【課題】複雑形状の内部電極構造であっても作製が容易にでき、かつ基台の変形の少ない、優れた耐電圧特性を発揮する静電チャック提供する。
【解決手段】基台１と、この基台１の上面に形成された電極層２と、この電極層２を被覆するように前記基台１の上に、溶射により形成された上部絶縁層３とを具備してなる静電チャックであって、前記基台１のヤング率が６０ＧＰa以上のセラミックスから構成されてなり、かつ、前記電極層２がメッキ処理により形成されてなる。また、前記基台１と前記上部絶縁層３を構成する材料の２０〜３０℃における各々の平均の熱膨張係数の値の差が２×１０^-6／℃以下であり、かつ、前記基台１の厚みが２〜１０ｍｍ、前記上部絶縁層３の厚みが０．１５〜１．００ｍｍである。 （もっと読む）

【課題】弾性率が高く、厚みが薄く、軽量で、かつ温度制御の容易なチャックトップを有するウエハプローバを提供する。
【解決手段】シリコンウエハ６上に形成されたＩＣチップの電気特性を検査するウエハプローバにおいて、該ウエハプローバのチャックトップ部１を炭化珪素を強化材とし、かつシリコンをマトリックスとする金属−セラミックス複合材料で構成する。また前記複合材料中における炭化珪素の含有率を３０〜８０体積％とする。 （もっと読む）

【課題】 表面抵抗率が高く表面抵抗率の環境劣化の少ないセラミックス構造体を提供すること
【解決手段】 本発明は、セラミックス基材の表面の全面又は一部が、絶縁性コーティングで被覆されてなるセラミックス構造体である。セラミックスとしてアルミナ、窒化アルミ、窒化けい素、ガラスセラミックスなどの絶縁性セラミックスが用いられる。絶縁性コーティングの材料として、ポリイミド樹脂、フッ素樹脂、シリコーンなどの疎水性を有する材料を用いる。 （もっと読む）

【課題】 排ガス中のＶＯＣの捕集性が高く、かつマイクロ波によるＶＯＣの分解処理の効率が高いＶＯＣ処理装置およびＶＯＣ処理装置用のカートリッジを提供する。
【解決手段】 排ガスに含まれるＶＯＣを捕集し、高周波の照射によりＶＯＣを分解して処理するＶＯＣ処理装置であって、排ガスまたは非酸化ガスのいずれか一方を導入するガス導入部と、ガス導入部に接続され、導電性を有するフェルト状繊維層とＶＯＣを吸着する吸着材を含み通気性を有する吸着材層とを交互に積層して形成される積層体を、高周波を透過する容器に収納して形成され、ガス導入部により導入される排ガスに含まれるＶＯＣを吸着する吸着部と、高周波を発生させ、発生させた高周波を吸着部まで導き、吸着部に照射する高周波照射部と、吸着部に接続され、吸着部内の処理済ガスを排出するガス排出部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 真空環境下で使用される場合でも、堆積物の形成が少なく、位置決め精度や長距離駆動における耐久性が低下しない超音波駆動装置を提供する。
【解決手段】超音波モータ１０は、当接部１０ａを備えており、この当接部１０ａが摺接板４の駆動力伝達面４ａに対して当接した状態で配置されている。摺接板４の駆動力伝達面４ａは、中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．５μｍ以下であり、かつ３μｍ径以上のポアが１ｍｍ^２あたり１００００個以下であるセラミックス材料により構成されている。超音波モータ１０の両側には、当接部１０ａを間に挟むように、摺接板４の駆動力伝達面４ａをクリーニングするためのワイピング部材１３，１４が摺接板４の駆動力伝達面４ａに対して当接した状態で配備されている。 （もっと読む）

【課題】 大型のセラミックス部材を迅速且つ経済的に提供することは困難な状況になっている。
【解決手段】 比較的製作し易い材料によって形成された基材上に、セラミックス膜を製膜することによって多層構造体を構成する。セラミックス膜はプラズマ溶射、ＣＶＤ、ＰＶＤ或いは、ゾル・ゲル法等または溶射膜との組み合わせによる方法によって成膜される。 （もっと読む）

【課題】 ＳｉＣ，Ｓｉ−Ａｌからなり、炭化アルミの生成を防止した耐久性に優れる金属−セラミックス複合材料の製造方法を提供する。
【解決手段】 ＳｉＣ粉末と有機バインダとを含むプリフォーム１０と、溶融Ａｌに対して非透過性であり、溶融Ｓｉと反応することで透過性となる容器１１に固体Ａｌ１２を収容したものと、固体Ｓｉ１３とを炉内に設置して、Ｓｉの融点を超える温度に加熱する。こうして固体Ｓｉ１３を溶融させてプリフォーム１０中に浸透させ、ＳｉＣ／Ｓｉ複合材料１０ａを得る。一方で、容器１１に溶融Ｓｉ１３ａを浸透させて容器１１を溶融Ａｌ１２ａに対して透過性な容器１１ａに変化させ、その中の溶融Ａｌ１２ａを容器１１ａから流出させて、この溶融Ａｌ１２ａをＳｉＣ／Ｓｉ複合材料１０ａ中の溶融Ｓｉ１３ａと相互拡散させる。こうしてＡｌ_４Ｃ_３を生成させることなく、ＳｉＣ／Ｓｉ−Ａｌ複合材料を得る。 （もっと読む）

【課題】 優れた耐食性を備え、かつ溶射膜と基材との密着性にも優れた耐食性部材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 腐食性環境下で用いられる耐食性部材は、基材５３と、該基材５３表面の一部もしくは全部を被覆するセラミックスの溶射膜５２とを備えている。この溶射膜５２は、膜厚が５０〜５００μｍであり、基材５３から剥離した状態で、溶射膜５２全体の気孔率が１０％を超えるとともに、溶射膜５２の表面と基材５３側の剥離面との両方から、それぞれ表面粗さが０．５μｍに達するまで研磨したときの研磨後の溶射膜内部の気孔率が７％以下である。 （もっと読む）

【課題】高い精度の平面平行度を具備するリソグラフィ用マスクを提供すること。
【解決手段】支持基板５上に薄膜３を形成したマスクブランク１３と、穴１７、凹部１１を有する補強枠７を準備する。支持基板５側の所定の位置に金属箔１５を配置するか、もしくは、補強枠７側の所定の位置に金属箔１５を配置する。その後、支持基板５、金属箔１５、及び補強枠７側を重ね、支持基板５側、もしくは補強枠７側のいずれか一方、もしくは両方から加熱し、より好ましくは加熱及び加圧して金属箔１５を溶解させた後、冷却して固化させることにより、支持基板５及び補強枠７を接合する。 （もっと読む）

【課題】 圧電駆動部の端部における絶縁破壊の発生を抑制し、かつ、機械的強度を適切に保持した積層型圧電アクチュエータを提供する。
【解決手段】 アクチュエータ１０は、圧電セラミックス層１１と内部電極層１２とが交互に積層されてなる圧電駆動部２と、圧電セラミックス層１１どうしがその中央部で接合層１４により接合され、その外周部に圧電セラミックス層１１どうしが不連続となる不連続層１５が形成されてなる応力吸収層部３と、圧電不活性な保護層部４とを有している。接合層１４の中心から外周までの距離ｃと、内部電極層１２の中心から外周までの距離ａとを、０．７３≦ｃ／ａ≦０．９５、の関係が満たされるように設定する。 （もっと読む）