【課題】電気光学結晶材料から成る複数の光変調素子により生成されるパターンと被露光体の露光位置との位置合わせ精度を向上する。
【解決手段】上面に被露光体７を載置して一定方向に搬送する搬送手段１と、被露光体７の搬送方向と交差する方向に電気光学結晶材料から成る複数の光変調素子９を所定の配列ピッチで少なくとも一列に並べて有する空間光変調手段３と、各光変調素子９から射出する光の上記搬送方向の幅を所定幅に制限する光ビーム整形手段４と、各光変調素子９を個別に駆動して空間光変調手段３の透過光をオン・オフ制御し、所定のパターンを生成させる制御手段６と、を備え、各光変調素子９は、その光軸に直交する横断面形状が被露光体７の搬送方向に長い略長方形状に形成されると共に、上記搬送方向に平行な軸に対して所定角度だけ傾けて形成され、制御手段６は、光ビーム整形手段４を上記搬送方向に移動させるものである。 （もっと読む）

【課題】フライアイレンズにより生じるレーザ光の干渉縞を平均化すると共に、レーザ光の照度ムラを低減する。
【解決手段】レーザ光の断面形状を拡大する第１のフライアイレンズ２と、第１のフライアイレンズ２のレーザ光の入射側に配置され、第１のフライアイレンズ２の各集光レンズ２ａに夫々入射するレーザ光に位相差を生じさせる第１の光路差調整部材３と、第１のフライアイレンズ３を射出したレーザ光を平行光にするコンデンサーレンズ４と、レーザ光によるフォトマスクの照明領域内の光強度分布を均一化する第２のフライアイレンズ６と、第２のフライアイレンズ６のレーザ光の入射側に配置され、第２のフライアイレンズ６の各集光レンズ６ａに夫々入射するレーザ光に位相差を生じさせる第２の光路差調整部材７と、を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】微小突起の高さをセンサで測定することなく、研磨面の両端側に樹脂層を積層させた研磨テープを用いて、研磨対象の微小突起を所定の高さまで、効率よく、短時間に研磨することができる微小突起の研磨装置を提供する。
【解決手段】平板上の微小突起イを、研磨層の幅方向の両端側に樹脂層を有する研磨テープ１によって研磨する微小突起研磨装置であって、前記研磨テープ１を前記微小突起部イに押圧する押圧手段と、該押圧手段の押圧方向に交差する方向に前記研磨テープ１を走行させるテープ移送手段とを有し、研磨面の幅方向の両端側に樹脂層を研磨深さのガイドとすることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】構造が簡単であると共に、観察物表面近傍で発生する蛍光や励起光の表面反射の影響を軽減して観察物の深部の観察を容易にする。
【解決手段】観察物３内部の蛍光物質８にレーザ光Ｌ１を照射して励起させ、前記蛍光物質８で発生する蛍光Ｌ２を観察する蛍光顕微鏡であって、前記レーザ光Ｌ１を発生して前記観察物３に照射する励起照明装置１と、前記レーザ光Ｌ１によって励起されて前記観察物３内部で発生する蛍光Ｌ２にて、前記励起照明装置１の光軸方向と異なる方向に放射された蛍光Ｌ２を観察する観察装置２と、を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】液晶が紫外線を吸収して高温に発熱するのを抑えて液晶分子の配向の安定化を図ると共に、大面積の基板に対しても紫外線を均一に照射可能にする。
【解決手段】液晶表示用基板の各画素に電界を印加した状態で、紫外線を照射して液晶の分子を所定方向に配向させるもので、液晶表示用基板の一面に接触して冷却する冷却媒体を貯留する凹陥部を中央に形成し、液晶表示用基板を吸着保持するステージと、液晶表示用基板の少なくとも表示領域に対応した大きさの開口１７ａを有するリフレクタ１７の内部に紫外線を発光する複数のフラッシュランプ２８を設けると共に、開口１７ａに所定波長の紫外線を選択的に透過する方形状の複数のフィルタ４７を縦横に並べて設けた光源装置３とを備え、光源装置３は、フィルタ４７の配列ピッチの整数倍の距離を縦横に所定のステップで移動しながら、１ステップ移動する毎に複数のフラッシュランプ２８を点灯させるものである。 （もっと読む）

