【課題】フーリエ変換法による波形解析においてデータ範囲の有限性などに起因するリップル状の解析誤差を確実に抑える。
【解決手段】本発明の波形解析方法は、フーリエ変換法を利用した解析処理を入力波形へ施すことにより、その入力波形の各成分を算出する本解析手順（Ｓ１１）と、本解析手順で算出された各成分を基礎データとした関数フィッティングにより、各成分が既知のモデル波形を作成するモデル作成手順（Ｓ１４、Ｓ１５）と、モデル作成手順で作成されたモデル波形へ本解析手順と同じ解析処理を施すことにより、そのモデル波形の特定成分を算出するテスト解析手順（Ｓ１６）と、テスト解析手順で算出された特定成分とモデル波形の実際の特定成分との差異を、テスト解析手順の特定成分に関する解析誤差として算出する誤差算出手順（Ｓ１７）と、誤差算出手順で算出された解析誤差に基づき本解析手順で算出された特定成分を補正する補正手順（Ｓ２１）とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、解析誤差を確実に抑えることのできるフーリエ変換法による波形解析方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明の波形解析方法の一態様は、キャリアが重畳された入力波形へフーリエ変換法による波形解析処理を施すことにより、前記入力波形の位相情報を抽出し、その位相情報に基づきその位相情報に含まれる信号成分を算出する波形解析方法であって、前記入力波形のフーリエスペクトルから＋１次スペクトルと−１次スペクトルとを分離する（Ｓ１６，Ｓ２０）に当たり、それらスペクトルの少なくとも一方を狭帯化する狭帯化手順（Ｓ１４，Ｓ１８）を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】非球面光学素子の表面形状を簡易かつ低コストで短時間のうちに測定し得る光波干渉測定装置を提供する。
【解決手段】透過/反射分離面１３ａにおいて二分された光原１１からの光束は、それぞれ対応する球面基準レンズ１５、２５によって、被検非球面レンズ１７と参照非球面レンズ２７の表面形状に応じた波面情報を担持した状態で再び合波され、参照非球面レンズ２７に対する被検非球面レンズ１７の波面誤差が干渉縞情報とされて干渉計ＣＣＤカメラ３１の撮像面上に形成される。また、ビームスプリッタ１３と高ＮＡ球面基準レンズ２５との間に、入射した第２の平行光束の波面形状を補正（参照非球面レンズ２７の波面情報を補正）するデフォーマブルミラー４２を備えており、この補正値は制御演算部５１によって制御される。 （もっと読む）

サブ開口スティッチングによる非球面被検査物を測定する計測システム。限られた捕捉範囲の波面形状を有する波面測定ゲージが被検査物の部分的に重なり合っているサブ開口測定を収集する。可変光収差器が、波面測定ゲージの捕捉範囲内に測定波面を維持するための限られた数の測定の間で測定波面を再形成する。さまざまな誤差補正項が、可変光収差器の使用に関連する残余誤差を扱うためのスティッチング操作に反映される。 （もっと読む）

【課題】被検面の形状を簡易かつ低コストで高精度に測定し得るようにする。
【解決手段】撮像系４において第１撮像手段４０と第２撮像手段７５とを設ける。第１撮像手段４０は、第１の結像面Ｐ_１上において回転走査される１次元イメージセンサ４１を備え、該１次元イメージセンサ４１により、第１の干渉縞において縞の密度が高い第１領域の縞画像情報を取得する。第２撮像手段７５は、第２の結像面Ｐ_１上に配される２次元イメージセンサ７６を備え、該２次元イメージセンサ７６により第２の干渉縞において縞の密度が低い第２領域の縞画像情報を取得する。第１撮像手段４０および第２撮像手段７５からの画像信号に基づき、形状解析手段７１において被検非球面８ａの形状情報を求める。 （もっと読む）

【課題】結像面上に形成される干渉縞を、縞の密度が高い領域についても縞解析し得る程度に細密に撮像することが可能な高解像度の干渉縞撮像装置およびこれを備えた光波干渉測定装置を得る。
【解決手段】光波干渉測定装置１の撮像系４に、干渉縞撮像装置４０を設置する。この干渉縞撮像装置４０は、第１の結像面Ｐ_１上において回転走査される１次元イメージセンサを備え、該１次元イメージセンサにより上記干渉縞の画像情報を取得するように構成されている。 （もっと読む）

