【課題】 高感度、かつ高精度なマイケルソン光干渉計及びこのマイケルソン光干渉系を用いた熱膨張計を提供する。
【解決手段】 マイケルソン干渉計を、レーザー発振器２１と、このレーザー発振器２１から発せられ、試料面Ｓ１及び基準面４５１でそれぞれ反射したレーザー光Ｌ１１、Ｌ１２を相互に干渉させ、その干渉光Ｌ４を照射面２８に照射して複数の明暗パターンからなる干渉縞Ｉを生じさせる干渉縞発生手段とを有するマイケルソン光干渉計において、レーザー発振器４１と干渉縞発生手段との間に光路差発生手段２４を設け、この光路差発生手段２４に入射された各レーザー光Ｌ１１、Ｌ１２を基準面２５１及び試料面Ｓ１との間で４往復させるように光路差発生手段２４を構成し、この光路差発生手段２４からレーザー光Ｌ１１、Ｌ１２を干渉させるように構成する。 （もっと読む）

【課題】 プロキシミティ露光を行う露光機で露光する前にカラーフィルタ形成用の基板上の未露光の着色層の異物を検知する異物検査装置で、未露光の着色層に影響しないように検査を行うことができ、且つ、製造ラインのレイアウトや機器構成にも制約を多く与えない異物検査装置を提供する。
【解決手段】 未露光の着色層を配設した基板を被検査基板として、被検査基板を水平状態で載置する載置台と、被検査基板の側面側に、未露光の着色層の所望の検査領域を、傾けた角度でレーザ光を照射する、１以上のレーザ光照射部と、被検査基板の前記未露光の着色層形成面と直交する方向、上側に配され、前記レーザ光照射部から照射されたレーザ光の、異物における散乱光を撮影し、前記検査領域全体にわたり、散乱光による撮影画像データを取得する、１以上の撮影手段と、前記各撮影手段にて取得された各撮影画像データを画像処理し、前記検査領域全体の、前記未露光の着色層における異物を抽出する画像処理部とを、備えている。 （もっと読む）

【課題】 光学アダプタとイメージセンサの位置合わせが短時間かつ容易に行える技術を提供。
【解決手段】 照射光を出射する照射装置１０と、イメージセンサ９０の検査領域に照射光による像を形成するための光学アダプタ２０と、光学アダプタ２０について、イメージセンサとの相対位置関係を調整する光学アダプタ変位調整機構３０と、照射光に基づいてイメージセンサ９０について検査のための計測を行って、計測結果を示す情報を出力する計測装置８０と、計測装置８０から出力される計測結果の情報について演算処理して結果を出力する演算処理装置６０と、を有する。演算処理装置６０は、ずれ量を計測し、計測されたずれ量を表示装置６３０に表示させる。 （もっと読む）

【課題】 クロスダイクロイックプリズムを、組み上げた状態や組み立て途中で性能を評価することを可能にする、検査装置を提供する。
【解決手段】 光源３２，３３と、光路分離手段３５と、この光路分離手段３５からの光を反射させて戻す反射鏡３７，３８を有して成る２つの光学系と、２つの光学系からそれぞれ光路分離手段３５へ戻った光を検出する手段３９，４０とを少なくとも備えて検査装置を構成する。２つの光学系のうち一方は、検査対象のクロスダイクロイックプリズム３１を通る光学系であり、他方は基準となる光学系である。そして、光源として、少なくとも、クロスダイクロイックプリズム３１の寸法よりも短い可干渉距離を有する光源３２を用いる。 （もっと読む）

【課題】 高精度のくさび角度測定が可能で、ペア取得数の向上およびペア組合せ作業の効率化を可能にする、くさび角度測定ペア決定装置を提供すること。
【解決手段】 レーザー光源２と、偏光板３と、ルチル偏光素子４のセット用治具を載せたステージ１と、ルチル偏光素子４を透過したレーザー光の輝点映像を写し出す輝点プレート５と、基準面からの高さが可変でレーザー輝点９，１０の映像を撮像するＣＣＤカメラ６と、レーザー輝点９，１０の位置からくさび角度を算出するコンピュータ７およびプログラム８とを有するくさび角度測定手段を備えると共に、設定した角度差以内にある偏光素子のペアを選択して群を形成しペア数を最大とするだけでなくペア数が最大となる群に対しては角度差の平均値を最小とするようにペアの群を決定するペア決定手段を備える。 （もっと読む）

【課題】 非球面又は球面からなる鏡面を平面上に回転軸対称に複数配置してなる光学素子における鏡面の配置の位置精度を向上させると共に、製品への取り付け時における当該光学素子の取り付け位置精度を向上させる。
【解決手段】 非球面ミラーディスクブランク２６’における非球面ミラー２８を形成する面２６’ａ上に予め形成しておいた放物面ミラー部５７へレーザ光を入射させたときに放物面ミラー部５７が反射光を集光させることによって形成されるスポット光の位置をＰＳＤ５４が検知し、当該スポット光の位置から面２６’ａへ垂らした垂線を回転軸対称における回転軸とし、この回転軸に基づいて非球面ミラー２８各々の位置決めを行う。 （もっと読む）

