【課題】シート状部材の表面上への材料の塗布及び乾燥を効率よく行い、光学フィルム用基材及びフレキシブル基板の表面に高い生産効率で薄膜を形成できる薄膜塗布乾燥装置及び薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】薄膜塗布乾燥装置１は、筐体１０の内部に、貯留部１３内に貯留された液状又はペースト状の材料３の一部に進入して筐体１０の内部を第１の空間１６と第２の空間１７とに区画する隔壁１５を有する。搬送部（搬送ローラ１４）は、シート状部材２を第１の空間１６から貯留部１３内の材料３中に浸漬させた後、第２の空間１７にてシート状部材２を材料３から取り出すように、シート状部材２を搬送する。第１の空間１６内及び第２の空間１７内は、夫々第１及び第２の排気部材４により排気され、第２の空間１７に取り出されたシート状部材２は、表面に付着した材料３が第２の空間１７で乾燥される。 （もっと読む）

【課題】搬送時及び露光時のフィルムの傷つき及び振動を防止することができると共に、連続的に搬送中に露光処理することを可能とし、生産性を向上させることができるフィルムの露光装置を提供する。
【解決手段】フィルムの露光装置１は、感光性材料が塗布されたフィルム２ａをその長手方向に搬送する１対の搬送ローラ１１と、搬送ローラ１１間のフィルム２ａの下方に配置されフィルムを支持するステージ１０と、ステージ１０上のフィルム２ａに対して露光光を照射して露光する光源１３と、を有する。ステージ１０は、多孔質材料からなる板状の基板１０ｆと、基板１０ｆの多孔質部から空気を上方に吹き上げてフィルムを基板に非接触で支持する噴気部材１０ａ、１０ｄと、基板１０ｆに設けられた吸気孔１０ｅを介して基板１０ｆの表面から空気を吸引する吸気部材と、を有する。 （もっと読む）

【課題】アモルファスシリコンのアニーリングに高調波のＹＡＧレーザ光を使用した場合においても、安定して大きな結晶粒径のポリシリコンが得られるＹＡＧレーザアニーリング装置及びＹＡＧレーザ光によるアニーリング方法を提供する。
【解決手段】ＹＡＧレーザアニーリング装置１は、レーザ光源２からＰ偏光又はＳ偏光のＹＡＧレーザ光を出射する。レーザ光の光路上には、偏光ビームスプリッタ３と、λ／４板４と、部分透過ミラー５と、レーザ光の位相を遅らせる位相遅延部６とがこの順に配置されている。そして、レーザ光源２から出射した１パルスのレーザ光を部分透過ミラー５及び位相遅延部６により複数個のパルスに分割して、アニーリング用のレーザ光として順次取り出し、レーザ光の照射時間を延長するとともに、アモルファスシリコンを徐々に冷却し、結晶粒径を拡大する。 （もっと読む）

【課題】大面積の被露光体における非周期性のパターンの露光を高解像力にて行う。
【解決手段】被露光体の面及びフォトマスクの面に平行な面内を矢印Ｂ方向に移動可能に形成されレンズ組立体１１が、フォトマスクのマスクパターンの等倍正立像を被露光体表面に結像可能に構成した複数のレンズ群１５を矢印Ｂ方向と交差する方向に一定の配列ピッチで並べて複数のレンズ列１６を形成し、且つ各レンズ列１６の各レンズ群１５が矢印Ｂ方向に対して斜めに交差する軸線Ｏ−Ｏに平行に並ぶように各レンズ列１６を矢印Ｂ方向と交差する方向に相互に一定量だけシフトさせて形成すると共に、互いに隣接する端部１１Ａａ，１１Ｂａ，１１Ｂｂ，１１Ｃａを軸線Ｏ−Ｏに平行に切除した構成の複数の単位レンズ組立体１１Ａ〜１１Ｃを各レンズ列１６のレンズ群１５が矢印Ｂ方向と交差方向に一定の配列ピッチで並ぶように一列に並べた構成を有するものである。 （もっと読む）

【課題】ｉ層にて太陽光により励起された電子の流れを、ｐ層又はｎ層に移行する際の障壁を小さくして、電流をミニバンドから取り出しやすくした太陽電池を提供する。
【解決手段】ｎ層１２と、このｎ層１２の上に形成されたｉ層１３と、このｉ層１３の上に形成されたｐ層１４に対し、太陽光が入射する。ｉ層１３は真性半導体層であり、ｎ層１２及びｐ層１３は夫々ｎ型及びｐ型の半導体層であるが、いずれも、量子ドット層である。従って、ｉ層１３で励起された電子は、ｎ層１２も含めて、量子ドット層のミニバンドを伝導して、電極に流れる。 （もっと読む）