【課題】多角形の基板の縁部に沿って線状の溝を加工するレーザ加工時間を短縮する。
【解決手段】多角形の太陽電池用基板を回転させ、回転する太陽電池用基板に横断面細線状に整形されたレーザ光を所定タイミングで照射して多角形の太陽電池用基板の各辺に沿って線状の溝を加工するものである。 （もっと読む）

【課題】塗膜の広範囲に亘る欠陥部の修正時間を短縮すると共に、基板面の凹凸に寄らず修正薬液の塗膜厚みの均一化を可能にする。
【解決手段】カラーフィルタ基板１面に形成された配向膜３の欠陥部６を修正する欠陥修正方法であって、欠陥部６に修正薬液５を適量だけ滴下する薬液滴下段階と、カラーフィルタ基板１面の凹凸に倣って弾性変形するスタンプ８でカラーフィルタ基板１面を押圧して修正薬液５を押し広げるスタンプ押圧段階と、を行うものである。 （もっと読む）

【課題】要求解像力の異なる２種類の露光パターンを同一の露光工程で同時に形成し、露光処理効率を向上する。
【解決手段】ＴＦＴ用基板８を一方向に搬送しながら、フォトマスク３を介してＴＦＴ用基板８に光源光２４を間欠的に照射し、フォトマスク３に形成された複数のマスクパターンに対応してＴＦＴ用基板８上に露光パターンを形成するもので、フォトマスク３は、一面に要求解像力が異なる電極配線パターン１４と信号配線パターン１７とを形成し、複数の電極配線パターン１４から成る電極配線パターン群１６と複数の信号配線パターン１７から成る信号配線パターン群１８とをＴＦＴ用基板８の搬送方向に先後して形成し、他面には、要求解像力の高い電極配線パターン１４に対応して該パターンをＴＦＴ用基板８上に縮小投影するマイクロレンズ１９を形成し、該マイクロレンズ１９側がＴＦＴ用基板８側となるように配置されたものである。 （もっと読む）

【課題】基板とマスクとを相対移動させることでパターン露光を行う際に、非露光領域を適切に遮光できる露光装置を提供する。
【解決手段】所定の方向に被露光体を搬送するステージと、被露光体に露光すべきマスクパターンを有するフォトマスクを前記被露光体に近接対向させて保持するマスクユニットと、フォトマスクに露光用レーサ光を照射するレーザ光源と、露光用レーザ光をフォトマスクに直角に照射する光学系と、前記レーザ光源と光学系との間に配設され、レーザ光の偏光方向を切替える偏光切替え手段と、前記フォトマスク上に配設された偏光シャッターと、該シャッターの駆動手段と、を有する近接露光装置であって、前記偏光シャッターの偏光方向が、前記レーザ光の偏光前又は偏光後の偏光方向と直交することを、特徴とする。 （もっと読む）

【課題】液晶が紫外線を吸収して高温に発熱するのを抑えて液晶分子の配向の安定化を図ると共に、液晶表示装置の製造効率の向上を可能にする。
【解決手段】ＴＦＴ基板と対向電極基板との間に複数の画素をマトリクス状に形成し、液晶を封止した液晶表示用基板の前記各画素に電界を印加した状態で前記液晶表示用基板に紫外線を照射して、前記液晶の分子を所定方向に配向させる液晶表示装置の製造方法であって、前記液晶表示用基板の一面を冷却媒体に接触させるステップと、前記各画素に所定量の電界を印加した状態で前記液晶表示用基板に所定光量の紫外線を照射するステップと、前記紫外線の照射が所定時間経過すると、紫外線の照射を維持したまま前記各画素に印加する電界の強度を所定の時間間隔で変更するステップと、
を行うものである。 （もっと読む）