【課題】 感光性樹脂を塗布した基板の基準パターンに対する露光パターンの重ね合わせ精度を向上する。
【解決手段】 透明基材２及び該透明基材２の一面に形成された遮光膜３からなるフォトマスク１であって、前記遮光膜２に一方向に並べて形成され、露光光が通る複数のマスクパターン４と、前記遮光膜３に前記複数のマスクパターン４の並び方向の側方に形成され、対向して配設されるカラーフィルタ基板の表面を観察可能とする覗き窓５と、を設けたものである。 （もっと読む）

【課題】 ブラックマトリックスと着色層との重なり部分における盛り上がりを小さく抑えてカラーフィルタの表面平坦性を高め、カラーフィルタの精度を向上させる。
【解決手段】 カラーフィルタの製造方法は、ブラックマトリックスを形成した透明基板（基板）Ｗ上に着色層を塗布した後、投影露光装置１を用いて投影レンズ４ｂを通してフォトマスク７の開口部７ａのパターンを着色層に露光することにより着色したフィルタを透明基板Ｗ上に形成するにあたり、投影露光装置１が露光光学系４に光均一化手段４ａを備え、光均一化手段４ａを通した露光光を投影レンズ４ｂによって透明基板Ｗに照射して着色層に露光する際に、該投影レンズ４ｂと露光する透明基板Ｗの表面までの距離が投影レンズ４ｂの焦点距離より３５０〜７００μｍだけ短いあるいは長い距離で露光する構成とされている。 （もっと読む）

【課題】 基板面の歪みの発生を抑制して均一な露光を可能にする。
【解決手段】 上面８が平坦に形成され、該上面８に開口して圧縮気体を外部に吹き出す多数の吹出孔２及び外部から気体を吸引する多数の吸引孔３を設けて基板４を非接触で支持する基板支持体１２と、基板支持体１２の多数の吹出孔２に圧縮気体を供給する供給管１３と、基板支持体１２の多数の吸引孔３を通して吸引された気体を排気する排気管１４と、を備え、基板支持体１２上の基板４に対して気体を吹き出すと共にその気体を吸引して基板支持体１２の上面８と基板４との間に所定の厚みの気体層９を生成して基板４を浮上させるものであって、排気管１４の途中に設けられ、排気流量を調整すると共に外気を導入可能とするバルブ１５と、バルブ１５を制御して外気の導入量を調整し、吸引孔３の内部の圧力を所定の圧力に維持する圧力調整ユニット１６と、を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】 基板の温度調整を的確に行って基板における所定の露光領域に均質に、かつ効率的に露光し、装置の構成を簡単にして、その所要設置空間も小さくする。
【解決手段】 露光装置は、基板搬送手段によって一定方向に搬送される基板Ｗに対して、露光領域２７において露光光源からの露光光を露光光学系を通して照射し、基板Ｗ上に所要の露光パターンＰを形成する露光ヘッドを有し、露光領域２７を間にして基板Ｗの搬送方向における上流側と下流側の位置に、基板Ｗの下側へ温度調整された気体を単位パッド（パッド部）２２から噴出させる気体噴出孔３０と単位パッド２２，２２間の凹部２２ａから噴出気体を吸引する気体吸引孔２９を備えて基板Ｗを浮上させた状態で支持する基板支持パッド１１が配置された構成とされている。 （もっと読む）

【課題】 短冊状のフォトマスクに対して照射する露光光の利用効率を向上する。
【解決手段】 カラーフィルタ基板１１を上面１３ａに載置するステージ１３と、前記ステージ１３の上方に配設され、該ステージ１３の上面に平行に短冊状のフォトマスク５を保持可能としたマスクステージ６と、前記マスクステージ６に保持された前記フォトマスク５に対して露光光を照射する光源２と、を備え、前記光源２から放射された露光光を前記フォトマスク５を介して前記カラーフィルタ基板１１上に照射して所定位置に所定の露光パターンを形成する露光装置であって、前記光源２とマスクステージ６との間の光路上に、前記光源２から放射された露光光の光束の断面形状を前記短冊状のフォトマスク５の形状に合わせて整形するシリンドリカルレンズ１４を配設したものである。 （もっと読む）

