【課題】露光装置において、硫化物や基板表面から発生する昇華物を起因とする汚れの付着を防止する場合に、光源の冷却は確実に行われ、かつ、人体への影響が問題とならないようにする。
【解決手段】空冷される光源１１を備えた光源側ユニット１００と、光源１１からの光を露光対象に導く光学素子を備えた光学系側ユニット２００とを含む露光装置において、窓材１０を介して光源側ユニット１００からの光を透過させる。光学系ユニット２００は略密閉され、その内部の圧力を、外部よりも高めておく。光源側ユニット１００にはノズル１４を設け、窓材１０に不活性ガスを吹き付ける。窓材１０表面に不活性ガスを局所的に連続的に吹き付け、窓材１０の表面雰囲気中の窒素ガスを高濃度に保持することにより、硫化物等の不純物や酸素を減少させ、窓材１０に発生する曇りを飛躍的に低減させることができる。 （もっと読む）

【課題】露光位置をアナログ的に制御して露光パターンの位置決め精度を向上する。
【解決手段】光源光Ｌ_１を受けて所定間隔で互い違いに少なくとも２列状態に並べて複数のビームスポットを生成するビームスポット生成手段９と、前記複数のビームスポットをそれらの並び方向に夫々所定範囲内で往復走査させる光走査手段１０と、前記複数のビームスポットの往復走査の中心に夫々中心軸を合致させて配置され、前記中心軸に平行な対向面に一対の電極を設けた角柱状の電気光学結晶材料から成る複数のスイッチング素子をオン・オフ駆動することにより、前記光源光Ｌ_１を光変調して所定の明暗パターンを生成するパターンジェネレータ１１と、前記明暗パターンをカラーフィルタ基板５上に投影する投影レンズ１２と、を備え、前記各スイッチング素子の前記ビームスポットの走査方向の幅を前記ビームスポットの同方向の幅よりも大きくしたものである。 （もっと読む）

【課題】広範囲の部分に薬液を均一に塗布すると共に薬液の塗布時間を短縮する。
【解決手段】上面１ａに基板５を載置して水平面内を移動可能にされたステージ１と、ステージ１の上方に配設され、該ステージ１に載置された基板５の上面に圧着して該基板５上に滴下された薬液を所定厚みに押し広げる圧着ヘッド２と、圧着ヘッド２を間にして左右に配設された一対のリール８間に圧着ヘッド２の圧着面２ａ側を経由して掛け渡されたテープ３と、ステージ１と圧着ヘッド２とを相対的に上下動させて基板５と圧着ヘッド２とを、間にテープ３を介在させた状態で互いに圧着可能とする移動手段４と、を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】同一の被露光体に対する複数種の露光パターンの形成効率を向上する。
【解決手段】被露光体を一方向に一定速度で搬送しながら該被露光体の搬送方向に所定間隔で配置された第１及び第２の露光領域毎に異なる露光パターンを形成する露光方法であって、各露光パターンに対応する第１及び第２のマスクパターン群を被露光体の搬送方向に所定間隔で並べて形成したフォトマスクの第１のマスクパターン群による被露光体の第１の露光領域に対する露光が終了すると、フォトマスクを所定距離だけ移動して第１のマスクパターン群から第２のマスクパターン群に切り替える段階と、第２のマスクパターン群により被露光体の第２の露光領域に対する露光を実行する段階と、を有し、第１及び第２のマスクパターン群の切り替え時における被露光体の移動距離がフォトマスクの移動距離よりも長くなるようにフォトマスクの移動速度を制御するものである。 （もっと読む）

【課題】製造工程で基板表面に付着した有機異物を、屑を残存させることなく、かつ、基板表面を損傷させることなく良好に除去できる基板用異物除去装置及び方法を提供する。
【解決手段】基板ＢＳ表面の観察によって有機異物αを特定し、基板用異物除去装置と基板ＢＳ上の有機異物αとを位置合わせする。次いで、光触媒テープＰＨＴを降下させて有機異物αに対して光触媒テープＰＨＴの光触媒層を圧着させる。次いで、光照射手段４００を動作させて、光触媒テープＰＨＴの有機異物αに圧着されている面の反対側から光を照射する。光触媒が光を吸収することで、有機異物αを光酸化し、有機異物αが分解・除去され、異物除去を完了する。 （もっと読む）

