説明

富士フイルム株式会社により出願された特許

981 - 990 / 25,513


【課題】効率良く検査を行なうことができ、また、精度良く表面欠陥の検出を行なうことができる検査装置及び検査方法を提供する。
【解決手段】ウエブ状の被検査物の表面欠陥を検出する検査装置であって、走行する被検査物を支持する円柱形状を有する複数の検査ロールと、検査ロール上の被検査物の表面に光を照射する光源と、被検査物の表面から反射した光を検出する検出ユニットと、を備え、複数の検査ロールのそれぞれの周面に、該検査ロールと被検査物との間に入り込んだ空気を逃す凹凸が形成された溝部と凹凸が形成されていない柱面部とが形成され、溝部と柱面部とが各検査ロールの軸方向に並んで形成され、検出ユニットは、被検査物において柱面部上に位置する領域を検出領域とし、柱面部の位置が、複数の検査ロールそれぞれにおいて軸方向に異なる。 (もっと読む)


【課題】外光に起因する画像ノイズを低減することができる放射線画像検出装置を提供する。
【解決手段】放射線画像検出装置1は、シンチレータ11と、前記シンチレータに密接して設けられ、前記シンチレータに生じる前記蛍光を検出する画素アレイ21と、前記シンチレータ及び前記画素アレイのうち少なくとも一方を支持する第1の支持体20と、放射線を透過させる天板部62が設けられた第1の部材60と、第2の部材61とを有し、第1の部材及び第2の部材が組み合わされて形成される遮光された内部空間に前記シンチレータ及び前記画素アレイ並びに前記第1の支持体を収納する筐体5と、を備える。前記シンチレータ及び前記画素アレイは、前記第1の支持体と前記天板部との間に配置されており、前記第1の支持体は、前記画素アレイが感度を有する波長域のうち少なくとも一部の波長域の光を吸収する。 (もっと読む)


【課題】立体画像表示装置に組み込んだときに、クロストークを低減できるパターン光学異方性層を有する光学フィルムを提供する。
【解決手段】第1位相差領域1および第2位相差領域2を有し、前記第1位相差領域と第2位相差領域は、同一面内において、交互に配置されており、前記第1位相差領域および第2位相差領域は、面内遅相軸方向および面内レターデーションの少なくとも一方が互いに異なり、かつ、前記第1位相差領域と第2位相差領域の境界線3のうち、隣接する2つの境界線間の距離Lが1mm〜50mmである、パターン光学異方性層10を有する光学フィルム。 (もっと読む)


【課題】面状が良く、機械的強度が高く、耐久性に優れ、光学補償フィルムに適した光学異方性を発現することのできる、特にIPSモードの液晶表示装置に好適に用いることのできる光学フィルムを提供すること。
【解決手段】一対の基板間に液晶層を有する液晶セルを備え、黒表示時に前記液晶層の液晶分子が前記基板の表面に対して平行に配向する液晶表示装置に用いる光学フィルムであって、セルロースエステルとアクリル樹脂とを相溶状態で含み、
前記セルロースエステルの質量平均分子量が75000以上であり、前記アクリル樹脂の質量平均分子量が80000以上であり、前記セルロースエステルと前記アクリル樹脂との質量比が70:30〜5:95であり、
下記式(I)及び(II)で定義されるRe及びRthが、波長590nmにおいて下記式(III)及び(IV)を満たす光学フィルム。
式(I) Re=(nx−ny)×d
式(II) Rth={(nx+ny)/2−nz}×d
式(III) 0nm≦Re≦10nm
式(IV) Rth≧30nm
式中、nxは前記光学フィルムのフィルム面内の遅相軸方向の屈折率であり、nyは前記フィルム面内の進相軸方向の屈折率であり、nzは前記光学フィルムの厚み方向の屈折率であり、dは前記光学フィルムの厚さ(nm)である。 (もっと読む)


