【課題】エッジ検出により、見え方が多種多様なワーク・アライメントマーク（ワークマーク）のパターンの位置を、正しく検出できるようにすること。
【解決手段】アライメント顕微鏡によりワークマークのパターンの画像を受像し、この画像を制御部に送る。制御部では、取得したパターンの画像［（ａ）（ｄ）］の中心付近から複数の放射方向について、距離に対する輝度の分布を求める［（ｂ）］。そして、求めた輝度分布を微分し、距離に対する輝度の変化である微分値を求め［（ｃ）］、微分値の極大値の位置を、各放射方向について求める。求めた極大値の位置を、それぞれ一つずつ抽出して組み合わせ、極大値の位置を通る閉曲線に近似した円を複数求める。この複数の円の半径と、ワーク・アライメントマークの半径とを比較し、上記複数の円のなかから半径が最も近い円を選択し、その円の中心位置をワーク・アライメントマークの位置とする。 （もっと読む）

【課題】光路長シフト法を用いたデジタルホログラフィにおいて、高精度計測を行うことができるデジタルホログラフィ装置を提供する。
【解決手段】本発明に係るデジタルホログラフィ装置は、被写体からの物体光と物体光に対してコヒーレントな参照光とが干渉して形成される干渉パターンを示すデータから、物体光の複素振幅分布を求めるコンピュータ４を備え、コンピュータ４は、上記被写体からの光路長が異なる２つの干渉パターンを示すデータを取得するデータ入力部１０と、上記２つの干渉パターンのデータを用いて、０次回折光の物体光成分を求め、上記０次回折光の物体光成分を用いて物体光の複素振幅分布を求める物体光算出部１１とを備える。そのため、被写体の高精度な再生像を生成することができる。 （もっと読む）

【課題】 三次元干渉顕微鏡観察を提供する。
【解決手段】 サンプル内にあるスイッチャブル光源のうち統計的に散在するサブセットが活性化され、活性化されたスイッチャブル光源が励起され、それにより、光ビームが、少なくとも２つの光路に沿って、活性化されたスイッチャブル光源から放出される。活性化されたスイッチャブル光源から第１の光路に沿って放出される第１の光ビームでの第１の波面修正が導入され、活性化されたスイッチャブル光源から第２の光路に沿って放出される第２の光ビームでの第２の波面修正が導入され、第２の波面修正が、第１の波面修正とは異なる。第１および第２の光ビームが、互いに干渉されて、複数の出力ビームを生成し、光源の三次元位置情報が、複数の出力ビームからの各出力ビームの強度に基づいて決定される。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリント成型積層体の欠陥検査や膜厚測定を簡便かつ迅速に、非破壊で行うことが可能な検査方法を提供すること。
【解決手段】本発明の検査方法は、鋳型モールドを用いるナノインプリント法により成型されたレジスト材料からなる膜層を有する基板に対して、レジスト材料を発光させる励起波長の光を照射し、基板上の成型されたレジスト材料からなる膜層からの発光を発光パターン画像として取得する工程(1)と、該発光パターン画像を、成型に用いた鋳型モールドのパターン画像又は同一鋳型モールドで繰り返し成型した該発光パターン画像と異なる発光パターン画像と比較し、画像の相違点を欠陥として検出する欠陥検出工程(2)及び／又は、該発光パターン画像を発光強度により解析し、発光強度の値から膜厚を測定する膜厚測定工程(3)とを含み、半導体、配線基板、電子デバイス、光学デバイス等の製造における品質管理に有用である。 （もっと読む）

【課題】画像特徴ベクトルを使用した画像パターン認識用のシステム及び方法を提供する。
【解決手段】画像特徴部に見つけられるベクトルに対応する、それぞれのベクトルインデックスを格納するため、ベクトルセットが生成される(ステップ２１０）。画像特徴部に対する各ベクトルの相関関係が計算される(ステップ２１５）。画像特徴部に対する各ベクトルの相関関係が対応のベクトルインデックスとともにベクトルセットに格納される(ステップ２２０）。次に特定される画像のために、上記トレーニング段階が繰り返される(ステップ２２５）。新しい画像の候補領域が特定される(ステップ２３０）。候補領域におけるベクトルに対応する特別のベクトルセットへの相関関係の平均が計算される(ステップ２３５）。候補領域が一若しくは複数のベクトルセットにより表される特徴部を示す可能性を判断するために、上記平均が評価される(ステップ２４０）。 （もっと読む）

