【課題】液晶が紫外線を吸収して高温に発熱するのを抑えて液晶分子の配向の安定化を図ると共に、液晶表示装置の製造効率の向上を図る。
【解決手段】中央に前記液晶表示用基板の一面に接触して冷却する冷却媒体を貯留する凹陥部１６を形成し、上面に前記液晶表示用基板の一面の周縁近傍部を吸着して保持するステージ１と、前記凹陥部１６の開口部側に張設され、前記ステージ１に保持された前記液晶表示用基板の前記一面を支持する複数のワイヤ４５と、前記ステージ１の少なくとも隣接する二つの縁部近傍に配設され、前記ステージ１に保持された液晶表示用基板の前記複数の電極に接続して通電する複数の端子を設けたプローバー２と、前記ステージ１の上方に配設され、前記ステージ１に保持された液晶表示用基板に紫外線を照射する光源装置と、を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】複数の穴のレーザ加工処理時間を短縮する。
【解決手段】複数の単位レンズ１２が所定ピッチでマトリクス状に並べられ、レーザ光源１０から間欠的に放射されるレーザ光の強度分布を均一化するフライアイレンズ３と、搬送されるシリコン基板６に対向して設けられ、シリコン基板６の搬送方向に略直交する方向に複数の集光レンズ１３を所定ピッチで並べて形成した複数のレンズ列を有し、各集光レンズ１３でレーザ光をシリコン基板６上に集光して、フライアイレンズ３の各単位レンズ１２の配置と相似形に配置された複数のビームスポットを生成するマイクロレンズアレイ４と、を備え、マイクロレンズアレイ４の搬送方向先頭側に位置するレンズ列により形成される複数の穴の間を後続のレンズ列により補完してレーザ加工可能に、後続のレンズ列をシリコン基板６の搬送方向に略直交する方向に夫々所定寸法だけずらして形成したものである。 （もっと読む）

【課題】微細な露光パターンを被露光体の全面に亘って高分解能で高密度に形成する。
【解決手段】フォトマスク３は、被露光体の搬送方向Ａに略直交する方向に複数のマスクパターン１３を所定ピッチで並べて形成した複数のマスクパターン列１５と、複数のマスクパターン列１５の各マスクパターン１３に夫々対応して被露光体側に形成され、各マスクパターン１３を被露光体上に縮小投影する複数のマイクロレンズ１４と、を備えて成り、被露光体の搬送方向Ａの先頭側に位置するマスクパターン列１５ａにより形成される複数の露光パターンの間を後続のマスクパターン列１５ｂ〜１５ｄにより形成される複数の露光パターンにより補完して露光可能に、上記後続のマスクパターン列１５ｂ〜１５ｄ及びそれに対応する各マイクロレンズ１４を複数のマスクパターン１３の上記並び方向に夫々所定寸法だけずらして形成したものである。 （もっと読む）

【課題】ブラックマトリックスと絵素部外縁との重なり部分における盛り上がりを小さく抑えて、カラーフィルタの表面平坦性を高めることができる近接露光装置を提供する。
【解決手段】被露光体Ｗを載置して、搬送する搬送ステージ４と、被露光体Ｗに露光すべき露光パターンが配設された露光マスク３１と、搬送ステージ４の上方に配設されて、露光マスク３１を少なくとも１つ以上を保持するマスクホルダ３０と、マスクホルダ３０を被露光体Ｗの搬送方向に傾斜して保持するマスクスホルダ駆動装置３２と、マスクスホルダ３２の上方に配設された露光用の光源２ａと、を有する。 （もっと読む）

【課題】検査対象物表面からの反射光のノイズ成分を除去して反射光のピーク輝度の検出を容易にし、測定精度の向上を図る。
【解決手段】対物レンズを介して検査対象物上に複数の光ビームを照射して複数の測定点を指定し、前記対物レンズと検査対象物との間隔を変化させながら、撮像手段で前記複数の測定点からの反射光を受光して前記各測定点に対応する複数の輝度を取得し、該複数の輝度から前記各測定点のピーク輝度を検出して前記検査対象物表面の凹凸形状を測定する表面形状測定方法であって、前記各測定点に対して光ビームの照射及び照射停止の明暗二つの状態を交互に与えて各状態における輝度を取得し、前記測定点毎に前記明暗二つの状態の輝度を減算処理して相対輝度を算出し、前記対物レンズと検査対象物との間隔を変化させながら前記測定点毎に得られた複数の前記相対輝度から各測定点のピーク輝度を検出するものである。 （もっと読む）