【課題】 光ビームの偏向制御が可能な２軸光偏向手段を有する光検出装置であって、サーボ動作中に光ビームの入射が遮断されたときに行う再サーチ動作において、２軸光偏向手段における偏向周波数を高くすることなく、確実、迅速な再サーチ動作を実現する。
【解決手段】 ＤＳＰ３により、互いに周波数の異なる２つの周期信号を発生し、２軸偏向ミラー１における各軸方向についての偏向動作を独立的に制御し、この２軸偏向ミラー１を経た光ビームの二次元ＰＳＤ素子２における入射位置の軌跡をリサージュ図形とし、２軸偏向ミラー１に光ビームを入射させる発光素子の方向を検出するとともに、光ビームの入射が遮断されたときには、制御信号の振幅を制限し、この制御信号に光ビームの入射が遮断される直前に検出されていた光ビームの入射方向に相当する直流成分を重畳して、サーチ動作が可能な領域の一部について再サーチ動作を行う。 （もっと読む）

【課題】 試料上の第１の測定点から第２の測定点への遷移における試料内の２つの面の光学的な間隔の変化を干渉法により測定する方法であって、試料は広帯域幅の光によって照射され、試料の少なくとも一部はその光を透過させ、面は部分反射する試料であって、その方法は、両測定点に対する面で反射される光ビームの重畳をスペクトル分散するステップと、分光スペクトルの変調周波数と位相点を求めてそれらの結果の差をとるステップと、変調周波数だけの差から面の光学的間隔の変化に対する第１の値に関する結論を求めるステップと、位相差を考慮して上記第１の値から光学的間隔の変化に対する第２のより精密な値を計算するステップから成っている。 （もっと読む）

【課題】測定する光ビームの波長等の特性が変化した場合でも、光ビームの波面測定とスポット特性測定との２つの測定を、１つの装置によって短時間で行なうことができるようにする。
【解決手段】光ビーム測定装置１Ａは、波面測定部１０Ａとスポット特性測定部１０Ｂとを備えており、波面測定部１０Ａには、３波長対応型の光ピックアップモジュール５０から出力される、互いに波長の異なる３つの光ビームの各々に対応した３つの波面整形ユニット４０Ａ〜４０Ｃが具備されている。３つの波面整形ユニット４０Ａ〜４０Ｃを、交換して用いることにより、光ピックアップモジュール５０から出力される３つの光ビームそれぞれに対して、波面測定とスポット特性測定との２つの測定を行なうことができる。 （もっと読む）

【課題】 外乱光の影響を容易に排除することが可能な光センサと、この光センサを用いた物体検出装置、光通信装置を提供する。
【解決手段】 光センサ１は、ＰＮ符号を発生する変調部２Ａと光源２Ｂを備えた発光部２と、複数の光電変換素子がマトリクス状に配列され光源２Ｂから投光された変調光ａを受光して電気信号に変換するイメージ検出部３と、変調光ａと同一のＰＮ符号を用いて各光電変換素子の受光出力毎に逆拡散処理して外乱光の影響が排除された受光出力を抽出する相関処理部４とを備えて構成した。 （もっと読む）

【課題】エッチング対象物を実際にエッチングする環境下でのエッチングマスクに対するエッチング対象物のエッチング選択比を求めることができるエッチング選択比測定方法およびエッチング選択比測定装置を提供する。
【解決手段】エッチング対象物６および回折格子パターン７による回折光に基づいて、エッチング前の回折格子パターン７の高さＨ１と、エッチング後の回折格子パターン７の測定用長波長半導体レーザ側の表面から溝の底面までの距離と、溝の深さとを求める。これらに基づいて、エッチング前の回折格子パターン７の高さとエッチング後の回折格子パターン７の高さとの差を求める。この差と溝の深さとに基づいて、エッチングマスク５に対するエッチング対象物６のエッチング選択比を導き出すことができる。 （もっと読む）

【課題】従来のデジタルカメラの製造工程における撮像素子の傾き検査は、定量的な傾きは検出できず傾きの有無の判定だけであり、撮像素子の取り付け位置の微調整は修正できず、最初の工程から手直しであった。
【解決手段】本発明は、撮影レンズの光軸方向に沿って移動する測定用チャートを固定された撮像素子で複数回撮像したチャートの撮像データによるコントラスト特性曲線のピーク値を用いて撮像素子の傾きを定量的に検出する撮像素子の傾き測定装置及びその測定方法である。 （もっと読む）

【課題】球面状の被測定面の表面形状を高精度で計測する。
【解決手段】球面状の被測定面５１を有する被測定物５を載置するステージ１１に、遮光部Ｓ１〜Ｓ３と反射部Ｒ１〜Ｒ３からなる同心円パターンＰを有する校正原器を載置して、各輪帯領域Ｄ１〜Ｄ３についてコントラストが最大となるようにフォーカス調整レンズ６を移動させ、それぞれのフォーカス調整量をコンピュータ８に記憶させる。被測定面５１の測定時には、記憶されたフォーカス調整量ごとに表面形状の測定を行い、対応する輪帯領域の測定データのみを抽出して合成する。 （もっと読む）