【課題】 簡易な構成により、参照ミラーを僅かに傾斜させるだけで、ウェハなどの試料（被測定物）の表面形状を計測し、ごみやポールピースなどの正確な座標位置を特定し、電子顕微鏡、描画装置などの荷電粒子ビーム装置にその正確なデータを送受信して、作業効率の向上に一層貢献することができる干渉顕微鏡及び測定装置を提供する。
【解決手段】ウェハなどの試料にレーザ光を照射し、干渉計を用いて、試料の表面内部を観察検査する干渉顕微鏡及び測定装置において、ビームスプリッターと参照ミラーとの間に光を導光するための参照光路を設けるとともに、ビームスプリッターと試料との間に光を導光するための測定光路を設けて、参照光路と測定光路において光学的光路差を設ける。しかも、参照ミラーを微小量傾けることによって、検出手段に干渉縞を形成する。 （もっと読む）

【課題】多層パターンに対してテンプレート・マッチングを短時間で且つ正確に行うことができる画像処理方法及び装置を提供する。
【解決手段】上層パターンと下層パターンをそれぞれSEM画像の間でパターン・マッチングを行ない、上層相関マップと下層相関マップを生成する。上層相関マップと下層相関マップを合成して合成相関マップを生成する。合成相関マップより、相関値が極大値を取る点を、マッチング位置とする。このような予備マッチングの結果を利用して、再度、高精度マッチングを行う。高精度マッチングでは、上層パターンと下層パターンを合成し、合成画像を生成する。この合成画像は層間ズレ情報が含まれている。この層間ズレ付き合成画像とＳＥＭ画像の間でテンプレート・マッチングを行う。 （もっと読む）

【課題】操作者の負担を大幅に軽減しながら、細胞内の特定の領域における蛍光を正確に精度よく定量して、たんぱく質の局在や移行を正確に検出・特定することの可能な三次元細胞画像解析システム及びそれに用いる解析装置を提供する。
【解決手段】三次元細胞画像撮像装置１と、三次元細胞画像解析装置２を有する三次元細胞画像解析システムであって、撮像装置１は、蛍光標識された特定のたんぱく質の細胞内挙動を観察可能であるとともに、試料への合焦位置をＺ方向に連続的に変えて結像する観察光学系１ａと、光学系１ａを介して結像された細胞像を撮像する撮像素子１ｂを有し、解析装置２は、コンピュータを、撮像装置１を介して取得された三次元の蛍光細胞画像を解析して、特定の細胞内領域へのたんぱく質の局在あるいは移行を定量化する局在・移行定量化手段２ａとして機能させる画像解析ソフトウェアを備える。 （もっと読む）

【課題】広いダイナミックレンジを有する出力信号を提供する。
【解決手段】検出された出力信号は、それから分析されて欠陥が試料上に存在するか決定される。例えば、ターゲットダイからの強度値は、レファレンスダイの対応する部分からの強度値と比較され、大きな強度差は欠陥として定義される。具体的な実施形態において、試料上の欠陥を検出する検査システムが開示される。前記システムは、入射ビームを試料表面に向けて導くビーム発生器、および前記入射ビームに応答して前記試料表面から来るビームを検出するよう配置された検出器を含む。前記検出器は、前記検出されたビームを検出し、前記検出されたビームに基づいて信号を発生するセンサおよび前記センサに結合された非線形要素を有する。前記非線形要素は、前記検出された信号に基づいて非線形検出信号を発生する。さらに、前記非線形要素に結合された第１アナログディジタル変換器（ＡＤＣ）を含む。 （もっと読む）

【課題】生体試料の三次元形状を高精度に測定することが可能な構成の形状測定方法、画像処理プログラム、観察装置を提供する。
【解決手段】生体試料たる受精卵とこの受精卵の像を結像する第１観察光学系との光学的距離を変化させながら第１撮像装置により受精卵を一方側から順次撮影した複数の第１画像と、受精卵とこの受精卵の像を結像する第２観察光学系との光学的距離を変化させながら第２撮像装置により受精卵を他方側から順次撮影した複数の第２画像とを取得し、複数の第１画像及び第２画像に基づいて合焦測度を画素単位で算出し、受精卵の一方側の領域については第１画像より得られた合焦測度情報を優先適用し、受精卵の他方側の領域については第２画像より得られた合焦測度情報を優先適用して各画素の合焦点を求め、合焦点位置に基づいて受精卵の三次元形状を構築する。 （もっと読む）

