【課題】マークを検出する処理を効率よく行う。
【解決手段】候補数決定部３７は、マークの探索の対象となる探索領域の画像の面積と、マークを含む大きさのテンプレート画像の面積との比率に基づいた候補数を決定する。粗探索部３３は、探索領域の画像における所定の対象領域を対象としたテンプレート画像とのマッチングを行い、その結果を示すマッチングスコアの出力を、探索領域の全域にわたって行う。そして、精密探索部３４は、粗探索部３３において出力されるマッチングスコアのうちの、マッチングスコアが高いものから前記候補数分マッチングスコアが求められた対象領域を対象として、テンプレート画像とのマッチングを精密に行い、テンプレート画像と合致する対象領域の位置を、マークの位置として検出する。本発明は、例えば、シリコンウェハに形成されたマークの位置を検出する検出装置に適用できる。 （もっと読む）

【課題】基板の処理面の位置情報に基づいて、位置決め誤差を解決した位置決め装置を提供する。
【解決手段】表面状態計測部（顕微鏡カメラ９、表面計測部５３ａ）は、基板の表面状態を観察して画像データとして計測する。位置計測部５３ｂは、インクジェットヘッド１０および表面状態計測部の位置を計測する。記憶部５３ｃは、予め基板の表面状態を記憶している。誤差量演算部５３ｄは、インクジェットヘッド１０の移動において、位置計測部５３ｂにより計測された、表面状態計測部の移動前の位置および表面状態計測部の移動量を基に、記憶部５３ｃから移動後の基板の予想される表面状態を求めて、予想される表面状態と、移動後の位置における表面状態計測部により計測された表面状態とを、比較することで、移動誤差量を求める。位置補正部５３ｅは、誤差量演算部５３ｄにより求められた移動誤差量を基に、インクジェットヘッド１０の位置を補正する。 （もっと読む）

【課題】 検査領域からデータを得るための広範囲でより正確に規定された可能性を与える。
【解決手段】 検査領域９に向けられるユーザのサイトラインを検出するためのサイトライン検出デバイス３５と、前記ユーザによって出される要求を受けるための入力デバイス６３と、基準座標系１３に対して検査領域９における少なくとも１つのロケーション５９、５５を同定し、前記要求を受けたときに、前記ユーザの目が向けられる検査領域９のロケーション５９、５５の座標に割り当てられる座標セット（ｘ、ｙ、ｚ）を与えるための装置２１、２３、３５、３７と、前記ユーザの視野において前記座標セットに応じて決定される検査領域９の少なくとも１つの点におけるデータの表示と検査領域９とを同時に見ることができるように、前記ユーザの視野に前記データを表示するためのディスプレイとを具備する。 （もっと読む）

【課題】保存した画像データに対して計測を行うことが可能となる画像データ形式、画像データ、計測プログラム、計測装置を提供する。
【解決手段】顕微鏡により観察される標本をカメラで撮像して得られる画像データ形式において、前記画像データは、前記カメラが有するＣＣＤの有効画素数と、保存する画像サイズと、前記ＣＣＤの画素ピッチと、前記顕微鏡の光学系の倍率とが対応付けられて保持していることを特徴とする画像データ形式。 （もっと読む）

【課題】半導体集積回路装置の製造技術において、データ作成が簡単で不良部の目視確認が容易な、基板上に印刷された半田の２Ｄ・３Ｄ検査技術を提供する。
【解決手段】２Ｄ・３Ｄ半田印刷検査装置による基板の検査工程において、検査装置に２Ｄ検査機能と３Ｄ検査機能を実装し、最初に３Ｄ検査を実行し、続いて２Ｄ検査を実行することで、検査終了と同時に不良判定パッド（印刷半田）の部分の２Ｄ撮像画像を拡大表示することを可能とし、それにより作業者に効率的な目視確認環境を提供する。また、検査データ作成時に生基板を測定することにより、検査装置が自動で生成した独自の高さ測定基準とパッド上面高さとの関係を調べ、これにより、検査においてパッド上面基準による印刷半田の高さ・体積の測定を可能とする。 （もっと読む）

