【課題】 反射基材の製造工程においてインラインでも評価可能であり、簡易な方法で確実に輝度ムラの発生原因となる基材表面性状を評価することが可能な反射基材の評価装置および反射基材を提供する。
【解決手段】 レーザ変位計３により反射基材の７の表面形状情報を取得する。次に、得られた凹凸情報をフーリエ変換し、反射基材の表面凹凸形状について、周波数と強度との関係を得る。次に、算出された周波数と強度との関係と、あらかじめ設定された基準データとを比較する。所定範囲の周波数領域において、強度が０．６を超える場合には不合格判定を行い、当該判断領域において０．６を超えるデータがなければ合格判定を行う。 （もっと読む）

【課題】二軸性を有する光学素子を正確に評価することができる光学素子評価技術を提供する。
【解決手段】入射面角度Φおよび入射角Θで、単色光２１を評価対象１０に入射し、評価対象１０および検光子４０を透過した透過光２２の透過光強度Ｉ（Φ，Θ）を検出器５０で検出する。透過光強度Ｉ（Φ，Θ）の検出は、３つ以上の入射面角度Φそれぞれと複数の入射角Θの組合せに対して行う。そして、検出した複数の透過光強度Ｉ（Φ，Θ）に基づいて、評価対象１０の３つの主屈折率ｎ_Ｘ、ｎ_Ｙ、ｎ_Ｚおよび厚さｄ、あるいは、評価対象１０の垂直入射時のリタデーションＲｅ、厚さ方向のリタデーションＲ_ｔｈ、主屈折率ｎ_Ｘ、ｎ_Ｙ、ｎ_Ｚのうちの一つおよび厚さｄを評価する。 （もっと読む）

【課題】 製造及び加工が容易なペンタ光学素子ユニット及びペンタ光学素子ユニットを用いた面形状測定装置を提供する。
【解決手段】 ペンタ光学素子ユニット（１１０）は、入射光の一部の光を反射させるとともに入射光の一部の光を透過させるハーフミラー面（１１）と、このハーフミラー面から所定角度傾いて配置されハーフミラー面で反射された光を反射させる第１ミラー面（２１）とを有する第１ペンタ光学素子（１１１）と、ハーフミラー面に対して所定の頂角（α）をなす透過面（１２）を有するくさび光学素子（１０）と、ハーフミラー面及び透過面を透過した光を反射させる第２ミラー面（３１）と第２ミラー面で反射された光を反射させる第３ミラー面（４１）とを有する第２ペンタ光学素子（１１２）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 測定後の原点を高精度に設定することができ、被測定物の変位情報（絶対変位情報）を高精度に測定することができる干渉測定装置を得ること。
【解決手段】 第１光源手段からの第１の光束と第２光源手段からの第２の光束を合波する第１の合波手段と、第１の光束と第２の光束が合波された光束を、２つの光束に分割し、一方の光束を被測定物の測定面に入射させ、他方の光束を参照面に入射させ、測定面からの反射光束と参照面からの反射光束を合波する光学系と、
測定面と参照面からの反射光束とに含まれている分割された２つの第１の光束により形成される光束と、２つの第２の光束により形成される光束を受光する受光手段と、
受光手段で受光した第１の光束に基づく第１の信号と受光手段で受光した第２の光束に基づく第２の信号とを用いて測定原点を決定する決定手段を有すること。 （もっと読む）

【課題】トールボット干渉計のセンサ部の傾きを精度良く調整する。
【解決手段】トールボット干渉計は、光源１から発せられて被検光学系Ｌを通った光を、回折格子３および撮像素子４を含むセンサ部Ｍに導き、被検光学系の波面を計測する。該干渉計は、光軸ＯＡに沿った方向における被検光学系とセンサ部との位置関係を、波面の計測時とは異なる位置関係であって被検光学系の像点位置に撮像素子が配置されるように設定する機構７，８と、回折格子からの回折光の撮像素子上での光量分布を該撮像素子を用いて測定する測定部５と、光量分布の測定結果を用いてセンサ部の傾き補正量を算出する補正量算出部５と、傾き補正量に応じた光軸に対するセンサ部の傾き調整を行う機構９とを有する。 （もっと読む）