【課題】基板上に成膜された薄膜の厚さを精度良く測定可能な膜厚測定装置及び膜厚測定方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板２上に成膜されて且つレーザ加工装置１から照射される加工用レーザによってスクライブ溝Ｇｖが形成される薄膜の厚さを測定する膜厚測定装置６であって、レーザ加工装置１から薄膜に照射された加工用レーザのガラス基板２平面内における照射位置が格納された照射位置情報に基づいて、検査対象薄膜３ａに形成されたスクライブ溝Ｇｖの位置を特定する。そして、特定した位置に形成されているスクライブ溝Ｇｖの深さを測定し、その測定値に基づいて検査対象薄膜３ａの厚さを取得する。 （もっと読む）

【課題】 半導体チップが集積したウエハーなどに代表される被検査対象物の集合体の外観検査方法およびその方法を用いて検査する外観検査装置に関する。特に、個々の被検査対象物が、ランダムに位置している場合でも外観検査を効率良くおこなうことに関する。
【解決手段】 被検査対象物の集合体として多数個形成された被検査対象物の欠陥を検出する外観検査をおこなうに際し、検査レシピ条件に沿って、照明の種類や角度その他撮像の倍率が変わる回数だけ何回も検査する必要があるが、その各々の被検査対象物の角度が基準となる水平な角度とずれている量を補正データとして格納することによって、次回からの繰り返しの検査においては、当該格納された情報を呼び出し、補正した後に外観検査をおこなうことによって、都度の位置や回転角度の測定作業を回避することにより、外観検査時間を短縮する。 （もっと読む）

【課題】被覆膜の厚さと独立して、基板よりも反射率の低い被覆膜付きの基板上に存在するパターンの三次元形状を非破壊で測定することができる三次元形状測定装置を提供することである。
【解決手段】可視光に対して透明な被覆膜付きの基板上に設けられた不透明なパターンの物理的三次元形状を測定する三次元形状測定装置であって、第１波長の照明光と、前記第１波長と異なる第２波長の照明光とを切り替えて照射する光源部と、前記第１波長の照明光を照射したときの前記パターンと前記被覆膜との第１仮想段差と、前記第２波長の照明光を照射したときの前記パターンと前記被覆膜との第２仮想段差とを測定する光検出器と、前記第１仮想段差と前記第２仮想段差とに基づいて、前記パターンの物理的三次元形状を決定する処理部とを備える。 （もっと読む）

【課題】デバイス画像を生成するための方法、システムおよびコンピュータ・プログラムを開示する。
【解決手段】方法は、デバイスの第一および第二画像を撮像するステップであって、該第一および第二画像はオーバーラップする部分を有する、撮像するステップと、オーバーラップする部分を予測して、第一および第二画像を近似的に整列するためのおおよそのシフト量を得るステップと、を含む。方法は、定義された相互相関アルゴリズムを使ってオーバーラップする部分を解析し、第一および第二画像を整列するための厳密なシフト量を計算するステップと、厳密なシフト量を使って第一および第二画像を一緒に結合するステップと、をさらに含む。一つの実施形態において、光学システムを使って画像が撮像され、第一および第二画像を撮像するために、ステージを使ってデバイスまたは光学システムのいずれかが移動され、予測するステップは、ステージの移動量を用いてオーバーラップする部分を予測するステップを含む。 （もっと読む）

