【課題】エリプソメータを用いた膜厚計測方法及び膜厚計測装置において、膜形成前後の計測位置の位置ずれを回避する。
【解決手段】レーザ光出射部１３と試料１０との間に減光フィルタ１５を挿入して試料１０の表面におけるレーザ光の投影光の中心を判定し、レーザ光が所定位置に照射されるようにする。その後、減光フィルタ１５を退避させ、試料１０の表面の偏光状態を計測する。次に、試料１０の面上に薄膜を形成した後、レーザ光出射部１３と試料１０との間に減光フィルタ１５を挿入して試料１０の表面におけるレーザ光の投影光の中心を判定し、レーザ光が所定位置に照射されるようにする。その後、減光フィルタ１５を退避させ、試料１０の表面の偏光状態を計測する。次いで、薄膜形成前後における偏光状態の変化から、薄膜の厚さを求める。 （もっと読む）

【課題】ＴＩＳの平均値以外の重ね合わせ測定精度に関わる指標も考慮し、総合的に最適な焦点位置を決定できる重ね合わせずれ量算出方法を提供する。
【解決手段】重ね合わせずれ量の相関係数、基板面内のTISの３σ、繰り返し測定再現性を考慮し、（焦点位置決定値）＝−（相関係数）＋（基板面内TISバラツキ）＋（繰り返し測定再現性）と、上記焦点位置決定値を定義する。この焦点位置決定値を測定マークに対する光学顕微鏡の最適な焦点位置決定指標として用いる。この焦点位置決定値が最小となる焦点位置を最適な焦点位置と決定し、その最適焦点位置における基板面内のTISの平均値を個々の重ね合わせずれ量に対して補正を行う。 （もっと読む）

【課題】光の反射率が異なる複数の測定対象部位を有する試料に対しても精度の高い測定を可能とする。
【解決手段】メモリ６５には、試料３０の第１及び第２の測定対象部位に応じた光量設定データを予め記憶されている。制御ユニット６０の第１の画像取得制御部６２は、第１の光量設定データで表される光量の光により、共焦点顕微鏡の各焦点位置で得られた各画像の中で輝度が最も高い画素のみが選択された画像を取得し、その画像をメモリ６６に記録する。続いて、第２の画像取得制御部６３は、第２の光量設定データで表される光量の光により、共焦点顕微鏡の各焦点位置で得られた各画像の中で輝度が最も高い画素のみが選択された画像を取得し、その画像をメモリ６６に記録する。そして、３次元測定装置は、第１及び第２の画像取得制御部６２，６３により取得された画像から輝度が最大の画素が撮像されたときの焦点位置から第１及び第２の測定対象部位の高さを算出する。 （もっと読む）

【課題】照明強度分布のずれに関係なく安定した測定値を出力でき、光源輝点の位置調整に要していた時間と労力を低減できる寸法測定方法及び寸法測定装置を提供する。
【解決手段】半導体露光用マスク１７上に形成されたパターンの画像を顕微鏡１１にて取得し、得られた画像から任意のパターンの寸法を測定する方法であって、上記顕微鏡の照明強度分布を取得し、得られた照明強度分布の最も平坦な位置を測定に用いる位置として決定し、前記測定に用いる位置に任意のパターンを移動して画像を取得し、得られた画像から前記パターンの寸法を測定する。 （もっと読む）

【課題】 被検物の三次元画像の取得及び三次元計測の時間の短縮化を図ることができる共焦点顕微鏡を提供する。
【解決手段】 被検物１１に照射される照明光束を射出する光源１２から被検物１１に至る光路上に、対物レンズ１３を経た照明光束が集光する複数の集光点２４，２５，３９，４０，４１を対物レンズ１３の光軸上に形成するための集光点形成部材２０を配置する。 （もっと読む）

本発明は、対象物の照射、及び対象物が位置する区域からの光の検出、並びに検出された光に基づく画像の形成を含む対象物を撮像する方法に関し、対象物の照射は、撮像平面又は空間内の画素を区別し、かつこれらの画素に対応する対象物の部分を別々に照射し、同時にこれらの対象物部分に印加される照射量を指示することによって実行され、画像は、それに続いて、これらの画素に関連する光出力及び照射量に従って照射対象物部分に対応する画素を集めることによって構成され、各個別の対象物部分の照射量は、少なくとも、他の対象物部分又はいくつかの他の対象物部分の光出力及び／又は照射量に依存する。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、同種画像間の画像認識に用いられるテンプレートと同等の情報を、設計データに基づいて形成されるテンプレートに付加することで、実画像を取得することなく、設計データに基づいてテンプレートを作成することのできる容易性の維持と、テンプレートと実画像の一致度を高めることによる画像認識技術性能向上の両立にある。
【解決手段】
上記目的を達成するために、以下に設計データに基づいて、画像認識用のテンプレートを作成する際に、当該テンプレートによって特定される領域の材料情報に基づいて、当該テンプレート内の各位置の輝度情報を設定する方法，装置、及びプログラムを提案する。また、その一例として、材料の情報に加えて、上記領域上に配置されたパターンの大きさ，画像取得装置の装置条件，試料の層情報，パターンの線分情報の少なくとも１つの情報に基づいて、輝度レベルを設定する。 （もっと読む）