【課題】光学素子の被検面の加工誤差を定量的に評価するのに好適な光学素子形状評価方法を提供すること。
【解決手段】光学素子形状評価方法を、理想面に対する被検面の偏差形状を多項式近似する多項式近似ステップと、多項式近似の結果から偏差形状の回転対称イレギュラリティ成分を切り出して評価形状を計算する評価形状計算ステップと、評価形状の瞳中心を含む領域が平面状に変形するように該評価形状に球面成分又２次成分を付与する成分付与ステップと、球面成分又２次成分が付与された評価形状に基づいて被検面の加工誤差を計算する加工誤差計算ステップとを有する方法とした。 （もっと読む）

【課題】 大口径の被検光学系の面形状を測定する波面形状測定方法、及び大口径の被検光学系の面形状を測定するための波面形状測定装置を提供する。
【解決手段】被検光学系の面形状を測定するための波面形状測定方法において、重力方向に伸びた回転軸（ＫＪ）を中心に液体（ＥＴ）を入れた容器（ＹＫ）を回転させることにより、重力方向に凹んだ回転放物面の液体反射面（ＥＨ）を形成する液体反射面形成工程と、反射平面（ＨＭ）を有する基準平面鏡（ＫＨ）を液体反射面に対向するように配置する工程と、干渉計（ＫＳ）から可干渉性を有する光束を液体反射面に照射し、液体反射面で反射された光束が基準平面鏡で反射され、再び液体反射面を経由して干渉計に戻った光束を干渉させて、基準平面鏡の面形状を測定する工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】折り返し平面鏡の変形によって生じる被検光学系の透過波面を繋ぎ合わせるときの誤差を低減させた光学装置を提供する。
【解決手段】被検光学系Ｔ₁の被測定領域よりも小口径の折り返し平面鏡Ｆ₁を挟んで、被検光学系Ｔ₁の透過波面を測定する第１の干渉計Ｉ₁と対向するように第２の干渉計Ｉ₂を設ける。そして、第２の干渉計Ｉ₂は、測定光を照射し、折り返し平面鏡Ｆ₁の表面に形成された鏡面Ｓ₁で反射され、再び第２の干渉計Ｉ₂に戻ってきた戻り光を基に、第２の干渉縞画像を取得する。解析装置１１は、第２の干渉計Ｉ₂により取得された第２の干渉縞画像を解析して、折り返し平面鏡Ｆ₁の鏡面Ｓ₁の変形量を測定し、折り返し平面鏡Ｆ₁の変形によって生じた誤差を打ち消すように透過波面の補正を行う。 （もっと読む）

【課題】
光学素子の欠陥を精度よく確認することができる外観検査装置を提供すること
【解決手段】
本発明の外観検査装置は、基板７の欠陥を検出する外観検査装置であって、前記基板７の平面に対してそれぞれ斜めに光を照射するとともに前記基板７を挟んで配置された複数の低倍率カメラ用光源３と、これらの低倍率カメラ用光源３の光軸と交差する方向に光軸を有するとともに、前記低倍率カメラ用光源３から照射されて前記基板７から反射または透過する光を撮像する低倍率カメラ４と、前記基板７の平面に対して垂直に光を照射する高倍率カメラ用光源５と、この高倍率カメラ用光源５の光軸と同一の光軸を有するとともに前記高倍率カメラ用光源５から照射されて前記基板７で反射された光を撮像する高倍率カメラ６と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】回転体の位置を高精度に測定する。
【解決手段】回転体６の回転軸に垂直な平面に対して傾斜角度θで反射ミラー８を回転体６に取り付けて、干渉測長手段である光学ユニット１０から回転体６の回転軸に沿って照射される入射光２０ａを反射ミラー８によって反射させて干渉縞を得る。入射光２０ａの光路を回転軸から径方向にずらした距離Ｒと、入射光２０ａの波長λと、傾斜角度θとの関係が、０．４λ＜２Ｒｓｉｎθを満たすように設定することで、サイクリックエラーによる測長誤差を低減する。 （もっと読む）