【課題】透過性の無い粒子であっても計測可能で、かつサブミクロン程度の粒子でも高精度に粒子径を測定できる球状粒子径の計測装置および計測方法を提供する。
【解決手段】球状粒子１を２方向から照射する２つのレーザ光源２および３と、この照射光が球状粒子１の表面で正反射して生じる２つの輝点間の距離を計測するための測長手段と、計測した２つの輝点間の距離から前記球状粒子の径を算出する手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】製造された全ての半導体基板の所定の測定点における少なくとも応力と膜厚とを自動的に測定し、かつ、的確に分析して高性能で生産性よい基板製造工程の確立に寄与する基板検査装置を提供できるようにする。
【解決手段】測定対象ウェハ３を移動可能な試料台４上に搬送する搬送装置と、試料台４上のウェハ３表面の測定点Ｐを観察する光学顕微鏡１０と、その測定点Ｐに多波長の偏光された光Ｌ₃を照射してウェハ表面に関する情報を出力するエリプソメータ光学系４０と、ウェハ３の測定点Ｐにレーザ光を照射してウェハ３に関する他の情報を出力するラマン分光光学系２０と、それら情報を用いて膜厚・屈折率及び応力・組成などの物理情報を解析し出力するコンピュータ６０とを備えている。 （もっと読む）

【課題】測定対象となる非球面体が鍔状の平面部を有していない場合でも、面ずれおよび面倒れを高精度に測定できるようにする。
【解決手段】第１干渉計１Ａと第２干渉計１Ｂとを用いた光干渉計測により、非球面レンズ９の第１レンズ面９１および第２レンズ面９２の各中心部の形状データを求め、各々の形状データから、第１レンズ面９１の第１臍点Ｐ_１、第１曲率中心および第１軸線の各位置データを第１測定座標系において求めるとともに、第２レンズ面９２の第２臍点Ｐ_２、第２曲率中心および第２軸線の各位置データを第２測定座標系において求める。これらの各位置データと、第１測定座標系および第２測定座標系の相対位置関係とに基づき、非球面レンズ９の面ずれおよび面倒れを求める。 （もっと読む）

【課題】高精度な断面形状の検出を可能にする。
【解決手段】撮像カメラの焦点位置をＺ座標方向に順次変化させながらＺ座標方向に深さを有する箇所中でＸ座標方向には一様な断面形状をなす部分がＸ座標に平行となるように撮像して各焦点位置のＺ座標で特定される階層毎の撮像データを取得してメモリに記憶させる撮像データ取得工程（ステップＳ１〜Ｓ４）と、階層毎に取得されメモリに記憶された撮像データ中でＸ座標方向には一様な断面形状をなす部分の該撮像データを構成する複数の画素の中でＹ座標により特定されるＸ座標方向に並んだ画素をライン集合画素とし、ライン集合画素から得られる空間強度分布に基づいてＺ座標方向に深さを有する箇所の断面形状を求める演算工程（ステップＳ５〜Ｓ７）と、を含む。 （もっと読む）

【課題】 高速生産される球状体の直径不同を、生産速度に合わせて迅速、正確かつ安価に測定する方法と、その測定方法を用いた球状体の選別方法及び選別装置を提供する。
【解決手段】 揺動している球状体１１の外形画像を、垂直方向と水平方向から複数回撮影する。（ア）垂直方向から撮影した画像について、各画像における直径の最大値（最大径）を求め、全画像を通して最大径の最大値（直径最大値）を求め、最大直径ｄ_ｍａｘとする。（イ）水平方向から撮影した画像について、各画像における直径の最小値（最小径）を求め、全画像を通して最小径の最小値（直径最小値）を求め、最小直径ｄ_ｍｉｎとする。（ウ）最大直径ｄ_ｍａｘと最小直径ｄ_ｍｉｎとの差、Δｄ＝ｄ_ｍａｘ−ｄ_ｍｉｎを直径不同とする。 （もっと読む）

【課題】共焦点顕微鏡はニポウディスクを回転することによって、光が撮像面をスキャンするが、得られる画像はニポウディスクの回転速度とカメラのフレームレート（シャッタースピードはフレームレートと同じと仮定）により、異なるものとなる。例えば、ニポウディスク１回転で４枚の画像か得られる場合に、ニポウディスクなどの光学素子の特性が、回転している位置によって異なると、輝度が不定期に変化するフリッカとして現れる。
【解決手段】高さ測定部に１垂直同期信号毎に時間差を持ったフレームバッファを複数段設け、それぞれの画像の画素毎に平均を行い、その平均画像を用いて、高さ測定を行う。なお、好ましくは、フレームバッファの段数はニポウデイスクが１回転分の映像枚数である。 （もっと読む）