【課題】インクの無駄な消費を防止でき、小型で保管管理の容易なインクカートリッジを製造する。
【解決手段】両端部が開口したガラス管２の一部を加熱しつつ、該ガラス管２の長さ方向に引っ張って先端部がテーパ状に細くなったニードル管１を形成する工程と、前記ニードル管１を支持するカートリッジ部材４に該ニードル管１を組み付ける工程と、前記ニードル管１の後端開口部１ｂからその内部にインク７を所定量だけ充填する工程と、を行なうものである。 （もっと読む）

【課題】光配向膜に配向方向が異なる複数の配向領域を容易に分割形成する。
【解決手段】電極を形成した基板１上に配向方向が光の照射方向に応じて可逆的に変化する光配向膜２を形成した液晶表示用基板を使用し、前記光配向膜２の全面に光を所定方向に照射して、その全面を同一方向に配向する第１の配向処理工程と、複数の開口部３を所定間隔で設けた露光マスク４を介して前記光配向膜２に光を前記第１の配向処理工程の照射方向と異なる方向に照射して、その照射領域を前記第１の配向処理工程の配向方向と異なる方向に配向する第２の配向処理工程と、を行ない、配向方向が異なる複数の配向領域を分割形成する。 （もっと読む）

【課題】被測定物上に測定点を指定してその測定点の高さを高速で測定する。
【解決手段】光源２からの光ビームが被測定物１方向に反射するように選択されて個別に傾く複数のマイクロミラーをマトリクス状に配列した測定点選択手段３と、被測定物１方向に反射された光ビームに含まれる高次回折光を処理する高次回折光処理手段４と、被測定物１上に指定された測定点で反射されて戻る光ビームを選択されたマイクロミラーを介して検出する光検出手段６と、被測定物１を対物レンズ５に対して相対的にその光軸方向に変位させ、その変位量を検出して出力する変位手段７と、光検出手段６で検出された光の輝度及び変位手段７より入力した変位量のデータから最大輝度値を示す変位量を被測定物１の上記測定点の高さとして求める制御手段８とを備えたものである。 （もっと読む）

【課題】複雑な欠陥形状にあわせてレーザ光のビーム形状を多様に整形可能にして、且つ、回折レーザ光の影響を排除して所定の形状に整形されたビーム形状のレーザ光を液晶表示用カラーフィルタやＴＦＴ基板等の被補修物の欠陥部に効率よく照射することが容易に行えるレーザ加工装置。
【解決手段】レーザ発振器２と、レーザ発振器２から出力されたレーザ光のビーム形状を整形するビーム形状整形手段３と、ビーム形状整形手段３によってビーム整形されたレーザ光を被加工体に照射するレーザ光学系４とを有するレーザ加工装置であって、前記ビーム形状整形手段３は、それぞれ角度が制御可能なミラーを、マトリックス状に複数配置したビーム形状整形手段であり、前記レーザ光学系４は、リレーレンズユニット４ａと、対物レンズユニット４ｂとを備えた光学系である。 （もっと読む）

【課題】パターンの欠陥部に塗布された塗布材を短時間に確実に硬化させる。
【解決手段】上面に所定形状の開口部１０を設け、パターンを形成したＴＦＴ液晶基板７を水平に保持するステージ１と、前記ステージ１の上方に配設され、水平・垂直の三次元方向に移動して前記ＴＦＴ液晶基板７のパターンの欠陥部を拡大観察する観察光学系２と、前記ステージ１の開口部１０内に配設され、待機位置から上昇して前記ＴＦＴ液晶基板７の裏面に面接触し、前記パターンの欠陥部に塗布された修正材を加熱して硬化させる加熱手段６Ａ，６Ｂと、を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】構造が簡単なオートフォーカス装置により、被測定物に対して撮像手段を最適フォーカス位置に迅速に合わせる。
【解決手段】被測定物７に対向するレンズユニット８の対物レンズ８ａを介して被測定物７の像を撮像するＣＣＤカメラ９と、ＣＣＤカメラ９を前記対物レンズ８ａの光軸方向に変位させる駆動機構５と、ＣＣＤカメラ９で撮像された前記被測定物７の像に基づいて駆動機構５を駆動制御する制御手段６と、レンズユニット８の光軸方向で結像位置が異なる二つのマスク１５、１６の投影パターン２６ａ、２６ｂを被測定物７の測定面７ａに投影する投影光学系３を備え、制御手段６によりＣＣＤカメラ９で取得された二つの投影のパターン２６ａ、２６ｂのコントラストの大小を比較し、このコントラストの大小関係が所定の範囲となるようにＣＣＤカメラ９を変位制御するものである。 （もっと読む）

