本発明は、ケアおよびメイキャップの分野で使用される化粧品組成物に関する。連続水相、脂肪相および微細で多孔質性のコポリアミド粉末の粉状相を主に含むこの組成物は、クリーム状、液体またはゲル化組成物の形態である。これは特にエマルジョンであるが、脂肪相と水相が分離している２相の配合物または組成物であってもよい。本発明はより具体的には、水中油型エマルジョンの場合、連続水相を有するケアおよび／またはメイキャップ化粧品組成物に特に関する。 （もっと読む）

本発明は、食品で、特に酪農製品で汚れたポリオレフィン系材料の表面を洗浄する方法に関する。より詳細には、本発明は、食品で、特に酪農製品で汚れた１種または複数のハロゲン化または非ハロゲン化ポリオレフィンをベースとする材料を洗浄する方法であり、特に、環境に対してだけでなく、汚れたポリオレフィン系材料に対しても損耗および断裂を最小にして安全である方法に関する。本発明によれば、汚れた材料は、１から４個の間の炭素原子を有するアルカンスルホン酸をベースとする水性組成物と接触される。 （もっと読む）

【課題】ニトロオキシドの存在下での制御されたラジカル重合によるブロック共重合体の生産と、その脆い重合体マトリックスの強化での使用。
【解決手段】少なくとも３つのブロックを有するブロック共重合体のラジカル合成。一つのブロックのガラス遷移温度は0℃以下、熱可塑性の端部ブロックのガラス遷移温は0℃以上であり、従って、耐衝撃性を強化すべきマトリックスとの相容性に優れている。 (i)コポリマー合成および使用が簡単になり、(ii)は脆いマトリックス中にコポリマー分子を細かく分散でき、それによって材料が透明かつ耐衝撃強度が高くなるという利点がある。 （もっと読む）

【課題】新規な共触媒の存在下でビスフェノール類を製造する方法を提供する。
【解決手段】式中、記号Ｒ及び（Ｒ’）が各々水素原子、アルキル基又はフェニル基を表わし、記号Ｒ’’が場合によっては置換されたアルキル基を表わす、一般式（Ｉ）のジチオエーテルを共触媒として使用することによって実施する、強酸触媒と共触媒の存在下でフェノールとアセトンを反応させることから成る、ビスフェノールＡを製造するための連続的方法。
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【課題】グリセロール水溶液を気化すると同時に、この溶液中に存在するか蒸発中に生じる不純物を除去することができる一段階プロセス。
【解決手段】不活性固体を含む流動床中でグリセロール水溶液を気化する方法。 （もっと読む）

【課題】再生可能原料からのカーボンナノチューブの製造方法の提供。
【解決手段】ａ）少なくとも１種の植物質の発酵によりアルコールを合成し、得られた生成物を場合により精製する段階と、ｂ）第１の反応器３で、アルケンと水との混合物を生成するために、ａ）で得たアルコールを脱水し、生成物を場合により精製する段階と、ｃ）４５０〜８５０℃の温度で粉末状触媒を第２の反応器７に導入し、特に流動層に導入する段階であって、触媒が不活性固体基体により担持された少なくとも１種の触媒金属を含み、触媒の粒子が３００μｍ未満のｄ５０を有する段階と、ｄ）アルケンの触媒分解により触媒の表面上にカーボンナノチューブおよび水素を形成するために、場合により流動層でｂ）で製造されたアルケンをｃ）の粉末状触媒と接触させる段階と、ｅ）ｄ）で製造されたカーボンナノチューブを回収する段階とを含む。 （もっと読む）

【課題】フルオロポリマーへの不飽和モノマーのグラフト方法と、得られたグラフト化ポリマーを含む多層構造物。
【解決手段】 下記（a）〜（d）の段階を特徴とする方法：（a）フルオロポリマーを不飽和モノマーと溶融混合し、（b）得られた混合物をフィルム、シート、顆粒または粉末の形にし、（c）得られた生成物に空気の非存在下で光子(γ)または電子(β)を線量1〜15Mradで照射し、（d）必要な場合にはさらにフルオロポリマーにグラフトしていない不飽和モノマーを除去する処理する。得られたグラフト化ポリマーからなる少なくとも1つの層と、別の材料からなる少なくとも１つの層とを有する構造物はガソリンおよび空調用流体に対する遮断性に優れ、壜、タンク、コンテナ、パイプ、容器、包装材料用フィルムに加工できる。基材の保護層としても用いられる。 （もっと読む）

【課題】再生可能な原料からアクリロニトリルを合成する新規な方法。
【解決手段】気相でのグリセロールのアンモ酸化によるアクリロニトリルの製造方法。この方法は一段階で行うか、グリセロールに予め脱水段階を実施してから行なうことができる。得られたアクリロニトリルは環境に優しい化学という条件に合う。 （もっと読む）

【課題】複合材料と、この複合材料の製造方法と、その使用。
【解決手段】複合材料が下記（１）〜（３）を含む組成物から得られる：（１）５０（５０を含まない）〜９０重量％の少なくとも一種のポリアミド、（２）１０〜５０重量％のポリ乳酸（ＰＬＡ）、（３）０〜３０重量％の少なくとも一種の相溶化剤。 （もっと読む）

本発明は、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）の結晶点を低下させるためのジメチルスルホキシド添加剤としての、少なくとも１種類のジオールおよび／または少なくとも１種類のトリオールの使用に関する。ＤＭＳＯ配合物は、上記添加剤と共に、塗料剥離組成物、表面洗浄組成物、落書き洗浄組成物、マイクロエレクトロニクス分野における表面洗浄組成物、例えばフォトレジスト剥離剤、ＤＭＳＯ系農薬組成物として、または上記組成物の成分として、ポリマーを溶解させる溶媒として、または美容術もしくは薬学の分野で有用な組成物の成分として使用される。 （もっと読む）