【課題】露光用のフラッシュランプを用いた連続近接露光装置において、このフラッシュランプの点滅のタイミングを正確に取ることができる光学的センサーを提供する。
【解決手段】 複数の受光素子１０ａを関連してライン上に一列に配置し、該受光素子１０ａにおける光電変換した電荷をライン毎に読み出す電荷転送型のラインセンサー１０と、該ラインセンサー１０の受光素子１０ａの配列方向と平行な軸上に少なくとも１つ以上の独立した受光素子１０ａを配置したフォトセンサー１１を有する光学センサー１であって、前記ラインセンサー１０の画像取り込みの周期と、前記フォトセンサー１１の画像取り込みの周期が異なることを特徴とする （もっと読む）

【課題】フォトマスクの位置を記憶する記憶手段を備えることにより、位置合わせの度にフォトマスクの位置を検出することなく、被露光基板とフォトマスクとの位置合わせをすることを可能とする。
【解決手段】被露光基板７が露光位置に投入される前に、記憶手段３３によって事前にマスク側基準パターンの位置を記憶し、その後、被露光基板７を搬送して露光位置に投入して基板側基準パターンの位置を検出し、前記記憶したマスク側基準パターンの位置と検出した基板側基準パターンの位置とを比較して被露光基板７に対してフォトマスク１２を位置合わせし、露光光源３から被露光基板７に所定のタイミングで露光光を照射して所定のパターンを露光する。 （もっと読む）

【課題】マイクロミラーデバイスと撮像手段との組み立てを容易にする。
【解決手段】ＴＦＴ基板６を搬送する搬送手段１と、複数のマイクロミラーをマトリクス状に配置したＤＭＤ１５の各マイクロミラーを個別に傾動して光源１４から入射する露光光をＴＦＴ基板６側に反射し、露光パターンを生成して露光する露光光学系２と、露光位置を撮像する撮像手段３と、各構成要素を制御する制御手段５と、を備え、制御手段５は、露光開始前に上記複数のマイクロミラーのうち所定のマイクロミラーを傾動させて基準パターンを生成させ、撮像手段３で撮像された基準パターンの位置をメモリに記憶し、露光時に撮像手段３で撮像されたＴＦＴ基板６のアライメントマークの位置と、メモリに記憶された基準パターンの位置との間の搬送方向に交差する方向の位置ずれ量を算出し、この位置ずれ量を補正するようにシフトさせた露光パターンを生成させるものである。 （もっと読む）

【課題】被露光体表面においてシャッタ縁部の影がぼやけて不鮮明になるのを抑制する。
【解決手段】複数の露光領域が少なくとも一列に並べて設定されたカラーフィルタ基板９をその設定方向に搬送する搬送手段１と、フォトマスク１３を保持するマスクステージ２と、カラーフィルタ基板９に対する露光期間中常時点灯する光源３と、カラーフィルタ基板９の複数の露光領域がフォトマスク１３の下側を順次通過するのに同期して露光光の照射及び遮断の切換をするシャッタ４とを備え、光源３とシャッタ４との間に配設され、フォトマスク１３に照射する露光光の輝度分布を均一にするフライアイレンズ５と、シャッタ４による露光光の遮断面にフライアイレンズ５の複数のマイクロレンズの像を重ね合わせて結像するコンデンサレンズ６と、この重ね合わせて結像された複数のマイクロレンズの像をフォトマスク１３上に再結像するオフナー型光学系７とを備えたものである。 （もっと読む）

【課題】マスクホルダー内の複数の露光用マスクの夫々と、露光対象基板との位置関係をチェックし、容易に複数の露光用マスクの夫々の初期位置及び姿勢をセットする方法を提供する。
【解決手段】基板Ｗの第２のアライメントマークを、ＣＣＤカメラ６で撮像しその画像がＣＣＤカメラ６の画像の所定の位置に位置するようにＣＣＤカメラ６の位置をセットしその位置における前記第２のアライメントマークのＣＣＤカメラ６の画像上の位置データを記憶させた後マスク４ａの第１のアライメントマークをＣＣＤカメラ６で撮像して得られた、第１のアライメントマークのＣＣＤカメラ６の画像上の位置データと上記第２のアライメントマークの位置データとを比較し第１のアライメントマークと第２のアライメントマークとの位置ズレ量が最小になるように露光用マスク４ａの初期位置及び姿勢を調整する。 （もっと読む）