【課題】 平面画像による位置決め精度が上がらない場合でも三次元情報を利用して、必要な位置決め精度を実現しつつ、検査を可能な限り短時間で行うこと。
【解決手段】 移動ステージと、被検体の平面画像を取得する平面画像取得手段と、三次元情報を取得する三次元情報取得手段と、予め記憶されている基準画像と平面画像とに基づき位置ズレ量を演算する平面画像位置ズレ検出部と、三次元情報取得の要否を判断する三次元情報取得判断部と、三次元情報取得手段で取得した三次元情報に基づき二次元画像を生成する二次元画像生成部と、予め記憶されている基準画像と二次元画像とに基づき位置ズレ量を演算する二次元画像位置ズレ検出部と、位置ズレ量に基づきステージの位置補正量を演算する補正計算部と、移動指令または位置補正量に基づきステージの移動を制御するステージ制御部と、平面画像取得手段にて取得した平面画像に基づき検査判定を行う。 （もっと読む）

【課題】ワーク表面の影響を受けずに、好適に焦点合わせを行うことができるオートフォーカス装置を提供する。
【解決手段】硬さ試験機１００において、パターン作成プログラム６３ａにより、試料Ｓの表面に投影する任意のパターンをユーザに作成させ、パターン投影プログラム６３ｂよりその任意のパターンを投影し、任意のパターンが投影された試料Ｓの表面が画像として撮像されると、その画像に基づいて、スペクトル強度算出プログラム６３ｃにより周波数解析を行い、スペクトル強度を算出する。そして、自動焦点合わせプログラム６３ｆにより、試料ＳをＡＦ（Ｚ）ステージ４により移動させ、移動させた位置で、スペクトル強度算出プログラム６３ｃにより算出される、ＤＣ成分から所定距離離れた位置における周波数成分のスペクトル強度が所定値を上回るか否かが判断され、上回ると判断された場合に、その位置にて焦点を合わせる。 （もっと読む）

【課題】分解能を高めた画像処理方法を提供する。
【解決手段】物体を撮像装置に対して相対移動させながら当該撮像装置により得られた、物体の表面の複数の画像に基づく画像処理方法であって、複数の画像から物体の表面における同一箇所に該当する部分を抽出するとともに、当該抽出した部分の信号強度から物体の表面高さを求めて、表面高さの度数分布を求めるステップ（Ｓ１０１〜Ｓ１０２）と、度数分布に基づいて表面高さの確率密度関数を算出し、確率密度関数が最大となる表面高さを表面高さの真値として求めるステップ（Ｓ１０３）とを有している。 （もっと読む）

【課題】 簡易な構成により、参照ミラーを僅かに傾斜させるだけで、ウェハなどの試料（被測定物）の表面形状を計測し、ごみやポールピースなどの正確な座標位置を特定し、電子顕微鏡、描画装置などの荷電粒子ビーム装置にその正確なデータを送受信して、作業効率の向上に一層貢献することができる測定方法及び測定装置を提供する。
【解決手段】ウェハなどの試料にレーザ光を照射し、干渉計を用いて、試料の表面内部を観察検査する測定方法及び装置において、ビームスプリッターと参照ミラーとの間に光を導光するための参照光路を設けるとともに、ビームスプリッターと試料との間に光を導光するための測定光路を設けて、参照光路と測定光路において光学的光路差を設ける。しかも、参照ミラーを微小量傾けることによって、検出手段に干渉縞を形成する。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタの外観検査装置によって検出された欠陥から、気泡を選別処理するガラス基板内の気泡選別処理法を提供する。
【解決手段】１）顕微鏡１４Ｃを用い、欠陥Ｄ４の上方よりガラス基板２０上面に焦点を合わせて欠陥の第１映像情報を取得し、２）ガラス基板内に焦点を合わせ、欠陥の第２映像情報を取得し、３）該欠陥の第２映像情報を構成する検査画素の明るさを２値化して２値検査画素２Ｋ−０とし、４）２値検査画素の位置情報から、最小二乗法を利用した楕円フィッティング処理を行い、適合率より高い際に該欠陥を気泡と判定し、５）該欠陥を欠陥から除外する選別処理を行う。 （もっと読む）

【課題】誤検出を低減して欠陥検出の精度を高め、しかも検査時間の短縮とコスト低減とを同時に図る。
【解決手段】照明光学系は、光を焦点面上に集光して被検査物１００に照射するとともに前記焦点面上の集光点を走査させる。光分割部２０は、被検査物１００から得られる光を分割する。第１の光検出部２１Ａは、集光レンズ３１Ａ、光制限部３２Ａ及び光検出器３３Ａを有し、分割後の一方の光を検出する。第２の光検出部２１Ｂは、集光レンズ３１Ｂ、光制限部３２Ｂ及び光検出器３３Ｂを有し、分割後の他方の光を検出する。光制限部３２Ａと共役な平面と光制限部３２Ｂと共役な平面とは、前記焦点面の付近において、互いに光軸方向にずれている。 （もっと読む）