【課題】簡易な工程及び構成でスタンプを作製できるスタンプ作製方法及びスタンプ作製装置を提供する。
【解決手段】作製ステージテープＭＳＴ上に液体の感光性樹脂ＰＨＰを塗布し（図１（ａ））、感光性樹脂ＰＨＰを作製ステージテープＭＳＴとスタンプＳＴのベース部材であるスタンプテープＳＴＴとの間に挟んで展延し（図１（ｂ））、展延した感光性樹脂ＰＨＰのスタンプ形状に対応する領域に光を照射して硬化させ（図１（ｃ））、作製ステージテープＭＳＴとスタンプテープＳＴＴとを離間させて（図１（ｄ））、硬化した感光性樹脂ＰＨＰをスタンプテープＳＴＴ上に残し、スタンプテープＳＴＴに付着している未感光の感光性樹脂ＰＨＰを洗浄し、スタンプテープＳＴＴ上にスタンプＳＴを形成する（図１（ｅ））。 （もっと読む）

【課題】大面積の基板における非周期性のパターンの露光を高解像力にて行う。
【解決手段】ステージ８上に保持されたＴＦＴ基板４の面に露光される露光パターンと同一形状のマスクパターンを形成したフォトマスク１０，２４と、フォトマスク１０，２４にそれぞれ形成されたマスクパターンの等倍正立像をＴＦＴ基板４表面に結像可能にフォトマスク１０，２４の法線方向に複数の凸レンズ１４，２８を配置して構成した単位レンズ群１５，２９をフォトマスク１０，２４及びステージ８上に保持されたＴＦＴ基板４の面に平行な面内に複数配列したレンズ組立体１１，２５と、このレンズ組立体１１，２５をマスク１０，２４及びステージ８上のＴＦＴ基板４の面に平行な面内を移動させる移動手段１２，２６と、を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】低コスト且つ高生産効率で量子ドットの半導体層を形成でき、またこの量子ドットの半導体層をもつ半導体装置を大量生産することができる半導体装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】表面にシリコン窒化膜２が形成されたシリコン粒子１（ナノ粒子）が面心立方格子の格子点の位置に存在し、面心立方格子の一面に存在する各シリコン粒子１は、その３軸が直交する位置にある４個のシリコン粒子１が面心の位置にあるシリコン粒子１に接触している。これにより、シリコン粒子１等の各導電体粒子が、シリコン窒化膜２等の絶縁膜により絶縁分離されて、ほぼ等間隔で配置された量子ドットが形成され、この層は半導体としての性質を有する。シリコン粒子１は、面心立方格子の位置に限らず、体心立方格子等の最密充填の位置似配置してもよい。 （もっと読む）

【課題】結晶粒の大きさの変動が少なく、均一な結晶粒サイズの低温ポリシリコン膜を得ることができる形成装置及び方法を提供する。
【解決手段】マスク３は、レーザ光の遮光領域３１と透過領域３２とが、これらの遮光領域３１と透過領域３２が隣接しないように格子状に配置されたものであり、このマスク３を介してマイクロレンズ５によりレーザ光をチャネル領域形成予定領域７に照射する。透過領域３２を透過したレーザ光が、ａ−Ｓｉ：Ｈ膜に照射されてこの部分をアニールして多結晶化する。次に、マスク３を取り外して、予定領域７の全体にレーザ光を照射すると、既に多結晶化している領域は融点が上昇していて溶融せず、アモルファスのままの領域が溶融凝固して多結晶化する。得られたポリシリコン膜は、その結晶粒の大きさが、遮光領域３１及び透過領域３２に規制されたものとなり、一定の範囲に制御される。 （もっと読む）

【課題】簡便な構造で、基板の吸い付き防止と、レーザ加工で発生する粉塵の回収性能とを容易に両立させることが可能なレーザ加工装置を提供する。
【解決手段】ガラス基板２０を、浮上ステージ３１ｂ上に浮上させた状態で搬送しながら、ガラス基板２０の下面の薄膜２１にレーザを照射することで、分離溝（スクライビング溝）を形成するレーザ加工装置において、浮上ステージ３１ｂの表面３４に、集塵用の吸引孔３３を凹陥形成すると共に、吸引孔３３内と浮上ステージ３１ｂの外周とを連通させる溝３５ａ，３５ｂを、浮上ステージ３１ｂの表面に凹陥形成した。 （もっと読む）