【課題】振動の影響を受けずに、被測定物の高さを精度良く測定する。
【解決手段】受光系の焦点位置を移動しながら、被測定物の表面又は基準面からの反射光をピンホール１４を通して受光する。受光系の焦点位置が測定物の表面又は基準面に合っていないとき、反射光はピンホール１４で遮断されてほとんど受光されない。受光系の焦点位置が測定物の表面又は基準面に合ったとき、反射光はピンホール１４を通過して強く受光される。受光した反射光の輝度信号の変化から、被測定物の表面に合った光学系の焦点位置と、基準面に合った光学系の焦点位置とを検出し、両者の差異から被測定物の高さを求める。 （もっと読む）

【課題】検査対象の表面特性によるノイズから生じる測定精度の劣化を回避できる光学的測定方法及び光学的測定装置を提供する。
【解決手段】検査対象ＧＬに光を照射し、検査対象ＧＬから得られる光を受光して最終的に２次元的な光強度信号Ｓ１に変換し、光強度信号Ｓ１のなかから、表面状態ＩＢを測定するに際して必要な信号である注目信号ＳＢと表面状態を測定するに際して不要な信号であるノイズ信号ＳＮとを分離することにより注目信号ＳＢのみを抽出し、抽出された注目信号ＳＢと所定の閾値Ｔ１とを比較する。実質上、光強度信号Ｓ１とノイズ信号ＳＮに追随した閾値とを比較していることになり、検査対象の表面特性によるノイズから生じる測定精度の劣化を回避できる。 （もっと読む）

【課題】構成簡易でコンパクトな光学系を備え、かつ光学系の調整を容易に行なうことが可能な波面測定用干渉計装置、および光ビームの波面測定と光ビームスポットの特性測定とを行なうことが可能な光ビーム測定装置および方法を得る。
【解決手段】光ビーム測定装置１０Ａは、光源部１１から射出された光ビームを２つの光束に分離するビームスプリッタ１３と、分離された一方の光束の一部を被検光束として入射方向と逆向きに反射する半透過反射面１５ａと、半透過反射面１５ａを透過した光束の一部を波面整形された基準光束に変換して射出する反射型の基準光生成手段２３とを備えており、光ビームの波面測定と光ビームスポットの特性測定とを行なうことができる。 （もっと読む）

【課題】結像レンズを持たないＰＤＩを用いて、高精度に面形状を測定できる形状測定装置及び形状測定方法を提供する。
【解決手段】光源と、該光源から放射される光束をピンホールを有するミラーに集光する集光光学系と、該ピンホールから回折される波面の一部からなる参照光束と該波面の他の一部が被検面で反射され、さらに該ミラーで反射された測定光束との干渉縞を検出する検知器と、検出された干渉縞の強度分布より該被検面の面形状を算出する演算部と、を有する被検面の面形状測定装置であって、
該検知器の有効面の開口数をNAccd、該被検面の照射領域の開口数をNAillu、該被検面の測定領域の開口数をNAtestとするとき、NAccd＞NAillu≧ NAtest または、NAccd≧NAillu＞ NAtestとなされている面形状測定装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】 ディクリネーション角を簡易かつ有効に測定することが可能なディクリネーション角の測定方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 その基準面に対してその光軸が法線方向を向くカメラ３１を使用してサンプル点５３を撮影し、カメラ３１により撮影した画像におけるサンプル点６３の、光軸５０に相当する標線の交点６１からの距離Ｄと、サンプル点５３から出射された光の光軸５０に対する角度θとの関係を測定する測定行程と、カメラ３１をその基準面が照射面に当接する状態で照射面上に載置してレンズを撮影する撮影工程と、カメラ３１により撮影したレンズの中心と標線の交点６１からの距離から、照射面に照射された光の照射面に対するディクリネーション角を演算する演算工程とを備える。 （もっと読む）

コンポーネントの光精密測定装置及び方法。本方法では、光プローブがコンポーネントに対してある場所に設けられ（１２０）、光源ビームがコンポーネントに向けられる（１２２）。偏差が検出され（１２０）、コンポーネント特性データセット内に記憶される（１２６）。光源はコンポーネントに対して他の場所に移動され、追加的なデータが得られる（１３０）。本装置は、光源ビーム（３８）をもたらす光プローブ（２４）と、光プローブ（２４）をθ軸について回転するよう動作可能なプローブステージ（２２）と、コンポーネント（２８）をφ軸について回転するよう動作可能なコンポーネントステージ（２６）と、位置反応検出器とを含む。プローブステージ（２２）は、光源ビーム（３８）をコンポーネント（２８）に向け、光源ビーム（３８）は、コンポーネント（２８）から結果として生じるビームを生成し、位置反応検出器は結果として生じるビームを検出する。