【課題】 デバイスの製造中に、リソグラフィ技術、およびレンズの開口数が高い瞳面で角度分解スペクトルの測定を使用して、オーバレイおよび格子形状パラメータを測定する方法を提供すること。
【解決手段】 レンズの開口数が高い瞳面にて、放射線が基板で反射した結果としての角度分解スペクトルを測定することによって、基板の特性を求める装置および方法である。特性は、角度および波長に依存し、ＴＭおよびＴＥ偏光の強度、およびその相対的位相差を含む。 （もっと読む）

【課題】短時間で、広い測定レンジにおいて表面形状を測定することができる表面形状測定装置を提供すること
【解決手段】本発明の一態様に係る表面形状測定装置１００は、波長の異なる第１波長の光と第２波長の光とを含む照明光を出射する光源部と、照明光から参照面に照射する参照光を生成するとともに、照明光を試料２０に照射し、その反射光と前記参照光とを合成して干渉光を生成する干渉光学系１３と、試料２０と参照面との光路差を複数回調整する制御部と、制御部による同じ調整状態で光路差を与えたときの干渉光に含まれる第１波長の光による第１干渉光を受光する第１受光部と、第２波長の光による第２干渉光を受光する第２受光部とを備える光検出器１６と、光検出器１６により取得された第１干渉光による第１干渉画像と、前記第２干渉光による第２干渉画像とに基づいて、試料２０の表面形状を求める処理部とを備える。 （もっと読む）

【課題】対物レンズを切り替えても精度良くセクショニングが可能で標本の画像取得後に所望のセクショニング分解能の正確な共焦点画像を得る。
【解決手段】光源５の光を走査する走査手段１６と、走査手段１６を経た光を標本３に集光する対物レンズ１３と、観察光の光路を分割する分割手段１９と、対物レンズ１３の焦点と略共役な位置で分割手段１９で分割された一方の光路上に配置された開口径を変更可能な第１ピンホール手段２０と、該手段２０と開口径が異なり対物レンズ１３の焦点と略共役な位置で分割手段１９で分割された他方の光路上に配置された第２ピンホール手段２２と、これらのピンホール手段２０，２２を通過したセクショニング分解能の異なる２つの光束から得た２つの共焦点画像のデータに基づき前記共焦点画像とセクショニング分解能の異なる共焦点画像を作成する演算手段３７を有する共焦点顕微鏡。 （もっと読む）

【課題】
従来のパターンマッチング方法は、登録されているｎ個の基準パターンについてマッチングを行うため、パターンマッチングの回数が飛躍的に増大し、パターンマッチングのスループットの効率が悪い。
【解決手段】
撮像したＴＶカメラの画像の所定部分のパターンと複数の基準パターンとを比較してパターンマッチングを行うパターンマッチング方法において、上記複数の基準パターンのそれぞれが重み付され、上記複数の基準パターンの一つの基準パターンが上記被測定物の所定部分のパターンと一致した場合、上記一致した基準パターンの重みを変更すると共に、上記被測定物の所定部分のパターンと上記複数の基準パターンとのパターンマッチングを行う場合、上記重み付された複数の基準パターンの内、重みの高い基準パターンから順次上記被測定物の所定部分のパターンとパターンマッチングをするように構成される。 （もっと読む）

【課題】薄膜の微小構造を高いコントラストで観測でき、かつ膜厚を定量的に測定することができる膜厚分布測定装置を提供すること。
【解決手段】本実施形態のエリプソメトリー顕微鏡１は、光源２と偏光子５と位相補償子６と対物レンズ８とを備え試料Ｓを所定角で照明する斜め照明系と、対物レンズ８と結像レンズ１５と検光子１６とにより試料Ｓを撮像装置１７の検出面１８に検出する結像系とを備え、結像レンズ１５の前側焦点面を対物レンズ８の後側焦点面に一致させるとともに、結像レンズ１５の後側焦点面を検出面１８に一致させ平行光として投射するとともに、結像系により検出面１８に試料Ｓの散乱光による像を結像させ、高倍率でかつコントラストの高い膜厚分布の差を測定できる。 （もっと読む）

【課題】顕微鏡の移動速度やオートフォーカス速度に関わらず、レビュー検査を効率的に行い、検査時間短縮を実現することが可能な検査システムを提供すること。
【解決手段】欠陥検査装置とレビュー検査装置とを備えた検査システムであり、前記欠陥検査装置は、基板に形成された欠陥を認識し、前記欠陥の位置座標を示す欠陥位置座標および前記欠陥のサイズを示す欠陥サイズを含む欠陥情報を取得する。また、前記レビュー検査装置は、前記欠陥検査装置によって取得した前記欠陥位置座標に基づいて、撮像範囲を相対的に移動させて前記基板を顕微鏡にて検査し、前記欠陥情報および前記撮像範囲を構成するための撮像範囲情報に基づいて、前記相対的な移動の回数が少なくなるよう座標を算出する座標算出部を備える。 （もっと読む）