【課題】回折格子回折格子全面からの回折光波面を短時間に計測し、得られた波面情報に演算処理を施すことで、従来技術が持つコストと評価時間に関する課題を解決することを目的としている。
【解決手段】１軸回折格子１０または２軸回折格子の全面に光を照射し、＋１次回折光と−１次回折光のそれぞれの波面情報をフィゾー型干渉計１１などの形状計測用干渉計で評価する。回折格子からの＋１次回折光または−１次回折光と、フィゾー型干渉計１２の内部に搭載されている参照用オプティカルフラット１２からの参照光が重なり合うように、形状計測用干渉計に対して回折格子を相対的に傾ける。フィゾー型干渉計１２により、回折光全面からの波面を一括に、且つ短時間に計測できる。得られた＋１次回折光または−１次回折光の波面を減算処理することで、回折格子全面にわたるピッチばらつきを求めることができる。 （もっと読む）

【課題】干渉縞の間隔が細かい場合でも、位相ノイズの影響を受け難く、干渉縞の位相分布を正しく繋ぐことができる位相接続方法を提供する。
【解決手段】本発明の位相接続方法は、被検面で反射した光と基準面で反射した光との光路差を変化させて取得した少なくとも３つの回転軸対称な干渉縞から算出した干渉縞の位相分布を接続する位相接続方法であって、干渉縞における回転対称中心の位置を算出する中心算出ステップと、位相接続を行う干渉縞の対象領域と回転対称中心との距離を全ての対象領域においてそれぞれ算出する距離算出ステップと、回転対称中心との距離が小さい順に対象領域の順番を決定し、その順番で対象領域の位相値を接続する位相接続ステップとを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】絞りが組みつけられた状態で容易に且つ確実に絞りの開口の形状を検査することができる絞りの検査方法及び内視鏡装置を提供すること。
【解決手段】被検体の像を取得するための光学系を有する光学機器に組みつけられた絞りを検査する絞りの検査方法であって、検査光を出射する検査光源を前記絞りよりも前記光学系の像面側に配置し、前記検査光を前記絞りの開口を覆う範囲に照射する照射工程Ｓ２と、前記絞りを通過した前記検査光により前記開口の像を撮像し、前記撮像された像の形状に基づいて前記絞りを検査する検査工程Ｓ５と、を備える。 （もっと読む）

【課題】偏光膜を有する多層構成の積層体に含まれる被膜の膜厚を、光干渉法によって高精度に測定するための手段を提供する。
【解決手段】複数の被膜を有する多層構成の積層体に含まれる被膜の膜厚測定方法。前記積層体に測定光を照射し、該積層体から反射された反射光を受光することにより反射スペクトルを求める反射スペクトル測定工程と、求められた反射スペクトルに基づき測定対象被膜の膜厚を求める膜厚算出工程と、を含み、前記積層体は、複数の被膜中の一つとして偏光膜を含み、前記反射スペクトル測定工程において、前記測定光を照射する出射口部および／または前記反射光を受光する受光部と、前記積層体との間に偏光素子を配置し、かつ、上記偏光素子を、前記求められる反射スペクトルの振幅が、偏光素子を配置しない状態で得られる反射スペクトルの振幅から変化するように配置する。 （もっと読む）

【課題】監視対象者の眼鏡類のズレだけでなく生体状態の監視を行なって利便性を高めることが可能な生体監視装置を提供する。
【解決手段】眼領域検出装置１０は、ドライバＤの生体状態を監視する生体監視装置であって、ドライバＤの顔面における眼鏡類に関する眼鏡類情報を取得する眼鏡情報検出部１と、顔面に関する顔面情報を取得する顔向き角度演算部２と、眼鏡情報検出部１により取得された眼鏡類情報、及び顔向き角度演算部２により取得された顔面情報に基づいて眼鏡類の配置状況を特定する眼鏡テンプル角度演算部３と、眼鏡テンプル角度演算部３により特定された眼鏡類の配置状況に基づいてドライバＤの生体状態を監視する眼領域検出部４と、を備える。 （もっと読む）

【課題】フリンジスキャン干渉縞計測方法および干渉計において、簡素な構成を用いて、容易かつ高精度な形状測定を迅速に行うことができるようにする。
【解決手段】位相増分Δφずつシフトして、ｎ個の干渉縞画像を取得して被測定面の形状を算出するフリンジスキャン干渉縞計測方法であって、位相増分Δφを細分する位相量でシフトして候補画像を取得する候補画像取得工程（ステップＳ１）と、各候補画像の同一位置における輝度変化を取得する輝度変化取得工程（ステップＳ２）と、この輝度変化を用いて位相変化を算出する位相変化算出工程（ステップＳ３）と、位相量が、Δφ・（ｋ−１）（ただし、ｋ＝１，…，ｎ）の近傍の複数の候補画像を補間演算用画像として選択する補間演算用画像選択工程（ステップＳ４）と、この補間演算用画像を用いて補間演算を行うことにより、前記ｎ個の干渉縞画像を取得する干渉縞画像算出工程（ステップＳ５）とを備える。 （もっと読む）

