【課題】液晶カラーフィルタ等の平板上に存在する微小突起物のみを効率よく研磨することができる微小突起研磨装置を提供する。
【解決手段】平板状ワークの微小突起部分に研磨テープＴを接触させて研磨する微小突起研磨装置２であって、微小突起部分に対向して接近離間可能に設けられた対物レンズ８と、この対物レンズ８を介して微小突起部分を拡大観察する光学手段７と、微小突起部分と対物レンズ８との間で、対物レンズ８の光軸Ｌと交差して研磨テープＴを走行するテープ移送機構２０と、対物レンズ８の光軸Ｌ上で、研磨テープＴを微小突起部分に接触させる押圧手段１８とを備える。 （もっと読む）

【課題】インクの着弾位置制御を容易にしてインクの塗布位置精度を向上する。
【解決手段】複数のピクセル９が所定間隔で並べて形成されたカラーフィルタ基板７の表面と、カラーフィルタ基板７の表面に対して傾斜させてピクセル９の並びと同方向に略同じ間隔で並べて配設された細長状の複数のインク吐出ノズル１８のノズル先端部１８ａとを顕微鏡の視野２０内に同時にとらえて撮像し、撮像された画像を処理してカラーフィルタ基板７に形成されたピクセル９のその並びと同方向側に位置するエッジ９ａとインク吐出ノズル１８の先端部１８ａの軸線との間の水平距離ｄを検出し、該距離ｄが所定値となるようにインク吐出ノズル１８の位置を自動調整し、インク吐出ノズル１８の先端部１８ａからカラーフィルタ基板７に対してカラーインク２２を吐出してピクセル９に塗布するものである。 （もっと読む）

【課題】大面積の被測定物上の各部の高さ測定を短時間に行なう。
【解決手段】カラーフィルタ基板７を一定方向に搬送し、カラーフィルタ基板７の搬送方向及び該搬送方向と交差する方向に沿ってマトリクス状に配列した複数のビーム光をカラーフィルタ基板７に向けて照射し、複数のビーム光のうち搬送方向に交差する各列のビーム光を列毎にカラーフィルタ基板７の表面近傍の異なる高さ位置に集光させ、各列の各ビーム光により照射されたカラーフィルタ基板７上の各測定点からの反射光の輝度を検出し、該検出された複数の輝度のうちから、カラーフィルタ基板７が搬送されることにより同一の測定点が各列のビーム光により異なるタイミングで照射されて得られた複数の輝度を測定点毎に抽出し、抽出された複数の輝度に基づいて各測定点における反射光のピーク輝度を演算し、各ピーク輝度により各測定点の高さを求めるものである。 （もっと読む）

【課題】撮像位置の調整を容易にして被露光体の基準パターンと露光パターンとの重ね合わせ精度を向上する。
【解決手段】載置面に被露光体８を載置して所定方向に搬送する搬送手段１と、搬送手段１の上方に配設され、光源２から入射する光Ｌ_１が被露光体８方向に反射されるように傾動されて露光パターンを生成すると共に、被露光体８方向から入射する可視光Ｌ_２が光源２から光Ｌ_１の入射方向と異なる方向に反射されるように傾動される複数のマイクロミラーが被露光体８の搬送方向及び該搬送方向と交差する方向に沿ってマトリクス状に配置されたＤＭＤ３、ＤＭＤ３で生成された露光パターンを被露光体８上に投影する投影レンズ４と、ＤＭＤ３によって被露光体８方向から入射する可視光Ｌ_２が反射される方向に配設され、被露光体８の表面を撮像する撮像手段５と、各構成要素を制御する制御手段７と、を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】無駄なデータの取得を省略して測定時間を短縮可能とする。
【解決手段】対物レンズの光軸方向に移動可能に設けられた結像レンズの移動範囲の下限位置と上限位置との間に高さ判定基準位置を予め設定し、結像レンズが移動範囲内にあるとき、対物レンズの結像位置と光学的に共役の関係に配置されたビームスポット生成手段により複数のビームスポットを生成し、対物レンズにより上記複数のビームスポットを被測定物上に投影し、上記結像レンズを移動しながら所定の時間間隔で前記被測定物上を撮像して被測定物上の複数のビームスポットからの各反射光の輝度を検出し、上記下限位置と高さ判定基準位置との間で上記反射光の全てに最大輝度が検出されたときには被測定物の微小高さは基準値内と判定し、上記下限位置と高さ判定基準位置との間で上記反射光の一部に最大輝度を示さないものが検出されたときには被測定物の微小高さは基準値外と判定する。 （もっと読む）

