【課題】複数の光変調要素に対する配線数を減らして、光変調要素の稠密度を向上する。
【解決手段】電気光学結晶材料４から成り、対向する二側面に駆動用電極５及び接地用電極６を設けた複数の光変調要素９をマトリクス状に配設した素子組立体と、各光変調要素９の駆動用電極５に電圧を供給する駆動用配線と、各光変調要素９の接地用電極６を接地する接地用配線２１とを備え、駆動用配線は、素子組立体の一方の面に形成され、互いに隣接する各光変調要素９間の各縦領域及び横領域に形成されたデータ線１１及びゲート線１２と、該データ線１１及びゲート線１２の交差する部分に配設され、各線の電気信号に応じて各光変調要素９の駆動用電極５に対する電圧の供給及び供給停止の切換をするスイッチング素子１３とから成り、接地用配線２１は、素子組立体の他方の面にて、互いに隣接する各光変調要素９間の各縦領域に形成されたものである。 （もっと読む）

【課題】光を少なくとも２回以上、繰り返し放射して同一のパターンを継続して生成する際にも、パターンの生成を安定化させる。
【解決手段】転送されるパターン情報に基づいて個別に傾動する複数のマイクロミラーをマトリクス状に配列して有するマイクロミラーデバイスにレーザ光源からレーザ光を放射して、マイクロミラーデバイスにおける反射光により光の照射対象物上に所定のパターンを生成するパターン生成方法であって、マイクロミラーデバイスにレーザ光源からレーザ光を間欠的に少なくとも２回以上、繰り返し放射して同一のパターンを継続して生成する際に、レーザ光の放射回数が予め設定された所定回数に達するまで、レーザ光源からレーザ光が放射される度に直前に転送されたパターン情報と同一のパターン情報をマイクロミラーデバイスに転送するものである。 （もっと読む）

【課題】レーザ加工の作業能率の向上及び加工精度の向上を図る。
【解決手段】複数のマイクロミラーにより、レーザ光源２から入射するレーザ光を反射させ、レーザ光の光束断面形状を規制して射出する光束規制手段３と、レーザ光により加工される被加工物１０と対向して設けられレーザ光を被加工物１０上に集光する対物レンズ４と、を備えたレーザ加工装置であって、光束規制手段３からレーザ光源２に向かう光路が分岐された光路上に設けられ光束規制手段３の複数のマイクロミラーに白色光を照射する白色光源６と、対物レンズ４から光束規制手段３に向かう光路が分岐された光路上に設けられ、複数の受光素子を備えて上記複数のマイクロミラーで反射された白色光の被加工物１０からの反射光を受光する撮像手段７と、対物レンズ４と被加工物１０との間の距離を変位させる変位手段９と、を備えて、微小高さの測定を可能にしたものである。 （もっと読む）

【課題】装置の光学構成を簡単にする。
【解決手段】複数のピンホールを形成したピンホール部材３に白色光Ｌ１を照射する白色光源２と、被測定物１１に対向して設けられ上記ピンホールを通過した白色光Ｌ１を被測定物１１上に集光する対物レンズ４と、複数の受光素子を備えて上記ピンホールを通過した白色光Ｌ１の被測定物１１からの反射光Ｌ２をそのまま受光する撮像手段６と、対物レンズ４と被測定物１１との間の距離を変位させる変位手段１０と、を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】ニードル管内へ所定量のインクを充填することを可能にする。
【解決手段】カートリッジ部材７にニードル管６を組み付けて形成したインクカートリッジ８を着脱可能に保持するカートリッジ保持部１と、カートリッジ保持部１に配設され、カートリッジ部材７が着脱される側に開口した穴部１０を有し、該穴部１０にニードル管６の後端開口部を挿入して保持するコネクタ部２と、コネクタ部２の穴部１０に供給管１２によって接続され、ニードル管６に充填するインクを貯留するインクタンク３と、インクタンク３に圧縮空気を導入して、その空気圧によりインクタンク３内のインクを、供給管１２を介してコネクタ部２の穴部１０に所定量だけ送出する充填量調整部４と、を備え、ニードル管６に充填されたインクが充填後、その自重で下降して充填量が減少するのを防止する充填量減少防止手段５を設けたものである。 （もっと読む）