【課題】繰り返しパターンを有する試料の外観検査において、欠陥検出精度が欠陥サイズに依らないパターン検査装置を提供する。
【解決手段】繰り返しパターンを有する試料の外観検査を行うパターン検査装置であって、画像データ中の注目画素に対して繰り返しパターンのパターンピッチの距離だけ離れた複数の画素を比較画素とし、前記比較画素が既に欠陥部と判定されていた場合には、前記欠陥部の比較画素の代わりに、前記注目画素からパターンピッチの整数倍離れ、かつ、既に正常部と判定された点を比較画素と再設定し、前記注目画素および前記比較画素の輝度データを大小で並び替えて中央値を設定し、前記注目画素の輝度データと前記中央値を比較することにより前記注目画素の良否判定を行うことを特徴とするパターン検査装置である。 （もっと読む）

【課題】長尺状の樹脂シートの一方の主表面上に連続的に形成される微細形状の寸法をインラインで計測し、その計測結果をインラインで製造条件にフィードバックすることにより、高精度な成形品を提供することが可能な製造方法を提供する。
【解決手段】連続的に樹脂シートに微細形状を形成し、形成した微細形状を計測し、計測結果をあらかじめ記憶させた判断基準と比較することにより、樹脂シートやロール金型の動作条件を補正する。これらの工程を連続的に繰り返すことにより、生産ラインを止めずに、形成される微細形状の寸法を調整する製造方法。 （もっと読む）

本発明は、結像ビームの経路内に配置され、かつ具体的には平行平面板媒体またはガラス板として構成され、使用される放射線に関して周囲の媒体と異なる屈折率を有する、回転可能に配置される放射線屈折物体（２）を用いて、放射の方向と垂直な、電磁放射線（１４）により伝播させられる像（８）の変位のための方法に関する。本発明は、さらに方法を実行するための装置に関する。方法および装置は、最適化された正確な像変位が達成されるという点で改良されたものにされるべきである。この目的のために、本発明は、測定のために利用される別の電磁ビーム（１８）の角度変化により引き起こされる光路長の変化が、平面反射面（２４）により反射される放射線と、入射電磁放射線との重ね合わせを評価することにより決定されることで、および放射線屈折物体（２）の表面（４４）上で反射される電磁測定ビーム（１８）の一部（４２）が、電磁放射線（１８）の入射位置に応じて電気信号（４８）を供給する測定ユニット（４６）に衝突することで、変位を引き起こす放射線屈折物体（２）の回転を測定することを提案する。
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【課題】レーザ加工の作業能率の向上及び加工精度の向上を図る。
【解決手段】複数のマイクロミラーにより、レーザ光源２から入射するレーザ光を反射させ、レーザ光の光束断面形状を規制して射出する光束規制手段３と、レーザ光により加工される被加工物１０と対向して設けられレーザ光を被加工物１０上に集光する対物レンズ４と、を備えたレーザ加工装置であって、光束規制手段３からレーザ光源２に向かう光路が分岐された光路上に設けられ光束規制手段３の複数のマイクロミラーに白色光を照射する白色光源６と、対物レンズ４から光束規制手段３に向かう光路が分岐された光路上に設けられ、複数の受光素子を備えて上記複数のマイクロミラーで反射された白色光の被加工物１０からの反射光を受光する撮像手段７と、対物レンズ４と被加工物１０との間の距離を変位させる変位手段９と、を備えて、微小高さの測定を可能にしたものである。 （もっと読む）

【課題】被検物の表面形状を高精度かつ短時間で測定する。
【解決手段】本発明は、光源から発する光を物体光と参照光とに分離し、物体光と参照光との光路差によって得られる干渉縞を解析する干渉計を用いた被検物の表面形状測定方法であって、参照面を第１位置に固定して、物体光を被検物に照射し、複数の第１干渉縞を取得する第１工程と、参照面を第１位置と異なる参照光の光軸上の第２位置に固定して、複数の第２干渉縞を取得する第２工程と、参照面を第１位置及び第２位置と異なる第３位置に固定して、複数の第３干渉縞を取得する第３工程と、第１干渉縞と、第２干渉縞と、第３干渉縞とを用いて前記干渉縞の位相解析を行う位相解析工程Ｓ３とを備え、第１工程、第２工程、及び第３工程の少なくとも１つにおいて、被検物をその光軸を中心に回転させながら物体光を所定の角度から照射し、所定の角度量回転するごとに断続的に複数の干渉縞を取得する。 （もっと読む）