【課題】同種の基板の基板搬送方向と交差方向にオフセットした位置に光を照射する場合にも、移動中の基板に対する追従性を良好にする。
【解決手段】基板の搬送方向と交差する方向に一定の配列ピッチで形成され、光を通過させる複数のマスクパターン２と、基板上に設けられた複数のパターンの基板搬送方向と交差方向の配列ピッチの整数倍に等しい間隔を有して基板搬送方向に平行に形成された一対の細線４ａ，４ｂを備えた構造をなし、複数のマスクパターン２に対して基板搬送方向と反対側の位置に基板搬送方向に相互に一定距離はなれて配置されると共に、一対の細線４ａ，４ｂ間に予め設定された基準位置が基板搬送方向と交差する方向に予め定められた距離だけ相互にずれた状態に形成された複数のアライメントマーク４と、を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】結晶粒の成長方向を多結晶化すべき位置に応じて任意に調整することができ、その位置において、結晶粒の成長方向が一定の方向に揃った低温ポリシリコン膜を得る。
【解決手段】マスク３には、一方向に延びるレーザ光の遮光領域３１と透過領域３２とが、前記一方向に垂直の方向に隣接するように設けられている。このマスク３を介してマイクロレンズ５によりレーザ光をチャネル領域形成予定領域７に照射する。透過領域３２を透過したレーザ光が、ａ−Ｓｉ：Ｈ膜に照射されてこの部分をアニールして多結晶化する。次に、マスク３を取り外して、予定領域７の全体にレーザ光を照射すると、既に多結晶化している領域は融点が上昇していて溶融せず、アモルファスのままの領域が溶融凝固して多結晶化する。 （もっと読む）

【課題】複数の波長のレーザ光をそれぞれにパルス幅を延ばした上で出射させることができるようにする。
【解決手段】基本波と共に第２高調波，第３高調波を含むレーザ光を、ダイクロイックミラー３１，３２によって波長毎のレーザ光Ｌ１〜Ｌ３に分離する。それぞれを、偏光ビームスプリッタ５１（Ｌ１）〜５１（Ｌ３）によってＰ偏光成分Ｌ１Ｐ〜Ｌ３ＰとＳ偏光成分Ｌ１Ｓ〜Ｌ３Ｓとに分離する。Ｓ偏光成分Ｌ１Ｓ〜Ｌ３Ｓを、一対の全反射ミラー４２（Ｌ１）〜４２（Ｌ３），４３（Ｌ１）〜４３（Ｌ３）によって、Ｐ偏光成分Ｌ１Ｐ〜Ｌ３Ｐに直交する方向に屈折させる。そして、Ｐ偏光成分Ｌ１Ｐ〜Ｌ３ＰとＳ偏光成分Ｌ１Ｓ〜Ｌ３Ｓとを、偏光ビームスプリッタ５２（Ｌ１）〜５２（Ｌ３）で波長毎に同一光軸上に合成する。更に、偏光成分を合成した波長毎のレーザ光Ｌ１〜Ｌ３を、ダイクロイックミラー３３，３４によって同一光軸上に合成して出力する。 （もっと読む）

【課題】アモルファスシリコン膜をレーザアニールして、低温ポリシリコン膜を形成する際に、ＹＡＧレーザのような低コストのレーザ光源装置を使用しても、アモルファスシリコン膜に対して、十分なエネルギを与えて効率的に相転移させることができるレーザアニール方法及び装置を提供する。
【解決手段】ＹＡＧレーザ光源１１からの基本波を、波長変換器１２，１３で第２高調波及び第３高調波に変換し、第３高調波のレーザ光を被照射体１８に照射すると共に、基本波は、約３ｍの第３の光学系２１及び約６ｍの第４の光学系２２を経由させ、約１０ｎｓ及び約２０ｎｓ遅延させて、被照射体１８に照射する。これにより、第３高調波で溶融したアモルファスシリコン膜の溶融部は基本波がＰ波とＳ波とに分割されて照射されるので、アモルファスシリコン膜には吸収されないＹＡＧ基本波が溶融Ｓｉに吸収されてその加熱に有効に使用される。 （もっと読む）

【課題】配向状態の異なる二種類のストライプ状の配向領域を１回の配向処理により形成して配向処置工程のタクトを短縮する。
【解決手段】細長状の複数の開口を一定の配列ピッチで形成した第１のマスクパターン群６Ａと、該第１のマスクパターン群６Ａに平行に設けられ、細長状の複数の開口を前記複数の開口の配列ピッチと同ピッチで形成した第２のマスクパターン群６Ｂとを有するフォトマスク７に近接対向させて、配向膜が塗布された基板４を前記第１及び第２のマスクパターン群６Ａ，６Ｂに交差する方向に移動し、前記フォトマスク７の第１及び第２のマスクパターン群６Ａ，６Ｂに入射角度θが異なるＰ偏光を照射し、前記配向膜に配向状態が異なるストライプ状の第１及び第２の配向領域を交互に形成するものである。 （もっと読む）