【課題】レーザ加工の作業能率の向上及び加工精度の向上を図る。
【解決手段】レーザ光源２から放射されたレーザ光Ｌ１の光束断面形状を形状規制部１２で規制して射出する光束規制手段３と、レーザ光Ｌ１により加工される被加工物１１と対向して設けられレーザ光Ｌ１を被加工物１１上に集光する対物レンズ４と、を備え、対物レンズ４から光束規制手段３に向かう光路が分岐された光路上に設けられ複数のピンホールを形成したピンホール部材６と、ピンホール部材６に白色光Ｌ２を照射する白色光源７と、対物レンズ４からピンホール部材６に向かう光路が分岐された光路上に設けられ、複数の受光素子を備えてピンホールを通過した白色光Ｌ２の被加工物１１からの反射光Ｌ３を受光する撮像手段８と、対物レンズ４と被加工物１１との間の距離を変位させる変位手段１０と、を備えて微小高さの測定を可能にしたものである。 （もっと読む）

【課題】フライアイレンズに照射される照明光の強度分布を均一化することによって、基板上の露光パターンの位置ずれ量を減少させる。
【解決手段】光源１０から紫外線を放射し、均一化手段１３でフライアイレンズ１２に照射される照明光の強度分布を均一化し、フライアイレンズ１２でフォトマスク６に照射される照明光の強度分布を均一化し、コリメート手段５で光源１０から放射された紫外線の照明光を平行光にしてフォトマスク６に照射する。 （もっと読む）

【課題】露光パターンの位置ずれ量が許容範囲内となるように調整可能とする。
【解決手段】紫外線を放射する光源３と、前記光源３から放射された紫外線の照明光を平行光にしてフォトマスク１に照射するコンデンサレンズ５と、前記光源３とコンデンサレンズ５との間に配設され、前記フォトマスク１に照射される照明光の輝度分布を均一にするフライアイレンズ６と、前記コンデンサレンズ５とフライアイレンズ６との間の光学距離を調整する光学距離調整手段７と、を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】高さの異なる複数種の凸状パターンを同一の材料を使用して同時に形成し、その形成工程を短縮する。
【解決手段】基板上に塗布された感光性樹脂を露光して高さの異なる複数種の凸状パターンを形成するためのフォトマスク１であって、透明なガラス基板２の一面を覆って形成された不透明膜３に多数形成され、複数種の凸状パターンに対応した開口を有して紫外光を透過させる第１及び第２のマスクパターン４，５と、上記複数種の凸状パターンの高さの最も高い凸状パターンを形成するための第１のマスクパターン４に対応してガラス基板２に形成された集光レンズ４と、を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】露光光による多孔質板の粒子の結合の劣化、脱落を抑えた、非接触でワークを保持搬送できるワークステージを備えた近接露光装置を提供する。
【解決手段】平板状の被露光体Ｗの一端部を保持して所定方向に一定の速度で搬送する搬送手段３と、搬送手段３の被露光体Ｗの搬送経路に沿って配設され、上面が平坦に形成され、該上面の一部が、電解メッキを施された多孔質板で形成され、多孔質板の通気孔を通して、前記上面と搬送手段３によって搬送された被露光体Ｗと、上記上面との間に気体を供給排出可能にされたワークステージ４と、ワークステージ４の上方に配設され、ワークステージ４上を搬送される被露光体Ｗに対して、露光パターンが設けられたフォトマスク２３を介して、露光光を照射して所定の露光パターンを形成する露光光学系２とを備えた。 （もっと読む）