説明

エア プロダクツ アンド ケミカルズ インコーポレイテッドにより出願された特許

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【課題】最高速度において及びターンダウン中において安定しておりかつ運転が可能である、より大容量の液化プラント向け液体天然ガス液化装置及び方法を提供する。
【解決手段】少なくとも天然ガス原料流を受け入れる第1の予冷却用冷凍システム106と、少なくとも第1の冷媒流を受け入れる第2の予冷却用冷凍システム108と、第1の予冷却用冷凍システム106及び第2の予冷却用冷凍システム108に連通しており、第1の予冷却用冷凍システムから天然ガス原料流をそして第2の予冷却用冷凍システムから第1の冷媒流を受け入れて天然ガス原料流を液化する低温熱交換器146と、を含む天然ガス液化装置であって、第2の予冷却用冷凍システム108が、第1の予冷却用冷凍システム106によって受け入れられる流れ(単数又は複数)とは異なる組成を有する流れ(単数又は複数)のみを受け入れる。 (もっと読む)


【課題】クリプトン及び/又はキセノンの回収方法と装置を提供すること。
【解決手段】酸素と、クリプトン及びキセノンからなる群より選ばれる少なくとも1種の希ガスとを含み混合物から、当該混合物又はそれに由来する混合物を希ガス回収系へ供給しこの混合物原料を当該希ガス回収系において分離して希ガスの減少した気体酸素(GOX)と希ガスを富化した製品とにすることを含む方法でもって、クリプトン及び/又はキセノンを粗く分離する。この方法は、当該混合物の少なくとも約50モル%を希ガス回収系へ気相でもって供給し、但し当該混合物原料を選択的な吸着により分離する場合には、当該混合物原料中のキセノン濃度は空気中のキセノン濃度の50倍以下であることを特徴とする。本発明の好ましい態様の一つの利点は、それを既存のポンプ移送液体酸素サイクルの空気分離装置に容易に追加導入できることである。 (もっと読む)


【課題】クリプトン及び/又はキセノンの回収方法と装置を提供すること。
【解決手段】酸素と、クリプトン及びキセノンからなる群より選ばれる少なくとも1種の希ガスとを含み混合物から、当該混合物又はそれに由来する混合物を希ガス回収系へ供給しこの混合物原料を当該希ガス回収系において分離して希ガスの減少した気体酸素(GOX)と希ガスを富化した製品とにすることを含む方法でもって、クリプトン及び/又はキセノンを粗く分離する。この方法は、当該混合物の少なくとも約50モル%を希ガス回収系へ気相でもって供給し、但し当該混合物原料を選択的な吸着により分離する場合には、当該混合物原料中のキセノン濃度は空気中のキセノン濃度の50倍以下であることを特徴とする。本発明の好ましい態様の一つの利点は、それを既存のポンプ移送液体酸素サイクルの空気分離装置に容易に追加導入できることである。 (もっと読む)


【課題】銅、銀、金、コバルト、ルテニウム、ロジウム、白金、パラジウム、ニッケル、オスミウム又はインジウムを含有する金属ケトイミナート又はジイミナート錯体と、その製造及び使用方法の提供。
【解決手段】Cu(I)ケトイミナート錯体、例えばCu(MeC(O)CHC(NCH2CH2OSiMe2(C2H3))Me)の合成は、1種以上の塩基を用いて、アミンとβ−ジケトン化合物との反応由来のβ−ケトイミン中間生成物を脱プロトン化するか、又はβ−ケトイミン中間生成物とアミンもしくはアンモニアとの反応由来のβ−ジイミン中間生成物を脱プロトン化して、その後Cu(I)に対しキレート化してそれぞれβ−ケトイミン又はβ−ジイミン錯体のいずれかを生じさせることによって、Cu(I)錯体を調製することで得られる。 (もっと読む)


【課題】酸素に富む気体の製造装置と方法を提供すること。
【解決手段】酸素に富む気体を製造するための装置は、(a)第1及び第2のコンプレッサを含み、重量Wpにより特徴づけされる主気体ポンプ、(b)第1及び第2のコンプレッサを駆動するように適合された駆動モータ、(c)重量Wbによって特徴づけされる充電式電源、及び(d)加圧原料空気を生成物流量Fpの酸素に富む生成物と酸素欠乏廃気とに分離するように適合され、吸着剤を収容する複数の吸着床を含み、吸着剤の合計重量Waにより特徴づけされる圧力/真空スイング吸着ユニット、を含む装置であり、吸着剤、主気体ポンプ及び充電式電源の総重量Wtが、式
0.75Fp<Wt<2.02Fp
で特徴づけられ、式中のFpはリットル/分(23℃、1atma圧力での)単位であり、Wa、Wp及びWbはポンド単位である、酸素に富む気体の製造装置である。 (もっと読む)


【課題】剥離するのが困難な窒化チタン膜を二酸化ケイ素および窒化ケイ素被覆された表面から除去するのに用いることができる新規なエッチング剤を提供する。
【解決手段】半導体堆積チャンバーおよび半導体用具、微小電気機械システム(MEMS)における装置、およびイオン注入システムのための洗浄もしくはエッチングにおいて、例えばケイ素、モリブデン、タングステン、チタン、ジルコウム、ハフニウム、バナジウム、タンタル、ニオブ、ホウ素、リン、ゲルマニウム、ヒ素およびそれらの混合物を、二酸化ケイ素、窒化ケイ素、ニッケル、アルミニウム、TiNi合金、フォトレジスト、リンケイ酸ガラス等およびそれらの混合物から、選択的に除去する場合に、Xeをフッ素含有化学物質と反応させてXeFを形成しエッチング剤として用いる。 (もっと読む)


【課題】水に簡易に分散することができ、そして有用な貯蔵寿命及び、溶液内で安定な、本質的な導電性ポリマーの製造方法を提供する。
【解決手段】次の式:


(式中、XはS又はSeであり、X及びYの一方又は両方はSeである)なる化合物、及び少なくとも1種のポリアニオンからなる混合物を反応させる。 (もっと読む)


【課題】CMP後洗浄組成物およびそれを含む方法を提供すること。
【解決手段】洗浄組成物において、その組成物のpHが9.5〜11.5の範囲にあり、水、有機塩基、ならびにアミノポリカルボン酸およびヒドロキシルカルボン酸を含む複数のキレート剤を含むように構成する。 (もっと読む)


【課題】低分子量、低融点(100℃以下)、及び高蒸気圧(0.5torr以上)の性質を示す第4族前駆体、及び共形(コンフォーマル)な金属含有膜を基板上に製造するための堆積プロセスの提供。
【解決手段】第4族金属含有前駆体は、下記式I:


(式中、MはTi、Zr、及びHfから選択される金属)により表される。 (もっと読む)


【課題】広範囲の電子用途向けの導電性ポリマーを形成することができるモノマーの製造方法を提供すること。
【解決手段】式(1)の化合物の調製方法であって、式(2)を有する第1の反応物質を準備するステップ;金属還元剤の存在下で第1の反応物質を還元して、式(3)を有する第2の反応物質を生成させるステップ;遷移金属触媒の存在下で、第2の反応物質を、置換された1−アルキンと反応させるステップ;式(4)を有する第3の反応物質を、Xを含む化合物の存在下で、アルキルリチウムと反応させ、式(5)を有する第4の反応物質を生成するステップ;そして第4の反応物質を水と反応させ、式(1)を有する化合物を生成させるステップを含む方法。 (もっと読む)


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