【課題】特定波長のレーザ光の選択を瞬時に行なえるようにすると共に、他の光学装置に対するレーザ光の光軸合わせを容易にする。
【解決手段】単一波長のレーザ光を発生するレーザ発振ユニット２と、単一波長のレーザ光を波長変換して複数波長のレーザ光を出力する波長変換ユニット３と、複数波長のレーザ光を第１及び第２のレーザ光Ｌ₁，Ｌ₂に分離して射出する波長分離ユニット４と、分離されたレーザ光Ｌ₁，Ｌ₂の各光路Ｒ₁，Ｒ₂の遮断と開放を同時に実行し、レーザ光Ｌ₁，Ｌ₂から特定波長のレーザ光を選択して出力する波長選択ユニット５と、分離されたレーザ光Ｌ₁，Ｌ₂の各光路Ｒ₁，Ｒ₂を同一の光軸Ｒ₃に合致させると共に、該光軸の合致されたレーザ光の出力方向を変位可能とする出力光学ユニット６と、を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】被露光体にその搬送方向に沿って設定された複数の露光領域の外部にて互いに隣接する露光領域の間の部分が露光されるのを防止する。
【解決手段】カラーフィルタ基板１を載置して搬送するステージ５と、カラーフィルタ基板１に近接対向させてフォトマスク１４を保持するマスクステージ６と、露光期間中常時点灯し、フォトマスク１４に露光光を照射する光源７と、フォトマスク１４に照射する露光光の輝度分布を均一にするフォトインテグレータ８と、フォトマスク１４に照射する露光光を平行光にするコンデンサーレンズ９と、フォトインテグレータ８の端面像をコンデンサーレンズ９の手前側に結像する結像レンズ１０と、結像レンズ１０の結像位置近傍に配設され、カラーフィルタ基板１の移動により複数の露光領域２がフォトマスク１４の下側を順次通過するのに同期して露光光の照射及び遮断切換えをするシャッタ１１と、を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】反射率の異なる被測定物上の測定点の高さ測定を高精度に行なう。
【解決手段】光源１と、対物レンズ２と、マイクロミラーを有する測定点選択手段３と、被測定物７の結像点と光学的に共役の関係に配置され、被測定物７上の測定点Ｐからの反射光を検出する光検出手段４と、被測定物７と対物レンズ２との間の距離を対物レンズ２の光軸方向に変化させる移動手段５と、光検出手段４の検出出力及び移動手段５の変化量に基づいて上記測定点Ｐの高さを求める制御手段６と、を備え、制御手段６は、さらに測定点Ｐの高さを求める前に、上記マイクロミラーが光ビームを被測定物７方向に反射するように傾動している時間を短縮制御して光ビームの照射量を減らすものである。 （もっと読む）

【課題】 基板及びフォトマスクの位置合わせ処理を高速に行なう。
【解決手段】 カラーフィルタ基板６に形成された基板側アライメントマークとフォトマスク７に形成されたマスク側アライメントマークとをそれぞれ同一視野内に捕えて撮像手段３で撮像し、該撮像された基板側及びマスク側アライメントマークの各画像に基づいてステージ１とマスクステージ２とを相対的に移動し、カラーフィルタ基板６とフォトマスク７との位置合わせをして露光するものであって、撮像手段３のラインＣＣＤ２２とカラーフィルタ基板６との間の光学距離及び前記撮像手段３のラインＣＣＤ２２とフォトマスク７との間の光学距離を略合致させる光学距離補正手段４を備えたものである。 （もっと読む）