【課題】有機ＥＬ素子の大型蒸着マスクを効率よく洗浄し、蒸着マスクの利用回数を上げることができる装置を実現する。
【解決手段】蒸着マスク２は第１の面と第２の面を有し、前記第１の面には蒸着剤が付着しており、前記蒸着マスクの第１の面の周辺が前記蒸着マスクよりも厚さの大きい枠部３に取り付けられている。レーザ照射手段によって、第１の面にレーザ１０を照射して蒸着剤を蒸着マスクから剥離する。ノズルを有する第１の洗浄手段６によって蒸着マスクの第１の面に洗浄液を照射し、ノズルを有する第２の洗浄手段６によって超音波を印加した洗浄液を蒸着マスクの第２の面に照射する。これによって、蒸着マスク２の近傍において、超音波が印加された洗浄液を照射することが出来る。したがって、蒸着マスクを効率よく洗浄することが出来る。 （もっと読む）

【課題】第一に電子顕微鏡画像と光学画像の視野のずれを最小限にすることであり、第二にデジタル映像機能を備えた光学画像装置により得た色情報を電子顕微鏡画像に付加することであり、第三に、装置の全体の構造を簡略化することである。
【解決手段】ミラー兼用反射電子検出器を使用し、試料に入射する電子ビームと、光学画像装置からの光軸を一致させることを最も主要な特徴とする。反射電子検出器に光学ミラーの機能を付加することで装置の全体の構造を簡略化するとともに、電子顕微鏡のビーム軸と光学画像装置の光軸を一致させる。 （もっと読む）

【課題】
ＤＣ消去のイレーズヘッドを交換することなく、逆極性でも磁気ディスクの書込信号をＤＣ消去することができ、それによる磁化によりＤＴＭ等に対しても“０”あるいは“１”のサーボ情報を選択的に設定することが容易にできる磁気ディスクの信号イレーズ装置を提供することにある。
【解決手段】
この発明は、第３および第６のヨークブロックを第１および第２の磁気ヘッドブロックの外側からそれぞれ第２および第５のヨークブロックあるいは第１および第４のヨークブロックのいずれかに装着することで、装着されたヨークブロックの端面に着磁される磁極を分散させて磁気ディスクを磁化を阻止し、第３および第６のヨークブロックが装着されていないヨークブロックの端面は強い磁極のままとして磁気ディスクを磁化する。これにより、イレーズヘッドを交換することなく、相互に反対方向の磁化磁極が選択できる。 （もっと読む）

【課題】
ダイポール式のＪ−Ｒ電極を用い、安定な静電吸着の確保とプラズマ電位の上昇による異常放電の抑制が可能なプラズマ処理装置および方法を提供する。
【解決手段】
ダイポール式のＪ−Ｒ電極（内側吸着電極１５、外側吸着電極１６）を備えた静電吸着装置２を有するプラズマ処理装置において、内側吸着電極１５及び外側吸着電極１６から流れるリーク電流をリーク電流検出計３０で検出し、検出されたリーク電流の差が所定の範囲内となるように内側吸着電極１５及び外側吸着電極１６へ印加される電圧を制御部３１で制御する。 （もっと読む）

【課題】マスクホルダを空気圧で支持しながら、マスクホルダをＺ方向へ移動及びチルトして、マスクと基板とのギャップ制御を行う際、ギャップ合わせ後にマスクホルダが下降するのを防止して、マスクと基板とのギャップ制御を短時間で行う。
【解決手段】空気圧回路から空気圧支持装置２３へ圧縮空気を供給し、マスクホルダ２０を空気圧支持装置２３により空気圧で支える。空気圧支持装置２３を空気圧回路から遮断して、空気圧支持装置２３内の空気を密封しながら、複数のＺ−チルト機構３０によりマスクホルダ２０をＺ方向へ移動及びチルトして、マスク２と基板１とのギャップ合わせを行う。ギャップ合わせ後に、空気圧支持装置２３から空気が流出せず、マスクホルダ２０が下降しない。 （もっと読む）

【課題】従来技術ではデュアルダマシン構造Ｖｉａ工程のＬｏｗ−Ｋ膜エッチング後の孔底部のエッチングにおいて、ストッパ膜のエッチングが進行しない課題があった。
【解決手段】本発明はプラズマエッチングするデュアルダマシンプロセスにおいて、デュアルダマシンプロセスのＶｉａ加工方法は、Ｖｉａパターニングされた上層レジスト膜をマスクとして反射防止膜をエッチングする第１ステップと、上層レジスト膜及び反射防止膜をマスクとして下層レジスト膜をエッチングする第２ステップと、下層レジスト膜をマスクとして前記Ｌｏｗ−Ｋ膜をエッチングする第３ステップと、ストッパ膜のエッチング前にプラズマ処理を行う第４ステップと、ストッパ膜をエッチングする第５ステップとを有することである。 （もっと読む）

【課題】被検査対象物の検査の実行には、多数の検査条件データの設定が必要である。しかし、オペレータが各項目に、検査条件データのパラメータを任意の数値によって設定する方法は作業負担が大きい。また、設定作業に個人差が現れるパラメータもある。
【解決手段】オペレータが必要最低限のパラメータを最初に設定すると、当該パラメータに基づいて検査装置が被検査対象物を自動的に評価し、評価結果から被検査対象物の検査に必要な検査条件データのパラメータを算出し、検査レシピを自動的にセットアップする。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ用蒸着マスクのクリーニングを行うときに、有機ＥＬ用蒸着マスクに応じた適切なエネルギーを設定することを目的とする。
【解決手段】有機材料が付着した有機ＥＬ用蒸着マスク２の表面に対してレーザ光Ｌを走査して有機材料を剥離するレーザ走査手段４と、有機ＥＬ用蒸着マスク２のうち一部の領域にレーザ光Ｌをテスト走査させるレーザ制御部５５と、有機ＥＬ用蒸着マスク２のうちテスト走査を行った部位の有機材料が剥離されたか否かを検出する画像処理部５２と、画像処理部５２の検出結果に基づいて、有機ＥＬ用蒸着マスク２に照射されるレーザ光Ｌの照射条件を補正する電流補正部５３およびフォーカス補正部５４と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】高感度にＲＯＩ領域の欠陥発生頻度や特性尤度の効率的なモニタリングをする。
【解決手段】ステージの連続移動に同期して、マトリクス状に配置した複数の電子線をステージ移動方向に間引いて回路パターンに照射し、発生する二次電子等を取得し、同一領域で取得した画像を加算平均することで高速にしかも高ＳＮの画像を取得し、取得画像より回路パターンの欠陥を判定する。ステージ移動と垂直方向への移動時に隣接領域ではなく、間引いて画像取得することで、ＲＯＩ領域のみ、又は回路パターン全体の欠陥発生頻度や特性尤度を効率的にモニタリングする。 （もっと読む）

【課題】異物の発生を抑制するとともに処理ガスを被処理基板中心部から導入することにより、エッチングレートを向上する。
【解決手段】真空容器１０１、該真空容器内に配置され被処理材である試料を載置して保持する試料載置用電極１０２、アンテナコイルを備え、前記真空容器内に供給された処理ガスに前記アンテナコイルを介して高周波電界を供給してプラズマを生成し、生成されたプラズマを用いて前記試料にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置において、前記試料載置電極の試料載置面に対向して電界透過窓およびアンテナコイルを備え、前記電界透過窓は放射状に形成した複数の流路を備え、処理ガスを前記透過窓に形成した流路の外周側から供給して内周側から真空容器内に給気するとともに、前記試料載置電極の外周の前記真空容器内周側を通して排気する。 （もっと読む）