説明

株式会社日立ハイテクノロジーズにより出願された特許

1,121 - 1,130 / 4,325


【課題】試料ステージの位置決め時に用いる複数のブレーキ機構においてそれぞれのギャップが異なるため、同じ駆動指令ではブレーキ機構で発生する制動力に差が生じ試料ステージの位置ずれが発生する。
【解決手段】複数のブレーキ機構それぞれのアクチュエータ301を、既定の駆動指令により駆動し、その駆動中にブレーキ機構125aそれぞれの検知機構から出力される接触検知出力に基づいて、ブレーキ機構125aそれぞれのブレーキパッド307がブレーキ被制動面124uに接触したときのブレーキ機構間における既定の駆動指令の状態差Vbaを取得し、この取得した既定の駆動指令の状態差Vbaを基に、ブレーキ機構毎に、ブレーキ作動時のアクチュエータ301の駆動状態に該当する最終駆動指令Vat,…を決定し、ブレーキ機構125aそれぞれのアクチュエータ301を、この決定した対応する前記ブレーキ機構の最終駆動指令により駆動する。 (もっと読む)


【課題】複数の外観検査装置から出力される外観不良箇所の位置情報が大きな誤差をもつことが原因で、実施が困難な工程トレースを通常の自動撮像時に同時に実行する。
【解決手段】外観検査装置から出力される外観不良箇所の位置を、SEM式レビュー装置内の絶対座標として記憶し、工程が異なっても、ユーザーが指示した絶対座標の自動撮像を実施することによって工程トレースが容易に実施可能となる。 (もっと読む)


【課題】基板に形成された下地パターンの上に新たなパターンを露光する際、下地パターンの歪みが基板内で場所によって異なっても、新たなパターンを基板全体に渡って下地パターンに合わせて露光する。
【解決手段】下地パターンが形成され、下地パターンの上にフォトレジストが塗布された基板1の表面を複数の区画に分割し、分割した区画毎に下地パターンの歪みを検出し、検出結果に基づき、分割した区画毎の下地パターンの歪みに応じて、描画データを補正する。基板1をチャック10に搭載し、チャック10と、光ビームを変調する空間的光変調器、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路、及び空間的光変調器により変調された光ビームを照射する照射光学系を有する光ビーム照射装置20とを、相対的に移動し、光ビーム照射装置20からの光ビームにより基板1を走査して、基板1にパターンを描画する。 (もっと読む)


【課題】所望の部分のみの画像データを高速に取得し、検査することにより短時間で効率良い検査を実施可能な外観検査装置を提供する。
【解決手段】ROI検査機能を備えた外観検査装置において、設定された領域指定条件に基づき、半導体ウェーハ上に配置する走査ストライプの画像から参照画像形成用の画像データを位置合わせ用のマージンを含んで切り出す。切り出された複数枚の画像データを加算平均してROI検査用の参照画像を合成する。更に、参照画像用の画像データの切出しの際に所定の禁則条件を設けて、誤判定を防止する。 (もっと読む)


【課題】
検出画素ずれおよび画素割れによる影響を回避し、概略同一の領域から発生する散乱光同士を加算可能にする欠陥検査装置および欠陥検査方法を提供することを目的とする。
【解決手段】
被検査対象物の所定の領域に照明光を照射する照明光学系と、前記照明光学系の照明光による該被検査対象物の所定の領域からの散乱光を複数画素で検出可能な検出器を備えた検出光学系と、前記検出光学系の検出器により検出した散乱光に基づく検出信号について、該被検査対象物の表面に対して垂直な方向の変動に起因する画素ずれを補正する補正部と前記補正部により補正された検出信号に基づいて該被検査対象物の表面の欠陥を判定する欠陥判定部とを備えた信号処理部と、を有する欠陥検査装置である。 (もっと読む)


【課題】現用のZr/O/W電子源よりも電子放出面の仕事関数を減少させ、狭エネルギー幅かつ高電流密度の放出電子が得られ、長寿命な電子源を提供し、高分解能像が短時間に得られる電子顕微鏡や高スループットな電子線描画装置を実現する。
【解決手段】先端を針状にした金属からなる針状電極104と、前記針状電極を加熱する発熱体103からなる電子源において、前記電子源は前記発熱体により加熱可能な拡散源を有し、酸素を含むバリウム化合物と炭素粒子の混合物を拡散源106とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、より理想的な荷電粒子線装置の分解能評価用の標準試料を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明では、荷電粒子線装置の試料作成方法であって、基板表面に微細な凹凸を形成するステップと、前記基板にコロイド金属又はイオン液体に分散した金属微粒子を滴下するステップと、前記基板に滴下した溶液を除去するステップと、を有することを特徴とする試料作成方法を提供する。また、荷電粒子線装置の試料作成方法であって、基板表面に微細な凹凸を形成するステップと、前記基板表面にスパッタにより金属微粒子を付着させるステップと、を有することを特徴とする試料作成方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】光学的な検査により検出した欠陥の位置情報を用いてリード・ライトテストのサンプリング位置を決定することにより、光学的な検査により検出した欠陥の近傍領域だけをリード・ライトテストするようにして、リード・ライトテストを効率よく行えるようにする。
【解決手段】検査対象の磁気ディスクをスピンドルで保持した状態で光学式の検査装置とリード・ライトテスト装置との間を移動させる構成とし、光学式の検査装置で検出した欠陥の位置情報をリード・ライトテスト装置で用いることができるようにして、光学式の検査装置で検出した欠陥の近傍領域だけをリード・ライトテスト装置で検査することを可能にした。 (もっと読む)


【課題】分注機構により試料,試薬を反応容器に分注し、攪拌機構により攪拌した後、分光光度計により吸光度を測定する自動分析装置において、分析異常が発生したときの原因究明を容易にする。
【解決手段】所定量の試料を分注するサンプルプローブ,所定量の試薬を分注する試薬分注プローブ,該サンプルプローブ,該試薬分注プローブにより分注された試料と試薬を混合する反応容器,該反応容器中の混合液を攪拌する攪拌機構、を備えた自動分析装置において、分析結果を表示する表示画面に、サンプルプローブ,試薬プローブ,撹拌機構,反応容器の少なくともいずれかのボタンを表示し、該表示画面上に表示されたいずれかの分析結果を指定して、該ボタンを押下した場合に、サンプルプローブ,試薬プローブ,撹拌機構,反応容器を介して当該分析の結果に影響を与える可能性のある分析項目に関する情報を表示するように制御する。 (もっと読む)


【課題】分岐後のレーザ光のそれぞれについて、その加工箇所でレーザ光の特性を測定できるようにする。
【解決手段】第2スクライブ線P2及び第3スクライブ線P3の加工時には、その加工部から加工残渣61が薄膜面から発生するので、この加工残渣が膜面へ再付着しないように、エアパージ・残渣吸引手段60a〜60dを用いて膜面側(ガラス基板1の裏面側)からエアパージすると共にその残渣を吸引除去している。レーザ光の状態を検査する際に、エアパージ・残渣吸引手段60a〜60dを退避移動させた後に、レーザ状態検査手段28をそのエアパージ・残渣吸引手段60a〜60dの退避移動前の位置に移動させて、ワーク1の加工面に向かうレーザ光41〜44を観察してレーザ光41〜44の状態を検査するようにした。 (もっと読む)


1,121 - 1,130 / 4,325