【課題】パターンの形成状態を高コントラストで検査可能にする。
【解決手段】カラーフィルタ基板４上に線状に形成されたシールライン５の形成状態を検査するパターン検査装置であって、シールライン５を撮影する検査カメラ２と、検査カメラ２の撮影領域を照明する照明光学系３と、を備え、照明光学系３によりカラーフィルタ基板４に照射される照明光の光線の光軸Ｌ_axに対する最大角度θ₁が検査カメラ２の画角θ₂の半角θ₂／２に略等しくなるようにしたものである。 （もっと読む）

【課題】汚染物質がマイクロレンズに付着することを防止することができると共に、マイクロレンズアレイの下面に配置する保護膜の寿命を延長することができるマイクロレンズアレイを使用したレーザ処理装置及び方法を提供する。
【解決手段】マイクロレンズアレイ２を４個の領域に分割し、各領域のマイクロレンズ４ａ〜４ｄを交互に使用して、基板を移動させつつ、レーザアニールする。使用するマイクロレンズ４ａ〜４ｄの順番を、往復移動方向（第１及び第２の方向）の外側のものから２個づつ耐用回数を超えるまで、順次使用していくようにすることにより、アニール時の蒸散物質を基板移動時の空気流により外部に排出することができ、保護膜に付着する量を可及的に低減する。 （もっと読む）

【課題】被露光体上を走査する光ビームの走査距離を短くして露光工程のタクトを短縮する。
【解決手段】一定方向に一定速度で搬送される被露光体４の搬送方向と交差する方向に一定の配列ピッチで一列に平行に並んだ複数のレーザビームに強度変調を与えて射出するパターンジェネレータ６と、パターンジェネレータ６から射出した複数のレーザビームを被露光体４上に一定間隔に並べて集光するｆθレンズ７と、ｆθレンズ７を射出した複数のレーザビームを被露光体４の搬送方向と交差する方向に回折させて、互いに隣接するレーザビームの間の領域を同時に往復走査する音響光学素子８と、を備え、音響光学素子８は、レーザビームの回折方向の軸が光軸を中心に被露光体４の搬送方向と直交する方向に対して一定角度だけ回転した状態に配設され、音響光学素子４の光射出側には、複数のレーザビームの０次回折光を遮断する遮光マスク２２が設けられている。 （もっと読む）

【課題】露光光をＰ偏光又はＳ偏光の直線偏光に変換する部材が複数本の棒状の偏光変換素子により構成されている場合に、露光パターン形成用領域に未露光の領域が残ることを防止できる露光装置、偏光変換部材及びこれらを使用した露光方法を提供する。
【解決手段】露光装置１は、露光光の照射位置に露光対象部材２を供給して前記露光対象部材上に形成された露光材料を連続的に露光する。露光装置１には、露光光を出射する光源１１、露光光を直線偏光させて透過させる偏光変換部材１５、及びマスク部１２が設けられている。偏光変換部材１５は、特定の直線偏光の露光光のみを透過させる複数個の棒状の偏光変換素子がその幅方向に接触し境界面が露光対象部材２の移動方向に対して傾斜するように配置されたものである。 （もっと読む）

【課題】露光パターンの基準パターンからのずれが発生しても、露光中にこのずれを検出して、露光パターンの位置ずれを防止することができ、重ね露光における露光パターンの精度を向上させることができるマイクロレンズアレイを使用したスキャン露光装置を提供する。
【解決手段】マイクロレンズアレイ２はその反転結像位置の６角視野絞り１２の一部を、６角視野絞りの開口面積より大きな円形絞り１８ａに変更する。スキャン露光装置は、複数個のマイクロレンズアレイ２により、マスクの露光パターンが基板１上に投影される。このとき、基板１上の画像をラインＣＣＤカメラにより検出し、基板上の第１層パターンを基準パターンとして、マスク３の露光パターンがこの基準パターンと一致しているか否かを検出する。この場合に、円形絞りは６角視野絞りよりも開口面積が広いので、基板上の画像を広範囲に観察できる。 （もっと読む）