【課題】高感度、高解像性(例えば、高い解像力、優れたパターン形状、小さいラインエッジラフネス(LER))、及び、良好なドライエッチング耐性を同時に満足したパターンを形成できる化学増幅型レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、及び、レジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 フェノール性水酸基と、フェノール性水酸基における水酸基の水素原子が置換基で置換されてなる基とを有し、かつ、下記(a)〜(c)を同時に満たす高分子化合物(A)を含有する、化学増幅型レジスト組成物。
(a)分散度が1.2以下
(b)重量平均分子量が2000以上6500以下
(c)ガラス転移温度(Tg)が140℃以上 (もっと読む)


【課題】良好な表面タック性を備え、支持体との剥離性に優れると同時に、パターン形成後の硬化層の反りが生じにくく、しかも耐折性及び難燃性にも優れた感光性組成物の提供。
【解決手段】
(A)酸変性エチレン性不飽和基含有ポリウレタン樹脂、(B)エラストマー及び/又は平均粒径が0.1〜5μmのゴム微粒子、(C)光重合開始剤、(D)熱架橋剤、及び(E)ホスフィン酸金属塩を含有する、感光性組成物。 (もっと読む)


【課題】絶縁性、耐折性、解像性、めっき耐性および難燃性の向上に加え、熱硬化時の反りの抑制、樹脂のガラス転移温度を低下させることなく表面タック発生を抑制した感光性組成物、フレキシブル配線基板などの提供。
【解決手段】酸変性のエチレン性不飽和基含有ポリウレタン樹脂および少なくとも2つのエポキシ基を有するエポキシ系熱架橋剤を含有し、該エポキシ系熱架橋剤がグリシジルオキシベンゼン環の部分構造を有し、かつ該エポキシ系熱架橋剤のエポキシ当量が300g/eqを超えることを特徴とする感光性組成物、感光性ドライフィルム、感光性積層体、フレキシブル配線基板、フレキシブル配線基板の製造方法、及び永久パターン形成方法である。 (もっと読む)


【課題】形成された硬化膜の耐久性、耐溶剤性及び未硬化部の現像性のいずれにも優れたネガ型或いはポジ型の感光性組成物、及び、該感光性組成物を含む記録層を備えた、画像部の耐刷性及び耐溶剤性と、非画像部の現像性に優れた平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】(A)下記一般式(I)で表される化合物を含むジオール成分とポリイソシアネート成分とを反応させて得られるポリウレタン、及び(B)感光性成分を含有する感光性組成物。一般式(I)中、Aは単結合又は炭素原子、水素原子、及び酸素原子から選ばれた原子を含んで構成される2価の連結基を表し、Bは一価の有機基を表す。R〜Rはそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表す。mは0〜3の整数を表し、nは0〜3の整数を表し、m+nが0となることはない。
(もっと読む)


【目的】ズーム等を制御する基板が故障した場合に,他の基板で代替動作する。
【構成】
ズーム制御CPU基板15には,切替スイッチ65が含まれており,切替スイッチ65を介してズーム・モータ41に制御信号が与えられる。ズーム制御CPU基板15が故障した場合には,フォーカス制御CPU基板16に含まれている切替スイッチ75の端子S31が接続される。すると,フォーカス制御CPU基板16からズーム・モータ41に制御信号が与えられる。ズーム制御CPU基板15が故障してもフォーカス制御基板16でズーム・モータ41の代替制御が実現できる。 (もっと読む)


【目的】水平方向の振れ補正と垂直方向の振れ補正とを並行して行う。
【構成】それぞれが独立しているV方向防振制御CPU基板59とH方向防振制御CPU基板60とのそれぞれにCPU101と111とが実装されている。基板59に実装されているCPU101によって防振レンズの垂直方向の補正が制御され,基板60に実装されているCPU111によって防振レンズの水平方向の補正が制御される。それぞれが独立しているCPU基板59および60によって,別々の方向の補正が行われるので,水平方向の振れ補正と垂直方向の振れ補正とを並行して行うことができる。 (もっと読む)


981 - 990 / 25,513