【課題】露光パターンにおける回折の影響を、容易に少なくできる露光装置を提供することを目的とする。
【解決手段】
ワークＷに対する、一次露光パターン３１ｅと、二次露光パターン３１ｆと、を有するフォトマスク３１と、フォトマスク３１をワークＷに対向して近接させて保持するマスクホルダー３０と、マスクホルダー３０の位置及び姿勢を調整するホルダー駆動手段３２と、ワークＷを載置して、マスクホルダー３０に対して移動させるワーク搬送手段４１と、一次露光光源と、二次露光源と、を有する露光光源ユニットと、一次露光光源から放射される光と二次露光源から放射される露光光の夫々を平行な光にして、フォトマスク３１に対して照射する露光光学系２ｃと、を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】検査対象物表面近傍で発生する蛍光や励起光の表面反射の影響を軽減して検査対象物の深部の観察を容易にする。
【解決手段】光源装置１から放射されたレーザ光Ｌ１を受けて、検査対象物７の蛍光物質８を励起させて蛍光Ｌ２を発生させる励起光Ｌ３を生成する励起光生成手段２と、前記励起光Ｌ３を前記検査対象物７内部の蛍光物質８に集光する対物レンズ３と、前記対物レンズ３の視野よりも視野Ｆ２が狭く形成され、前記対物レンズ３の集光点で前記蛍光物質８が発生する蛍光Ｌ２を検出する光検出手段４と、を備え、前記励起光Ｌ３を前記対物レンズ３の視野内にて前記光検出手段４の視野Ｆ２外に対応した位置に入射させるようにしたものである。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で一つのレーザ光から複数の横断面細長状のレーザビームを同時に生成可能とし、装置の製造コストを低減する。
【解決手段】方形状の基板５を往復搬送するステージ１と、ステージ１の上面に対向して設けられ、レーザ光源１４より放射されたレーザ光から横断面細長状の複数のレーザビームを生成して基板５に照射する複数のシリンドリカルレンズ１８を設けたレーザヘッド２と、複数のシリンドリカルレンズ１８によるレーザビーム照射位置の搬送方向手前側の位置を撮像するように配設された第１及び第２の撮像手段３Ａ，３Ｂと、第１及び第２の撮像手段３Ａ，３Ｂの撮像画像に基づいてレーザ光源１４から放射するレーザ光の照射タイミング及びレーザビームの照射位置を制御する制御手段４と、を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】修正作業が安全且つ容易であり、修正された配線の信頼性を向上する。
【解決手段】ＴＦＴ基板表面に形成され、カラーフィルタの膜に覆われた配線の断線修正方法であって、前記配線の断線箇所を間にして、該断線箇所の前後の配線部分を繋ぐように前記カラーフィルタの膜をレーザ加工して除去し、所定幅の線状パターンを形成するレーザ加工工程Ｓ１と、前記線状パターン上に金属微粒子を分散させた修正液を塗布する修正液塗布工程Ｓ２と、前記塗布された修正液を焼成して導電膜を形成する導電膜形成工程Ｓ３と、少なくとも前記導電膜及びその周辺部を覆って前記カラーフィルタの膜と同じ膜を形成する上層膜形成工程Ｓ５と、を実行するものである。 （もっと読む）

【課題】液晶が紫外線を吸収して高温に発熱するのを抑えて液晶分子の配向の安定化を図ると共に、液晶表示装置の製造効率の向上を図る。
【解決手段】ＴＦＴ基板と対向電極基板との間に複数の画素をマトリクス状に形成し、液晶を封止した液晶表示用基板の前記各画素に電界を印加した状態で前記液晶表示用基板に紫外線を照射して、前記液晶の分子を所定方向に配向させる液晶表示装置の製造方法であって、前記液晶表示用基板の一面を冷却媒体に接触させる第１ステップと、前記各画素に所定量の電界を印加した状態で前記液晶表示用基板に所定光量の紫外線を照射する第２ステップと、を行うものである。 （もっと読む）