【課題】精度と信頼性の高い潤滑剤の塗膜状態の測定を行う潤滑剤塗膜計測装置を提供する。
【解決手段】光を一対の物体の接触部分に照射して干渉縞を発生させる光源４０と、干渉縞の分光像を発生させる分光器３６と、この分光器で発生した分光像を拡大する顕微鏡３８と、顕微鏡で拡大された分光像を高速撮影する高速度カメラ３４と、高速度カメラを接触部分に沿って移動させる高速度カメラ移動手段４６と、高速度カメラから得た高速撮影データに基づいて油膜の状態を計測する演算手段５０とを備えている。 （もっと読む）

【課題】
基板ステージの移動誤差を短時間で計測する露光装置を提供する。
【解決手段】
基板を保持して移動されるステージと、前記ステージに保持された基板上のマークを撮像するスコープと、を有し、前記ステージに保持された基板を露光する露光装置であって、移動される前記基板ステージ上の計測用基板に配列された複数の第１マークを前記スコープに順次撮像させることにより、前記スコープを基準として前記複数の第１マークそれぞれの位置および回転量を算出し、算出された前記複数の第１のマークそれぞれの位置および回転量と、予め計測された前記複数の第１マークそれぞれの位置および回転量とに基づいて、前記基板ステージの移動誤差を算出する処理部と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ガラス基板の製造工程で生じる内包物と表面に含まれる凹欠陥および凸欠陥とを区別することで、ガラス基板の歩留まりを向上させることが可能な、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクを提供することを目的としている。
【解決手段】本発明にかかる磁気ディスク用ガラス基板１００の製造方法は、基板状態測定工程Ｓ２００と、欠陥面内位置特定工程Ｓ２０２と、面内位置を特定した欠陥が磁気ディスク用ガラス基板１００の表面にあるか否かを、結像手段が面内位置で結像する像の数に基づいて判断する表面欠陥判断工程Ｓ２０４と、表面欠陥判断工程Ｓ２０４の結果に基づいて磁気ディスク用ガラス基板１００を良品であるか否かを判定する良品判定工程Ｓ２０６と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】安価で高精度且つ高速に高さ情報を測定可能な走査型レーザ顕微鏡を提供することを課題とする。
【解決手段】光偏向器９により被検物３上をライン状に走査して得られる１ライン分の高さプロファイルを、その走査方向に所定量だけずらしながら複数取得する。演算処理部１９は、取得した複数の高さプロファイルを繋ぎ合わせて１つのプロファイルを求める。 （もっと読む）

方法は、試験対象物をモデル化するための異なるモデルパラメータに対応した複数のモデル信号の各々と、試験対象物の位置に対して得られた走査干渉法信号とを比較することを有する。各モデル信号に対して、比較することは、走査干渉法信号とモデル信号の間の相関関数を算出し、走査干渉法信号とモデル信号の間の表面高さオフセットを特定すること、および、特定した表面高さオフセットに基づいて、共通の表面高さに対する、走査干渉法信号とモデル信号の間の類似点を表わす高さオフセット補正済メリット値を算出することを有する。本方法は、異なるモデル信号に対する各々のメリット値に基づいて、試験対象物の位置での試験対象物パラメータを判定することをさらに有する。
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【課題】製造された各々の顕微干渉計においてクランプ部の傾き較正を容易に行うことができ、かつクランプ部の傾き調整精度に係るトレーサビリティ体系を確立し得る顕微干渉計クランプ部の傾き較正方法および傾き較正用治具を得る。
【解決手段】基準フェルール４１を用いてクランプ部２０の傾き較正がなされた標準顕微干渉計１０により、副基準フェルール５０の先端面５４の頂点偏心量を測定し、その測定された値を固有頂点偏心量の値として副基準フェルール５０に付す。次に、固有頂点偏心量の値が付された副基準フェルール５１を用いて、先端面５４の擬似頂点と中心点との位置のずれ量を測定し、該ずれ量と固有頂点偏心量との差に基づき、被較正顕微干渉計１０Ａのクランプ部２０Ａの傾きを較正する。 （もっと読む）

【課題】光学系の収差の影響を排除して薄膜の膜厚の測定精度を向上させる。
【解決手段】光検出器７は、試料１である薄膜にスポット光を照射したときにおける該薄膜からの反射光の輝度を、対物レンズ２を介して検出する。リファレンスメモリ１６には、対物レンズ２からの光軸方向の距離と該距離の位置より対物レンズ２へ向かう光の光検出器７により検出される輝度との関係を示す基準データが格納される。顕微鏡制御部１１は、該薄膜の対物レンズ２からの距離を光軸方向に変化させて、該距離と光検出器７で検出される輝度との関係を示す測定データを取得する。膜位置検出部１７は、基準データ及び測定データに基づいて、該薄膜からの反射光の輝度が極大の高さとなるときの対物レンズ２からの距離を特定する。フィッティング計測部１８は、膜位置検出部１７により特定された距離に基づいて、該薄膜の膜厚を取得する。 （もっと読む）