【課題】被測定物上の凹凸を測定するのに要する時間を短縮可能とする。
【解決手段】対物レンズ６により被測定物５上の所定の測定位置に細線状の投影光を投影可能な顕微鏡１と、顕微鏡１又は被測定物５の高さを対物レンズ６の光軸方向に変化させる変位手段２と、対物レンズ６の結像点と光学的に共役の関係に配設され、対物レンズ６を介して被測定物５上の投影光の複数枚の画像を撮像する撮像手段３と、変位手段２の駆動を制御すると共に、撮像手段３により撮像された投影光の各画像にて、投影光に交差する方向に分割されて設定された複数の測定領域毎にコントラストを測定し、測定領域毎に最大のコントラストを示した顕微鏡１又は被測定物５の高さの変化量を抽出し、該高さの変化量に基づいて被測定物５上の投影光１５に沿った高さ分布を求める制御手段４と、を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】一次元画像に基づいて二次元画像を作成することなく露光位置補正の制御及び露光光の照射のタイミングの制御をすることによって、露光工程の時間短縮を可能とする。
【解決手段】搬送方向とほぼ直交する方向に並べられた複数個の受光素子を有する第１の撮像手段４と、搬送方向とほぼ平行に並べられた複数個の受光素子を有する第２の撮像手段５と、フォトマスク１２を搬送方向とほぼ直交する方向に移動してフォトマスク１２による露光位置を補正するアライメント手段６と、第１の撮像手段４によりカラーフィルタ基板９の露光位置補正用の第１の基準位置が検出されると、それに基づいてアライメント手段６の駆動を制御し、第２の撮像手段５によりカラーフィルタ基板９の露光光の照射タイミング抽出用の第２の基準位置が検出されると、それに基づいて露光光の照射タイミングを制御する制御手段８と、を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】上記事情を鑑みてなされたものであって、レーザ干渉計のレーザ光路への温度影響を低減させることにより、構造が簡単で、安定した光学的測長システムを供給するものである。
【解決手段】発熱部を有する光学的測長機本体と、該光学的測長機本体を内部に配置したチャンバと、該チャンバ内に下降流の空気を供給する装置とを備えた光学的測長システムにおいて、前記発熱部を収納し、下端部が下方に向かって開口し、上端部が前記下端部の開口部より小さく開口するカバーと、該カバーの上端部の開口部に接続され、該カバー内の空気を前記チャンバ外に排出する排気手段と、を備えたことを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】表示基板の多数の画素に対するブラックマトリクスの形成精度を向上する。
【解決手段】表示領域の外側に該表示領域の縁部に沿って露光位置補正用の参照パターンを直線状に形成したポリシリコンＴＦＴ基板６とブラックレジストを塗布したブラックマトリクス用基板１０とを重ね合わせた被露光体７を上記参照パターンと平行に一定速度で搬送する搬送手段１と、上記被露光体７の参照パターンに対応した部分にレーザ光を照射し、当該部分のブラックレジストを除去して窓を形成するレーザ光源３と、該窓を通して観察される上記参照パターンとフォトマスク１４に予め設けられたアライメントマークとを撮像する撮像手段４と、上記参照パターンと上記アライメントマークとの間の距離が所定値となるようにフォトマスク１４を変位させるアライメント手段５と、を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】構造が簡単であり、ステップ露光や連続露光中にフォトマスクの汚染を防止して、適切な露光を行える近接露光装置を供給する。
【解決手段】近接露光装置１において、フォトマスク４下面とレジスト膜２ｂの上面との間隙に気体を供給し、このフォトマスク４の下面の、一方の端側から他方の端側に向けて、第１の気流を生じさせると共に、このフォトマスク４の端側から、この４の外側に向けて、前記第１の気流の方向と反対する方向の第２の気流を生じさせることを特徴とする。 （もっと読む）