【課題】 レーザ干渉計とミラーを用いて位置計測をするステージ装置において、計測誤差の影響を低減することを目的とする。
【解決手段】 レーザ干渉計と、前記レーザ干渉計からの光を反射するミラーとを用いてステージの位置を計測するステージ装置であって、前記ミラーの形状を算出するミラー形状算出手段と、前記ミラー形状算出手段からの出力に基づいて、前記ミラーの温度を調節する温度調節手段とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板上に反射層と少なくとも１層以上の光透過性薄膜層を積層してなる光学積層体における各層の膜厚を簡便に検査可能にする。
【解決手段】光学積層体４を構成するＡｇ全反射層は、可視光領域では高い反射率を示すが、短波長ではやや低く、長波長ほど高い反射率スペクトルとなる。このようなＡｇ反射膜を、等ピッチの溝を有するプラスチック基板上に形成した場合、溝による回折に起因した反射率の低下が見られる。この反射率の低下は溝深さが深いほど反射率の低下度合いが大きくなり、溝のピッチを小さくすると、ピッチにほぼ比例して反射率が低下する波長が小さい方へとシフトする。この現象を利用して、光学積層体４を構成する光透過性薄膜層側から検査用光を入射させ、各層までの光路長の変化に応じて変化する各層からの反射光の光強度を測定し、特定波長の反射光強度に基づいて膜厚を検査する。 （もっと読む）

【課題】 被検面の傾きが大きくても正しい欠陥検査を行える検査装置を提供する。
【解決手段】 被検面１０Ａの少なくとも一部の領域を一括して撮像する撮像手段１３と、撮像手段の光軸３Ａに対する被検面の傾き角を設定する設定手段１１,１６と、設定手段が設定した傾き角に応じて撮像手段が撮像する複数の焦点位置を決定し、撮像手段が領域を撮像して出力する撮像信号に基づいて、焦点位置の異なる複数の画像を取得する取得手段１６,１４とを備える。 （もっと読む）

【課題】 ラフアライメントにおけるアライメントマークの座標測定の精度が低い場合であっても、アライメントマークの座標を測定できる座標の測定方法を提供する。
【解決手段】 アライメントマークを低倍率のモードで撮影するステップと、撮影された画像からアライメントマークの位置を概算するステップと、概算したアライメントマークの位置情報に基づいて基板上に座標原点を設定するステップと、設定された座標原点に基づいてアライメントマークを高倍率モードで撮影するステップと、高倍率モードで撮影された画像からアライメントマークの位置を検出するステップと、検出されたアライメントマークの位置情報に基づいて基板上に座標原点を再設定するステップと、再設定された座標原点に基づいてアライメントマークを高倍率モードで再撮影するステップと、高倍率モードで再撮影された画像からアライメントマークの位置を検出するステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】斜め球面研磨フェルールの先端面の球面偏心に対する合否判定を、適正かつ短時間で行なうことができるようにする。
【解決手段】光コネクタプラグ内に保持されたフェルール４２０を、中心軸Ｗが光軸Ｚに対し斜め研磨基準角度θ_０だけ傾いた状態で保持して先端面４２２の測定を行ない、角度ずれεおよび距離ｄの各測定値ε_１，ｄ_１と、先端面４２２の曲率半径Ｒを求める。得られた測定結果と、角度ずれεと距離ｄとの対応関係とに基づき、角度ずれεが０のときの基準距離ｄ_０を求め、さらに許容境界値ε_ｍまで角度ずれしたときの距離ｄの見込み値を求める。求められた見込み値が球面偏心量が許容閾値以下であるか否かに基づき、フェルール４２０の球面偏心に対する合否判定をする。 （もっと読む）

【課題】 基板の欠陥を、簡便かつ高い精度で検知する。
【解決手段】 基板１の表面を検査する表面検査装置１００であって、暗部と明部とを交互に平行に配列させたストライプパターンを、被検査面１ａに照射するパターン照射部３と、検知しようとする欠陥の高さと比べて浅い被写体深度で、ストライプパターンが形成された被検査面１ａの画像を撮像する撮像部４と、撮像部４により撮像された画像における暗部の像の消失を検知することにより、被検査面上の欠陥を検知する欠陥検知部６とを備える。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、従来と同じ演算式を用いながらも干渉縞の位相分布を高精度に求めることのできる干渉縞解析方法を提供することにある。
【解決手段】本発明の干渉縞解析方法は、干渉縞の位相をシフトさせながらその干渉縞の輝度分布データを繰り返し取得する干渉測定系に適用される干渉縞解析方法であって、前記干渉測定系が取得した輝度分布データ群に生じているドリフト誤差を補正する補正手順（Ｓ１２，Ｓ１１）と、前記輝度分布データ群と所定の演算式とに基づき前記干渉縞の位相分布を算出する算出手順（Ｓ１３）とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）