説明

株式会社日立ハイテクノロジーズにより出願された特許

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【課題】本発明は、分光反射強度に含まれる迷光成分を低減し、パターンドディスク表面のパターン形状を精度よくまたはパターン欠陥を確実に検出できるハードディスクメディアの検査装置または検査方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、パターンが形成されたハードディスクメディアの表面に複数の波長を含む光を照射し、波長毎に検出される反射光の強度を前記ハードディスクメディアからの反射光を検出する検出器に発生する迷光成分の強度で補正し、前記補正された反射光の強度から分光反射率を算出することを第1の特徴とする。前記補正は、前記ハードディスクメディアからの反射光の強度を前記反射光の短波長領域をカットした状態とカットしない状態で波長毎に検出し、両者の前記反射光の強度との差に基づいて行なうことを第2の特徴とする (もっと読む)


【課題】処理室が連結されている搬送機構部に、複数の真空ロボットが配され、複数の真空ロボット間で被処理体の受け渡しが行われる線形ツールの真空処理装置において、効率の良い搬送の制御方法を提供する。
【解決手段】複数の制御方法を備え、被処理体の処理時間から搬送ロボットが律速となるか、処理室が律速となるかを判定し、その律速する部位に応じた制御方法に切り替える手段を備えた真空処理装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】複数種類のサーボ信号に対して1つのサーボ信号検出部でサーボ信号検出を可能にすることで、安価な検査装置を提供する。
【解決手段】被検査対象物からのサーボ信号をサンプリングして余弦値および正弦値を得る余弦・正弦値検出部106と、余弦・正弦値検出部で得られた余弦値および正弦値に基づき、少なくとも振幅情報と位相情報とを得る振幅・位相検出部202と、振幅・位相検出部で得られた振幅情報および位相情報に基づき、被検査対象物のサーボ方式を選択し、被検査対象物の位置を検出するサーボ選択・位置検出部301と、を有する。 (もっと読む)


【課題】計測した光学検出器の光電子増倍係数を基に計算した補正印加電圧を用いて光学検出器を駆動して補正値を検査することにより、基準となる試料を必要とすること無く、光学検出器の出力値を補正することが可能な表面検査装置を実現する。
【解決手段】表面検査装置において、個々の光学検出器8a〜8cの光電子増倍係数を計測し、計測した光電子増倍係数を基に制御部11が補正印加電圧を計算する。表面検査装置に組み込まれた検出器8a〜8cのそれぞれについて、計算した補正印加電圧を用いて光学検出器8a〜8cを駆動して補正値を検査する。これにより、基準となる試料を必要とすること無く、光学検出器の出力値を補正することが可能な表面検査装置を実現することができる。 (もっと読む)


【課題】大気圧プラズマCVDでは、成膜レートがプラズマギャップ(電極−成膜用基板間距離)に非常に敏感である。1m角を越える大型基板に大気圧プラズマCVDで薄膜を形成する場合、基板のうねり等のために電極−成膜用基板間距離が変動すると、成膜レート、膜厚が変動し、それによって太陽電池の出力が変動するしてしまう。
【解決手段】
大気圧プラズマCVD装置において、ガス供給手段で電極とテーブルとの間に大気圧中でCVD原料ガスを供給しながら電極とテーブルとの間に大気圧中で高周波電力を印加することにより電極と試料との間にプラズマを発生させた状態で駆動手段で電極をテーブル手段に沿って移動させている間に電極とテーブルとの両方を制御して電極とテーブルとの間隔を制御することにより、基板にうねりがあっても基板上に均一な膜厚の薄膜を形成できるようにした。 (もっと読む)


【課題】マイクロ波を用いたプラズマ処理装置において、広いプラズマ処理条件に対してマイクロ波の円偏波化が達成され、軸対称性の良いプラズマ処理特性を得ることのできるプラズマ処理装置の実現と処理方法を提供する。
【解決手段】反射波が有っても、マイクロ波の円偏波化が行える円偏波発生器を用いてプラズマ処理の軸対称性を高めるため、円矩形変換器402の円形導波管405側にスタブ403および404を設け、スタブ403および404は円柱状で先端部は半球状とした。 (もっと読む)


【課題】出力波高値の変動を抑え、高いSN比を備える荷電粒子線装置を提供することを課題とする。
【解決手段】荷電粒子線装置において、出力信号が当該検出器へ一つの荷電粒子が入射される状態における出力信号であるか、当該検出器へ複数の荷電粒子が入射される状態における出力信号であるかを判定する判定部と、前記出力信号が当該検出器へ一つの荷電粒子が入射される状態における出力信号であると判断された場合には、パルスカウント法による信号処理により画像形成を行い、前記出力信号が当該検出器へ複数の荷電粒子が入射される状態における出力信号であると判断された場合には、アナログ法による信号処理により画像形成を行う演算部を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。 (もっと読む)


【課題】光量変化を保ちながら気泡・ごみの影響を低減するデータ処理方法。
【解決手段】前方方向に2つの散乱光受光器を配置し、光軸に近い側の受光器33aを主角度受光器とし、光軸から遠い側の受光器33bを副角度受光器とする。副角度受光器の反応過程データからノイズを推定し、推定したノイズを主角度受光器の反応過程データから差引くことによりノイズを低減する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、大面積に成膜形成が可能なESD装置及びESD方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、材料を溶かした溶液に電圧を印加し、前記印加によって生じる電荷を有する噴霧液を処理対象に向けて噴霧し、前記印加を前記処理対象を搭載する搭載部との間で行なうに際し、前記噴霧は前記溶液を有し噴霧口を有する複数のノズル部で行ない、前記印加は隣接するノズル部から噴霧される噴霧液間の静電反発を抑制するように制御されることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】プラズマ密度の凸分布傾向を改善したマイクロ波プラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】プラズマ処理装置の伝送系が円形導波管を用いて構成され、電磁波供給機構が該円形導波管に接続された略円柱状の空洞部からなり、該空洞部にリッジ301を設けること、あるいは、リッジ301とテーパ導波管401を併用することでマイクロ波の中心集中傾向を改善する。 (もっと読む)


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