【課題】２つのミラーの間の直交度を迅速かつ高い精度で計測する。
【解決手段】第１ミラー５４１および第２ミラー５４０を有する物品における前記第１ミラー５４１の反射面と前記第２ミラー５４０の反射面との直交度を計測する計測方法に係り、前記計測方法は、前記第２ミラー５４０の反射面に対して直角にレーザ光ＬＢ１が入射するように前記レーザ光ＬＢ１の光軸を調整する調整ステップと、前記第１ミラー５４１の反射面に平行な方向に前記物品を既知の距離だけ移動させたときの、前記レーザ光ＬＢ１が入射するように前記第２ミラー５４０の反射面に配置されたコーナーキューブＣＣ１によって反射された前記レーザ光ＬＢ１の光軸の変位量を検出する検出ステップと、前記距離と前記変位量とに基づいて前記第１ミラー５４１の反射面と前記第２ミラー５４０の反射面との間の角度が直角からずれている量を計算する計算ステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】物体に簡便で小型な反射センサーを取り付け、回転・傾斜を精密にリモート計測する方法を提供する。
【解決手段】リモート観測方向に設置固定された偏光検知器と、物体に取り付ける反射センサーと、該反射センサーに円偏光を照射する光源装置から成り、且つ、該円偏光の照射角度範囲の設定によって、該反射センサーで所定の範囲の入射角度分布で正反射せしめ、その正反射せしめることで、該正反射光束を偏光反射の既知の入射角依存性に従う所定の空間分布の発散する楕円偏光光束を成さしめ、その楕円偏光光束を検出して、リモート観測方向へ向かう光線成分の偏光楕円から該反射センサーのリモート観測光軸周りの回転角θと観測光軸と成す傾斜角φを計測する。 （もっと読む）

【課題】面形状計測装置における計測ヘッドの小型化および軽量化に有利な技術を提供する。
【解決手段】被検面の形状を計測する面形状計測装置は、基準点から光を放射し被検面で正反射して戻ってくる被検光を検出することによって前記被検面から前記基準点への法線の方位を計測するための計測ヘッドと、前記計測ヘッドを走査する走査機構と、前記計測ヘッドを使って計測された法線の方位と前記基準点の位置とに基づいて前記被検面の形状を計算する処理部とを備え、前記処理部は、前記基準点の座標を（ｓ，ｔ，ｕ）、前記被検面から前記基準点への単位法線ベクトルを（α，β，γ）、前記被検面上の点の座標を（ｘ，ｙ，ｚ）、ｑ_０を定数としたときに、（ｘ，ｙ，ｚ）＝（ｓ，ｔ，ｕ）−ｑ（α，β，γ）ｑ＝ｑ_０＋∫（αｄｓ＋βｄｔ＋γｄｕ）に基づいて前記被検面の形状を計算する。 （もっと読む）

【課題】高精度な面形状計測に有利な面形状計測装置を提供する。
【解決手段】被検面の形状を計測する面形状計測装置では基準点から光を放射し被検面で正反射して戻ってくる被検光を検出することによって、前記基準点と前記被検面との間の距離または前記被検面から前記基準点への法線の方位を計測する計測ヘッドと、前記計測ヘッドを走査する走査機構と、前記計測ヘッドを使って計測された前記距離または前記方位と、前記基準点の座標と、に基づいて前記被検面の形状を計算する処理部とを備え、前記処理部は、前記走査機構によって前記計測ヘッドを走査経路に沿って走査しながら前記計測ヘッドを使って前記距離または前記方位を計測した結果に基づいて、前記被検面の形状を計算する際に用いられる前記基準点の座標を校正し、前記被検面の面形状を計測する際は、校正時における前記走査経路と同一の経路に沿って前記走査機構によって前記計測ヘッドが走査される。 （もっと読む）