【課題】光を少なくとも２回以上、繰り返し放射して同一のパターンを継続して生成する際にも、パターンの生成を安定化させる。
【解決手段】マイクロミラーデバイスに光源から光を間欠的に少なくとも２回以上、繰り返し放射して同一のパターンを継続して生成する際に、光の放射回数が予め設定された所定回数に達するまでは、光源から１ショットの光が放射された後、次の１ショットの光の放射が行われるまでの間の予め設定されたタイミングで直前に転送されたパターン情報と同一のパターン情報をマイクロミラーデバイスに転送する。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の移動方向と直角な方向に複数基の露光ヘッドが配設された露光装置にて、各フォトマスク面の照度を容易に測定し校正する、照度の測定及び校正方法、並びに露光装置を提供する。
【解決手段】マスクホルダ３０にフォトマスクＰＭ３を装着するマスク搬送トレイ４１に、照度測定ユニット７０を保持させ、照度を測定するフォトマスク面に対応した位置に照度測定ユニットを合わせ、測定した照度を標準照度と対比した校正を各フォトマスク面について行うこと。露光ヘッドＨは光源８０、マスクホルダを備え、マスク搬送トレイを、マスクホルダに移動させるトレイ搬送機構４０を備え、フォトマスク面に対応した位置に該照度測定ユニットを合わせ照度を測定し校正する露光装置。 （もっと読む）

【課題】放電発光する光の利用効率を向上する。
【解決手段】発光管４内部に封入したキセノンガス中での放電により発光する光源１と、前記発光管４を所定間隔の隙間を有して取り囲んで設けられた水冷管２とを備え、前記隙間に外部から冷却水を導入及び導入された冷却水を排水可能に構成された光源装置であって、前記発光管４の外周面４ａ又は前記水冷管２の内周面２ｂ又は外周面２ａに、前記光源１で放電発光する光のうち必要な波長帯の光よりも波長の短い光の照射により励起されて前記必要な波長帯に含まれる波長の光を発する蛍光塗料５を、前記光源１で放電発光する必要な波長帯の光に前記蛍光塗料５が励起されて発する光を重畳させて外部に放出可能に適切な膜厚で塗布したものである。 （もっと読む）

【課題】低コスト且つ高生産効率で量子ドットの半導体層を形成でき、またこの量子ドットの半導体層をもつ半導体装置を大量生産することができる半導体装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁体粒子１（ナノ粒子）が面心立方格子の格子点の位置に存在し、面心立方格子の一面に存在する各絶縁体粒子１は、その３軸が直交する位置にある４個の絶縁体粒子１が面心の位置にある絶縁体粒子１に接触している。そして、導電体粒子２（ナノ粒子）が絶縁体粒子１の相互間の隙間に位置する。この絶縁体粒子１の直径をＲとすると、立方格子の１辺の長さａは、√２×Ｒとなる。導電体粒子２は、接触していない絶縁体粒子１の相互間の隙間に位置するので、導電体粒子２の直径は、ａ−Ｒ以下であればよい。導電体粒子の代わりに、半導体粒子を使用することもできる。 （もっと読む）

【課題】オフ電流が小さく、電位保持特性が優れており、消費電力が低いと共に、動作速度も速い低温ポリシリコントランジスタを含む薄膜トランジスタ、この薄膜トランジスタの製造方法及びそれを使用した液晶表示装置を提供する。
【解決手段】ガラス基板１０上にゲート電極１１、ゲート絶縁膜１２、チャネル領域、ソース・ドレイン電極１５ａ，１５ｂを形成した逆スタガ構造の薄膜トランジスタである。このチャネル領域は、ポリシリコン膜１３と、このポリシリコン膜１３の上面及び側面を覆うａ−Ｓｉ：Ｈ膜１４とから構成されている。 （もっと読む）