【課題】たとえ光学面にうねりがあっても、光学面の形状を高精度に近似することができる光学面の近似方法と、同法を用いたプリズム角度測定方法を提供すること。
【解決手段】レーザー形状測定器２により、プリズム１の一のプリズム面１１上の複数の測定点Ｍの位置を測定し、プリズム１を回転させて他のプリズム面１２上の複数の測定点Ｎの位置を測定し、各プリズム面の全測定範囲から、測定点同士の間隔Ｐが１μｍ以上で４０μｍ以下であり、一の注目測定点と一方で隣り合う測定点とを通る第一仮想直線と、該注目測定点と他方で隣り合う測定点とを通る第二仮想直線とが成す交角βが、式（１）：Ｐ×β≦１０（単位：μｍ・°）を満たす測定点のみが並ぶ範囲を演算範囲として抽出し、得られた複数の測定点Ｍ、Ｎの位置データに基づいて一のプリズム面１１及び他のプリズム面１２を代表する近似直線をそれぞれ求め、これら近似直線間の基準線に対する相対位置から一のプリズム面１１と他のプリズム面１２とが成すプリズム角度αを演算するようにした。 （もっと読む）

【課題】 複雑な位置合わせであっても精度良く行えるようにすること。
【解決手段】 支持部材１１０に取り付けられた光発生部１０１は、光源１０２が発生した光を、コーンミラー１０３の頂部１０４を含む反射部１０５によって直角方向に反射し、放射状の測定用光１３０を出力する。光センサ１０７は、円柱状穴１１６を有する対象物１１５の円柱状穴内壁面１０９で反射した測定用光１３０を検出して対応する検出信号を出力する。制御部１２１及び制御装置１１４は、前記検出信号に基づいて円柱状穴１１６の中心軸と支持部材１１０の中心軸との距離が許容値内になるように支持部材１１０と対象物１１５の少なくとも一方の位置を制御し、両者の位置合わせが終わった後、チャック１２０を制御して爪部材１１１〜１１３を円柱状穴内壁面１０９に当接させ、チャック１２０によって対象物１１５を保持する。 （もっと読む）

【課題】フィゾー型干渉計を用いた装置を用いて、微小径略半球レンズの面精度測定とレンズ表面の欠陥観察とを高精度に行うことの可能な面精度測定及び表面欠陥観察装置、並びに面精度測定及び表面欠陥観察方法を提供する。
【解決手段】フィゾー型の干渉計光学系を用いた、被検レンズ７の被検面の面精度測定と被検面の欠陥観察をする装置である。被検レンズ７の位置調整に際し、被検レンズ７の位置を確認可能に構成された第一の光束制御板８_１と、中心に開口部８_２ａ、周囲に遮蔽部８_２ｂを有する第二の光束制御板８_２と、中心に遮蔽部８_３ａ、周囲に開口部８_３ｂを有する第三の光束制御板８_３とを有し、これらの光束制御板のうち所望の光束制御板を干渉計光学系の参照面５ａからの反射光の集光点Ｐ_１を含む干渉計光学系の光軸Ｚ_１に対して垂直な仮想平面上に挿脱可能な光束制御手段８を備える。 （もっと読む）

【課題】ワークを保持部などの保持機構で保持した状態であっても、誤認識なくワークの良否判定を行う。
【解決手段】検査装置１では、ワーク２を照明する円環状の光源部３３を有する照明部３と、ワーク２を撮影する撮影部４とが設けられ、ワーク２を保持する保持部５が、照明部３と撮影部４との間に固定もしくは移動可能に配され、照明部３の光源部３３からワーク２に照射した光の照射方向上から外れた位置に、撮影部４が配されている。そして、ワーク２に異物を含む不確定な物がある場合、光源部３３からワーク２に照明した光は、異物を含む不確定な物によりその光路が変更されて撮影部４にて撮影される。 （もっと読む）

