説明

エア プロダクツ アンド ケミカルズ インコーポレイテッドにより出願された特許

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通常の運転酸化剤又は通常の運転燃料が途絶える又は一時的に減少するときに、燃焼を継続させるための燃焼器具を有する器具。空気若しくは酸素富化空気又は酸素、及びガス状燃料若しくは液体燃料又はガス状燃料と液体燃料の両方を、通常の酸化剤−燃料混合体の代わりにその燃焼器具に導入して、燃焼をもたらし、且つ炉内の加熱水準を維持する。バーナーは、次の9つの燃焼様式のいずれか1つを燃焼させることができる:空気−ガス;空気−酸素−ガス;酸素−ガス;空気−オイル;空気−酸素−オイル;酸素−オイル;空気−オイル−ガス;空気−酸素−オイル−ガス;酸素−オイル−ガス。 (もっと読む)


ポリウレタンは、イソシアネート、ポリエーテルジオールおよびポリエステルジオールから形成され、上記ポリエステルジオールは、約2,000未満の分子量を有するか、または立体障害基によってつながれる2個のポリエステルジオールセグメントを含み、上記ポリエステルジオールセグメントの各々は、約2,000未満の分子量を有し、ポリエステルジオール 対 ポリエステルジオールのモル比は、約1:9〜約9:1の範囲である。上記ポリウレタンは、電気光学ディスプレイにおける、およびこのようなディスプレイを形成するために使用される成分における積層接着剤として有用である。
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【課題】CoWPが露出したパターン化ウェハを、CoWPの完全性を維持したままで洗浄することのできる優れた湿式洗浄方法を提供すること。
【解決手段】本発明は、CoWPフィーチャーを有する半導体基板から発生するエッチング後残渣および灰化後残渣を除去するための湿式洗浄処方物であって、脱イオン水;有機酸;アミンおよび/または水酸化4級アンモニウム;からなり、前記処方物はCoWPフィーチャーと適合性があり、かつ、(a)アミンおよび/または水酸化4級アンモニウムの有機酸に対するモル比によってpHが7〜14の値をとる;あるいは、(b)前記処方物は腐食防止剤を含む、のいずれかであることを特徴とする。前記処方物を使用した方法についても記載する。 (もっと読む)


【課題】炭窒化ケイ素膜形成用前駆体の化学気相成長により基材上に膜を形成するための方法を提供する。
【解決手段】


式中、Rが、直鎖、分枝若しくは環状の飽和若しくは不飽和のC1〜C10アルキル基、芳香族、複素環、又は式Cのシリルから選択され、R1が、直鎖、分枝又は環状の飽和又は不飽和のC2〜C10アルキル基、芳香族、複素環、水素、シリル基から選択され、置換基を選択的に有無し、式A中のRとR1を結合して環状基(CH2n(式中、nは1〜6)にしてもよく、R2が、単結合、(CH2n鎖、環、SiR2又はSiH2を表すアミノシランからなる前駆体及び混合物を用いる。 (もっと読む)


【課題】混合導電性金属酸化物材料から製作される物品及びシステムを加熱及び冷却する際に寸法変化によって機械的損傷が生じる可能性を低くするための改善された方法を提供すること。
【解決手段】酸化体供給側、酸化体供給面、透過側、及び透過面を有する酸素透過性の混合導電性膜を操作する方法であって、透過面と酸化体供給面の間の差ひずみを膜の酸化体供給側と透過側の一方又は両方の酸素分圧を変化させることにより選択された最大値未満の値に制御することを含む、方法によって上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】有機シリケート(OSG)膜内の炭素含有種の少なくとも一部分を除去すること。
【解決手段】本明細書中に記載されているのは、酸化剤等の、しかし酸化剤に限られない薬品を用いてOSG膜を処理する工程、OSG膜紫外線を含むエネルギー源に曝す工程、またはOSG膜を薬品で処理する工程およびOSG膜をエネルギー源に曝す工程により、有機シリケート(OSG)膜内の炭素含有種の少なくとも一部分を除去するための方法である。 (もっと読む)


低誘電率及び優れた電気特性等の改良されたバリア誘電体特性を有する、ケイ素、炭素、酸素及び水素を有する前駆体を含む誘電体バリアフィルムを堆積させるための方法を与える。この方法は、相互接続構造のためのダマシン又は二重ダマシン集積で、又は他の誘電体バリア用途で用いられるバリア層に関して重要となるであろう。この例では、バリア性能を改良する特定の構造特性が注目される。
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【課題】小型、携帯型の急速サイクルPSA酸素濃縮器において不純物、特に水を除去するための改善された方法を提供すること。
【解決手段】酸素生成のPSA法であって、(a)水に対して選択的な吸着剤から成る第1層と、窒素に対して選択的な吸着剤から成る第2層とを有する吸着装置を用意し、第1層内の吸着剤上の水の吸着熱が、1グラム当たりの水のローディング量が約0.05mmol未満であるときに約14kcal/mole以下であり;(b)少なくとも酸素と窒素と水とを含む供給ガスを、第1層及び第2層に連続して通し、吸着剤第1層内の水を吸着し、そして、吸着剤第2層内の窒素を吸着し、第1層内の水の物質移動係数が約125〜約400sec-1であり、そして第1層内の供給ガスの表面接触時間が約0.08〜約0.50secであり;そして(c)吸着装置から、酸素富化された生成物を回収する、ことを含む、酸素生成のためのPSA法。 (もっと読む)


【課題】イオン性不純物をppbレベルにまで精製した化学試薬から合成される誘電率3.7以下で、なおかつ、優れた機械的強度を有する高性能材料および高性能材料を含む膜(フィルム)を提供すること。
【解決手段】誘電率約3.7以下の高性能材料を製造するための化学試薬の混合物であって、(A)シリカ源、(B)5〜75重量%のエチレンオキシド基を含むポロジェン、(C)カルボン酸、カルボン酸陰イオン、カルボン酸エステル、またはそれらの組合せからなる群から選択されたカルボン酸塩、(D)イオン性添加物を含み、少なくとも一つの化学試薬が1ppm以上の金属不純物レベルを有する場合には、該化学試薬を混合物に添加する前に精製して混合する混合物。該混合物の使用により高性能膜及び高性能膜を含む半導体装置が得られる。 (もっと読む)


閉ループ冷却装置を用いて、供給ガスを液化する。ここで、圧縮し、冷却したガス状冷媒流れ(150)を膨張させて(136)、実質的に気相である第一の膨張したガス状冷媒流れ(154)を得る。これを用いて、間接的な熱交換(110)によって、供給ガス流れ(100)を冷却し、実質的に液化する。実質的に液化した供給ガス流れ(102)を、好ましくは、第二の膨張したガス状冷媒流れ(172)との間接的な熱交換(112)によってサブクール化する。第二の膨張したガス状冷媒流れも、実質的に気相であり、且つ圧縮し、冷却したガス状冷媒流れ(170)、又は第一の膨張したガス状冷媒流れ(152)によって与えることができる。圧縮したガス状冷媒流れ(146)に関する冷却負荷を、第一に膨張したガス状冷媒流れ(152)の一部(160)、上記供給ガスとの熱交換(110)によって部分的に温まったガス状冷媒(156)、及び/又は上記サブクール化(112)によって部分的に温まった第二のガス状冷媒流れ(174)が担う。 (もっと読む)


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