【課題】ブラックマトリックスのパターンに対し、スリット露光で着色画素を形成する際、露光領域の移動方向末端部にても位置合わせが良好な露光方法を提供する。
【解決手段】光軸より基板５０の反移動方向に第１パターンの位置合わせマークの位置情報を取得する前方撮像カメラＣＭ−Ａ、移動方向に後方撮像カメラＣＭ−Ｂを設けた露光装置を用い、位置合わせマークを撮像するための前方撮像用開口部５３−Ａ、後方撮像用開口部５３−Ｂを設けたフォトマスクを用い、フォトマスクＰＭ３の下方を移動してくる位置合わせマークを前方撮像カメラ又は／及び後方撮像カメラで撮像し、取得した位置合わせマークの位置情報から第１パターンに対するフォトマスクのパターンの位置合わせがなされ露光光が照射される。 （もっと読む）

【課題】複雑な図形のパターンに対してもフォトマスクの高精度な位置合わせを可能とする。
【解決手段】パターンをマトリクス状に備えた基板を搬送しながら、基板の搬送方向に略直交方向に複数の受光素子を一直線状に並べて有する撮像手段により所定の時間間隔で撮像された複数の画像を逐次処理して上記受光素子の並び方向における輝度変化の位置を検出し、基板が所定距離だけ移動する間に同じ位置で検出される輝度変化の回数を積算してエッジ数データを得、テンプレートを移動しながら算出されたエッジ数データに対して相関演算を行って相関値データを得、所定の閾値を超えた相関値データから複数のパターンの位置を特定し、それらの内から撮像手段のターゲット位置に近接したパターンの位置を選択し、該パターンの位置と撮像手段のターゲット位置との位置ずれ量を算出し、該位置ずれ量が所定値となるようにフォトマスクを基板の搬送方向と略直交方向に移動する。 （もっと読む）

【課題】複雑な図形のパターンに対してもフォトマスクの高精度な位置合わせを可能とする。
【解決手段】パターンをマトリクス状に備えた基板を搬送しながら、基板の搬送方向に略直交方向に複数の受光素子を一直線状に並べて有する撮像手段により所定の時間間隔で撮像された複数の画像を逐次処理して上記受光素子の並び方向における輝度変化の位置を検出し、基板が所定距離だけ移動する間に同じ位置で検出される輝度変化の回数を基板搬送方向に積算してエッジ数データを得、所定の閾値を超えたエッジ数から上記パターンの搬送方向に平行な複数の長辺の位置を特定し、その複数の近接ペアの中点位置を演算し、該近接ペアの中点位置から撮像手段に予め設定されたターゲット位置に近接した中点位置を選択し、該中点位置と撮像手段のターゲット位置との位置ずれ量を算出し、該位置ずれ量が所定値となるようにフォトマスクを基板の搬送方向と略直交方向に移動する。 （もっと読む）

【課題】搬送される基板の動きに追従してマイクロレンズアレイを移動してレーザ光の照射位置精度を向上する。
【解決手段】マトリクス状に設定されたＴＦＴ形成領域の縦横いずれか一方の配列方向に基板を搬送しながら撮像手段により基板表面を撮像し、該撮像画像に基づいて基板表面に予め設定されたアライメントの基準位置を検出し、複数のＴＦＴ形成領域に対応して基板の搬送方向と交差する方向に複数のレンズを配置した少なくとも一列のレンズアレイを基板の搬送方向と交差方向に移動して、レンズアレイのレンズと基板のＴＦＴ形成領域とをアライメント基準位置を基準にして位置合わせし、基板が移動してＴＦＴ形成領域がレンズアレイの対応レンズの真下に到達したときにレンズアレイにレーザ光を照射し、複数のレンズによりレーザ光を集光して各ＴＦＴ形成領域のアモルファスシリコン膜をアニール処理する。
【選択図】図６

（もっと読む）

【課題】効率よくレーザ光吸収を吸収することができ、ハウジングが高温となることがないレーザダンパーを提供する。
【解決手段】ステンレス鋼からなるハウジング２１に石英からなる入射窓２２を設け、ハウジング２１と入射窓２２とによって形成された空間内に、酸化珪素の多数の透明粒子２３を充填し、ハウジング２１に供給口２５および排出口２６を設け、供給口２５および排出口２６に循環ポンプ２７を接続する。 （もっと読む）