【課題】 被露光体に対する露光処理時間を短縮する。
【解決手段】 カラーフィルタ基板６を上面に載置して所定方向に搬送する搬送手段１と、前記搬送手段１の上方に配置され、短冊状に形成されてその長手方向に沿って所定形状の多数のマスクパターン８を一定間隔で形成し、前記短冊状の長手方向の中心軸が前記搬送手段１の上面に平行な面内にて搬送方向と直交する方向に沿ってシグザグとなるように並べられた複数のフォトマスク２と、を備え、上記複数のフォトマスク２に対して露光光を同時に照射して、上記各フォトマスク２による単位露光パターン列を連ねて一連の露光パターン列を形成するものである。 （もっと読む）

【課題】 被露光体に形成された基準パターンに対する露光パターンの重ね合わせ精度を向上する。
【解決手段】 シリコン基板１１上に設けられ、入射する露光光に強度変調を与えて射出するマイクロミラーデバイス３と、シリコン基板１１上にてマイクロミラーデバイス３の搬送方向先頭側の部分に設けられ、カラーフィルタ基板９上の基準パターンを撮像する撮像手段４と、搬送手段１とマイクロミラーデバイス３及び撮像手段４との間に配設され、上記カラーフィルタ基板９上のブラックマトリクスのピクセルの像を撮像手段４の受光面に結像すると共に、マイクロミラーデバイス３からの射出光をカラーフィルタ基板９上に投影する投影レンズ５と、撮像手段４で撮像された上記ピクセルに予め設定された基準位置を検出し、該基準位置を基準にしてマイクロミラーデバイス３の駆動を制御する制御手段７と、を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】 搬送方向に設定された複数の露光領域の外部にて互いに隣接する露光領域の間の部分に露光パターン列が形成されるのを防止する。
【解決手段】 搬送手段１の上方に配設され、カラーフィルタ基板８の搬送方向Ａに沿って所定間隔で設定された複数の露光領域と同じ数だけ一定間隔でマスクパターン列を設けたフォトマスク１１を載置して、搬送方向Ａと反対方向Ｂに移動可能としたマスクステージ２と、カラーフィルタ基板８に対する露光期間中常時点灯し、上記複数のマスクパターン列の一つを照射する露光光源３と、フォトマスク１１のマスクパターン列をカラーフィルタ基板８の露光領域に投影する投影レンズ４と、複数の露光領域の各搬送方向の先頭端部を検出するとマスクステージ２を所定速度で移動させて上記マスクパターン列を切り換える制御手段６と、を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】電子回路基板上に形成された、複雑で細い配線の断線を容易に補修することができ、補修部分の薄膜金属の厚さを十分なものにすることができると共に、補修部分以外に対する影響が少ない電解メッキによる電子回路基板の配線補修用装置
【解決手段】断線等の生じた電子回路基板の配線パターンの該断線部分Ｍを含む所定の範囲に紫外光硬化性樹脂を供給してから、該紫外光硬化性樹脂を硬化させ、その後、前記被補修箇所上の前記硬化された樹脂の一部を除去してから、該除去された樹脂の部分にアノード１４を内蔵するディスペンサーノズル１５を介して電解液を供給して後、前記断線部Ｍの端面とアノード１４との間に電圧を印加することにより、前記断線部Ｍの端面と該アノード１４の間で電解メッキを行うものである。
（もっと読む）

【課題】 感光性物質を塗布した透明なガラス基板を透過して下側に抜けた露光光が反射されてガラス基板側に戻されるのを防止する。
【解決手段】 感光性物質を塗布したカラーフィルタ基板７を上面１ａに載置し、該カラーフィルタ基板７上に予め設定された露光領域に対応する箇所に上下方向に貫通する開口部９を設けたステージ１と、前記ステージ１の上面１ａに平行な方向に該ステージ１に対して相対的に移動可能とされ、前記カラーフィルタ基板７の露光領域に露光光を照射して所定の露光パターンを形成する露光光学系２と、を備えた露光装置であって、前記ステージ１の開口部９の下方にて、前記露光光学系２の光路上に前記カラーフィルタ基板７を透過して下側に抜けた前記露光光を前記カラーフィルタ基板７側とは異なる方向に反射する反射ミラー５を設けたものである。 （もっと読む）