に配置された複数個のマスク支持板１３ｂと、各マスク支持板１３ａに取り付けられた所定形状のマスク孔を備えたマスク１３ｃとを含むように、マスキング機構１０を構成する。 （もっと読む）

【課題】 界面活性剤の疎水性を電気化学的に増大させることにより界面活性を低下させることを利用した新規な薄膜製造法を提供すること。
【解決手段】 本発明による薄膜の製造方法は、界面活性剤を用いて疎水性物質を水中へ溶解または微粒子として分散させた後、該界面活性剤を還元することにより該疎水性物質を該水中の基板表面に付着させるに際し、該還元により該界面活性剤の疎水性を増大させ、よって該基板表面の近傍において該疎水性物質を脱溶解または脱分散させることを特徴とする。 （もっと読む）