【課題】反射率の異なる部分を有する被測定物上の被測定面の高さを高速で測定することができる表面測定装置を提供する。
【解決手段】共焦点光学系２を有した表面測定装置１であって、この共焦点光学系２の対物レンズ２７と結像レンズ２５との間に、この対物レンズ２７と同軸に設けた遮光板２６と、この対物レンズ２７と同軸に、被測定面６ａにレーザ光を照射するレーザ発振器２０と、前記対物レンズ２７を介して前記被測定面６ａの像の輝度を検出する光検出手段２１と、この共焦点光学系２の焦点面を被検物に垂直に相対移動させるピエゾ素子２５ａとを有することを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】検査対象物内を移動する蛍光物質を自動追跡し、蛍光物質の挙動を観察可能にする。
【解決手段】自由に移動する蛍光物質を有した検査対象物１１を載置して三次元方向に移動するステージ１と、ステージ１の上方に設けられ、光源装置２から放射される所定波長の光を入力して複数のビーム光を発生し、検査対象物１１に照射するＤＭＤ３と、ＤＭＤ３から照射された複数のビーム光を検査対象物１１上に集光する対物レンズ４と、各ビーム光の照射により蛍光物質が励起されて発生する複数の蛍光を、ＤＭＤ３を介して二次元の受光部２０で受光する光検出装置６と、対物レンズ４の高さ位置を変位させる変位手段７と、蛍光物質から発生した蛍光が光検出手段６の受光部２０で受光されるように蛍光物質の移動に追従してステージ１を移動させる制御手段１０と、を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】回路基板と導電性の金属薄膜との密着性に優れ、再剥離する虞なく回路基板の配線に発生する断線部を修正する。
【解決手段】回路基板上に形成された配線の断線部を修正する修正用の金属微粒子分散液で、金、銀、白金、パラジウムのうちいずれか一種類以上の金属微粒子を含有するとともに、アルミニウム、ニッケル、銅のうちいずれかのアセチルアセトナート基を配位子とする金属錯体を前記金属微粒子の金属量に対し、３重量％ないし３０重量％含有するものである。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクのマスクパターンの露光位置精度を向上する。
【解決手段】カラーフィルタ基板７を一方向に搬送する搬送手段１と、一列のマスクパターン１２の列の中心軸に平行な軸上に形成され、該軸に対して互いに異なる角度で交差する三本の細線状パターンとを設けたフォトマスク９をカラーフィルタ基板７に近接対向させて保持するマスクステージ２と、フォトマスク９を介してカラーフィルタ基板７に照射する露光光を放射する光源３と、カラーフィルタ基板７の搬送方向と略直交する方向に一直線状に並べて複数の受光素子２２を有し、フォトマスク９の三本の細線状パターンを撮像する撮像手段４と、撮像手段４により撮像された画像を処理し、三本の細線状パターンの間隔を計測して記フォトマスク９の上記搬送方向へのずれ量を算出し、露光光の照射タイミングをフォトマスク９のずれ量により補正制御する制御手段６と、を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】液晶カラーフィルタ等の平板上に存在する微小突起物のみを効率よく研磨することができる微小突起研磨装置を提供する。
【解決手段】平板状ワークの微小突起部分に研磨テープＴを接触させて研磨する微小突起研磨装置２であって、微小突起部分に対向して接近離間可能に設けられた対物レンズ８と、この対物レンズ８を介して微小突起部分を拡大観察する光学手段７と、微小突起部分と対物レンズ８との間で、対物レンズ８の光軸Ｌと交差して研磨テープＴを走行するテープ移送機構２０と、対物レンズ８の光軸Ｌ上で、研磨テープＴを微小突起部分に接触させる押圧手段１８とを備える。 （もっと読む）