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総じて、一態様では、本発明は、干渉部品と測定物体との間の距離を、３本の異なる測定軸の各々に沿って、測定物体を光学干渉部品に対して移動させながら、干渉法を利用して監視するステップと、測定物体の監視距離からの異なる位置に対する第１パラメータおよび第２パラメータの値を決定するステップであって、所与の位置に対して、第１パラメータは、所与の位置において３本の異なる測定軸の各々に沿った測定物体の監視距離に基づき、所与の位置に対して、第２パラメータは、所与の位置において測定軸の内２本の各々に沿った測定物体の監視距離に基づく、ステップと、第１および第２パラメータ値から測定物体の表面形状プロファイルに関する情報を導出するステップとを含む方法を特徴とする。
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特定の形状からの物体３、１１、１６、１８、２２、２６の形状の逸脱を示す装置が記載される。装置は、放射の入射ビーム４を物体に向ける放射手段、および前記物体による透過または前記物体からの反射の後の最終ビームを検査する検査手段５を備える。装置は、物体が特定の形状を有する場合、最終ビームが実質的に平面波面を有するように構成され、検査手段５が、平面性からの最終ビームの波面のいかなる逸脱をも判定するように構成される。一実施形態において、検査手段は、たとえば回折格子６またはホログラムなどのビーム分割手段、およびＣＣＤカメラ８などの検出器手段を備える。ビーム分割手段は、次に最終ビームを２つ以上のビームに分割し、２つ以上のビームを検出手段で横方向に変位された位置に向けるように構成される。
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本発明は、別個の光路内に設けられた２つの音響光学変調器、アナログ信号を形成する受光器、及び、該受光器の後ろ側に接続された、アナログ信号をデジタル信号に変換するＡ／Ｄ変換器を有しており、一方の変調周波数ｆ_１の一方の音響光学変調器と、他方の変調周波数ｆ_２の他方の音響光学変調器が制御され、一方の変調周波数ｆ_１及び他方の変調周波数ｆ_２の差は、ヘテロダイン周波数ｆ_Ｈｅｔを形成し、Ａ／Ｄ変換器で、アナログ信号からデジタル信号にサンプリング周波数ｆ_ａで変換されるヘテロダインインターフェロメータの制御方法に関する。
そのようなヘテロダインインターフェロメータで、変調周波数ｆ_１，ｆ_２及びサンプリング周波数ｆ_ａからなる各周波数の少なくとも２つを、共通の発振器の基本周波数ｆ_{Ｑｕａｒｚ}から形成することによって、各変調周波数の固定比が保持され、この各変調周波数の固定比が、経年変化及びドリフトによって相互にシフトしないようにすることができる。
更に、こうすることによって、サンプリング周波数ｆ_ａが、ヘテロダイン周波数ｆ_Ｈｅｔの各変調周波数ｆ_１，ｆ_２の差周波数に対して固定の位相比となるようにされる。サンプリングは、一定位相でドリフト及び経年変化とは無関係に行われるので、測定精度が高められる。
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放射散乱／反射要素の位置を判定するための方法及びシステムであって、放射透過性要素面で放射入射する面に放射エミッタが設けられる。この入射放射は散乱／反射要素により散乱／拡散／反射され、透過性要素により、この要素位置を判定できる検出器に向けてガイドされる。
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表面上にレーザテンプレートを投影するレーザイメージングシステムと方法とは、外部計測装置を使用して表面の位置と方向とを独立して決定する工程と、計測装置を使用してレーザ投影装置の位置と方向とを独立して決定する工程と、レーザテンプレートを投影するために、計測装置からコンピュータへの信号を生成し、表面に対してレーザ投影装置の方向を定める工程とを含む。装置は、固定された場所にある複数の計測発信装置と、表面に対して固定された位置にある複数の計測受信装置と、レーザ投影装置の視界の範囲内にあり、且つ、レーザ投影装置かレーザターゲットのどちらか一方に対して固定された位置にある複数の計測受信装置とを含む。レーザ投影装置とフレームとからなるアセンブリもまた開示されており、計測受信装置はフレーム上に配置され、フレームはレーザドリフトを修正するためのレーザターゲットを含む。計測受信装置のための可動支柱は独立したレーザ追尾装置と同様に開示されている。
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トリプルコーナーキューブ（１８）などのような、高度に精密な光学アセンブリを組み立て、計測するための、干渉装置（２０）および方法である。その装置および方法は、一つ以上の表面の形、方位、および、表面までの距離を同時に計測することが可能な、一つ以上の干渉計を使用する。その形、方位、および、計測されたそれぞれの表面までの距離を指し示す情報を提供するために、その表面が、干渉計測システムに順次に提示され得るように、多数の表面を有する光学アセンブリを、精密に、移動可能に、取り付けるための手段を有する。
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【課題】 液晶分子が存在する液晶層のみのリタデーション（ｄＬＣ・△ｎ）を求めることができ、セル厚を求めることができる液晶表示装置、そのセル厚測定装置及び測定法並びに位相差板を提供する。
【解決手段】 液晶領域中の液晶分子が電圧無印加時に略垂直に配向する液晶層と、液晶層を挾持する１対の基板と、を備える液晶表示装置の液晶セル５の厚さを測定するセル厚測定装置において、面内にリタデーションを有する１対の１軸性位相差板をその遅相軸方向をそろえて両外側表面に取付けた液晶セルを搭載するステージ１と、偏光子２３を有し、かつ、位相差板の遅相軸方向に対して方位角方向４４°〜４６°の偏光光を出射する光源２と、偏光光に対して偏光子とクロスニコルに配設された検光子３１を有し、かつ、偏光光の透過光量を検出する光検出器３と、位相差板に垂直な方向から偏光光の極角方向入射角を変化させる回転装置４と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 インラインでカラーフィルターの画素幅を測定することができる、カラーフィルターの画素幅測定方法を提供すること。
【解決手段】 カラーフィルターの基板上に赤色、緑色、青色の各色の着色画素を順次形成する際に、画素領域の外側に、画素幅測定用のダミー画素のパターンを、各ダミー画素が重ならないように間隔をあけて形成し、各ダミー画素の幅を測定することにより、前記各色の着色画素の幅を測定する。 （もっと読む）