【課題】非球面光学素子の表面形状を簡易かつ低コストで短時間のうちに測定し得る光波干渉測定装置を提供する。
【解決手段】透過/反射分離面１３ａにおいて二分された光原１１からの光束は、それぞれ対応する球面基準レンズ１５、２５によって、被検非球面レンズ１７と参照非球面レンズ２７の表面形状に応じた波面情報を担持した状態で再び合波され、参照非球面レンズ２７に対する被検非球面レンズ１７の波面誤差が干渉縞情報とされて干渉計ＣＣＤカメラ３１の撮像面上に形成される。球面基準レンズ１５、２５は、互いに同一曲率の基準球面１５ａ、２５ａを有し、各レンズ１７、２７からの反射光による波面情報は、各レンズ１７、２７の表面形状と基準球面１５ａ、２５ａの表面形状との差によるものであるから、非球面であっても、全有効領域についての干渉縞情報を同時に取得することができる。 （もっと読む）

【課題】照明ビームの偏向角を高精度で測定する。
【解決手段】化学線波長での表面プラズモン共鳴効果を示すよう構成されたグレーティングセンサを用いて、拡大された連続的な角度範囲に対して照明ビームの偏向角が高精度で測定される。この放射ビーム測定システムおよび方法は、マスクを用いたリソグラフィツールおよびマスクレスリソグラフィツールの両方に適用可能である。制御システムは、ＳＰＲ効果が検出されたか否かに基づいて、適切な較正アルゴリズムを採用する。ＳＰＲの影響を受けた回折次数の相対的な強度シフト、および／またはＳＰＲ効果の影響を受けていない回折次数の相対的な位置および傾斜の変化が、採用された較正アルゴリズムの基礎として用いられる。 （もっと読む）

本発明により、両面微細構造化製品を製造する方法、及びこの方法のために使用することができる位置決め構造が提供される。この方法には、基板シート５０の第１の表面に一次製品フィーチャ８０を提供するステップ８００と、反対側の表面に二次製品フィーチャ９０を提供するステップ８１０と、位置合わせパラメータを推定するために、一次製品フィーチャ及び二次製品フィーチャ８０、９０の相互位置合わせを表示するステップ８２０と、一次製品フィーチャ及び二次製品フィーチャ８０、９０の準備を位置合わせさせるステップ８３０が含まれている。位置決め構造は、第１の表面に集束エレメント２０の位置決めアレイを備えており、また、反対側の表面に、一次製品フィーチャ及び二次製品フィーチャ８０、９０と位置合わせされた、製品フィーチャの８０、９０の位置合わせを推定するために基準オブジェクト３０のホログラフィ表現１０を提供する、基準オブジェクト３０の位置決めアレイを備えている。
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【課題】 一対のミラーチップを対向配置した平行ミラーデバイスにおいて、平行度及び位置ずれを簡便、かつ、短時間で測定可能とする。
【解決手段】 一対のミラーチップ２間の平行度及び位置ずれを検出するための検査光を反射させる反射部２Ｄを各ミラーチップ２の対角の位置に設ける。これにより、一対の反射部２Ｄのうちいずれか一方の反射部２Ｄに照射された検査光を他方の反射部２Ｄに向かうように反射させるとともに、他方の反射部２Ｄで反射した光の光量及び光量分布を検出することにより、ミラーチップ２間の平行度と位置ずれを一度の測定で判断することができる。したがって、対向させたミラーチップ２間の平行度及び位置ずれを、簡便かつ短時間で測定することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】生産速度の速い球状体の直径不同を生産速度に合わせて迅速、正確かつ安価に評価する方法、その評価方法を用いた球状体の選別方法及び選別装置を提供する。
【解決手段】球状体１を小容器９に載せ、揺動状態の球状体１の外形を一定の方向からカメラ５で連続的に５回〜１０回撮影し、画像毎の最大径を求め、次に全画像を通じて最大径の最大値（直径最大値）を求め、あらかじめ得られている球状体１の直径最大値と直径不同との相関関係から直径不同を算出する。またこのようにして得られた直径不同を用いて、直径不同の規格値で球状体１を良否選別する。 （もっと読む）