【課題】画素数、絵素数及び／又は露光パターン形成用領域の大きさが異なる複数の露光対象部材を露光する場合においても、画素数、絵素数及び／又は露光パターン形成用領域の大きさに対応させてマスクを取り換える必要がない露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置１には、露光光源１１、コンデンサレンズ１４、マスク１２が設けられており、露光光源１１から出射した露光光をコンデンサレンズ１４及びマスク１２に透過させる。マスク１２と露光対象部材２との間の露光光の光路上には、露光対象部材２における露光光の照射領域の大きさを調節可能なズームレンズ１６が設けられている。露光装置１には、必要に応じて、フライアイレンズ１３、偏光変換素子１５が設けられている。 （もっと読む）

【課題】Ｐ偏光及びＳ偏光の直線偏光の露光光による露光を同時に行うことができる露光装置、露光用マスクを提供する。
【解決手段】露光装置１には、光源１１、コンデンサレンズ１４、及びマスク１２が設けられており、露光光源１１から出射した露光光をコンデンサレンズ１４及びマスク１２に透過させる。そして、露光装置１には、必要に応じて、フライアイレンズ１３が設けられている。マスク１２は、その光透過領域に、Ｐ偏光の直線偏光のみを透過させる複数個の第１の偏光変換素子１２２ａと、Ｓ偏光の直線偏光のみを透過させる複数個の第２の偏光変換素子１２２ｂとが設けられており、第１の偏光変換素子１２２ａ及び第２の偏光変換素子１２２ｂは、光透過領域に交互に配置されている。第１及び第２の偏光変換素子１２２ａ，１２２ｂは、例えば長尺の部材であり、１方向に延びる幅方向に交互に配置されている。 （もっと読む）

【課題】レーザビームの照射エネルギーの維持管理が容易で、且つ照射パターンの形状乱れを抑制する。
【解決手段】ＴＦＴ基板１０上に形成されたアモルファスシリコン膜に複数のレーザビームＬｂを照射してアニール処理するレーザアニール装置であって、ＴＦＴ基板１０上の被アニール領域の形状に相似形の複数の開口を形成したマスク３と、マスク３の複数の開口を夫々通過した複数のレーザビームＬｂを、一面に形成した複数のマイクロレンズを介してＴＦＴ基板１０上に集め、アモルファスシリコン膜に一定の光エネルギーを付与するマイクロレンズ基板４と、半円柱状の形状を成し、マイクロレンズ基板４を挟んでその両縁部の位置に軸心を略平行にして対向配置され、頂部がマイクロレンズの頂部の位置よりもＴＦＴ基板１０側に突出した一対のガイド２５と、一対のガイド２５間に移動可能に張設されレーザビームＬｂを透過するフィルム２２と、を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】小型マスク連続露光において、光源からの光がフォトマスクの開口を透過し、基板上に照射される局所的な光の照度分布が、基板の搬送方向と、搬送方向に直交する方向とで略同じとなる露光を実現できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、光源と、光源と基板との間に配置されるフォトマスクと、フォトマスク上の照射領域４０に照射される光の照度分布を一様にするフライアイレンズ６とを備える。照射領域４０は、幅が縦の長さの１〜１．５倍である。 （もっと読む）

【課題】基板を連続搬送しながら、基板搬送方向と直交する方向に並べた小型のフォトマスクを用いて露光を行う小型マスク連続露光方式において、露光中の基板とフォトマスクとの位置合わせを高精度に行うことができる露光装置を提供する。
【解決手段】露光ヘッド３の上流側に傾き観察用の撮像装置８が配置されている。撮像装置８は、基板１０上の露光領域１１内に形成されている遮光層（ブラックマトリックスまたは電極層）を撮影する。撮像装置８によって撮影された画像から、基板搬送方向（ｙ軸）に対する遮光層の傾きが求められる。駆動装置１２は、フォトマスク４を回転させて、ｙ軸に対する画素形成用パターン５の対する傾きを、ｙ軸に対する遮光層の傾きに一致させる。 （もっと読む）