【課題】
レチクルとウェハ（ウェハステージ）との位置合わせ計測に用いる手順を状況に応じて変更させるようにした露光装置及びデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】
原板（レチクル）ステージに保持された原板を基板（ウェハ）ステージに保持された基板に位置合わせして原板のパターンを基板に投影し基板を露光する露光装置であって、原板に付されたマークと基板ステージに付されたマークとの位置関係を計測する計測部と、原板に付されたマークと基板ステージに付されたマークとを計測部の視野内に入れて計測部に計測を実行させる制御部とを具備し、制御部は、第１の手順（第１の手順は、第２の手順よりも計測部による原板に付されたマークの計測回数が少ない）及び第２の手順を少なくとも含む複数の手順のいずれかにしたがって計測部に計測を実行させ、当該実行した計測により得られた結果に応じて位置合わせを行なうように構成される。 （もっと読む）

【課題】短時間のうちに光沢面の表面形状を正確に測定できる形状測定装置およびその形状測定方法を提供する。
【解決手段】形状測定装置１は、顕微鏡用試料台１６に載置された試料１５の表面像を撮像する撮像部２５と、撮像部２５の撮像光学系の光軸に沿って、撮像光学系を試料１５に対して周期的に相対移動させ、移動量を記憶して出力するピエゾ駆動制御装置と、表面像に試料１５の表面の凹凸を反映した試料１５の表面からの反射光の強度ムラを重ねる二光束干渉対物レンズ１４と、ピエゾ駆動制御装置から出力される撮像部２５の移動距離値の中、二光束干渉対物レンズ１４により反射光の強度ムラが重ねられた表面像を撮像する撮像部２５により撮像される複数の表面像の合焦度が最大となる移動距離値に基づいて、試料１５の表面の相対高さを演算して試料１５の表面形状を求める制御用プロセッサ２７とを備える。 （もっと読む）

【課題】モデルを利用した位置合わせにおいて、人間の関与を極力減らし、画像認識に資する部分を効率的にモデル化するための技術を提供する。
【解決手段】位置合わせを行う対象物と同じ種類の基準物に含まれる基準パターンである回路パターン２を撮像した撮像画像１から、特徴点抽出処理により特徴点３ａ〜３ｄなどの複数の特徴点が抽出される。そして、抽出された複数の特徴点それぞれの座標を含むモデル特徴箇所座標群５を含む基準モデルが記憶される。基準モデルは、各特徴点の周辺から切り出した画像を含むモデル特徴箇所画像群４をさらに含んでもよい。対象物を撮像して取得した対象撮像画像から抽出された複数の特徴点それぞれの座標と、基準モデル内のモデル特徴箇所画像群４とを利用して、基準パターンと対象パターンのずれを表すずれ量を算出して対象物に関する位置合わせ処理を行うことが可能である。 （もっと読む）

【課題】キャリブレーション操作の煩わしさを軽減可能な、顕微鏡用撮像装置と対物ミクロメータを提供すること。
【解決手段】観察手段により観察される標本像を撮像し、観察画像を出力する撮像手段２１と、前記撮像手段の撮像範囲内に含まれる１つまたは複数の寸法校正用パターンと当該１つまたは複数の寸法校正用パターンの近傍にそれぞれ配置された寸法情報パターンの中から、前記撮像範囲内の最外周部近傍に位置する前記寸法校正用パターンを少なくとも１つ選択し、選択した前記寸法校正用パターンに対応する前記寸法情報パターンから当該寸法校正用パターンの寸法情報を取得する寸法情報取得手段２３と、取得した前記寸法情報と選択した前記寸法情報パターンに対応する前記寸法校正用パターン画像の画素数とから１画素当たりの実寸法を算出する寸法校正手段２３と、を有することを特徴とする顕微鏡用撮像装置２。 （もっと読む）

【課題】被検査物をカラー画像により三次元的に観測する光学検査装置の誤差補正装置を提供する。
【解決手段】光学検査装置用補正装置は、第一光によって検査台上の被検査物の外観の画像を得、さらに、第一光と波長の異なる第二光を参照光及び測定光に分割して被検査物の高さに応じた干渉縞の画像を得ることによって被検査物の三次元画像を得る光学検査装置に用いる。光学検査装置用補正装置は、第一光による被検査物の画像を得る時の検査台に関する第１のデータと、第二光による被検査物の干渉縞を得る時の検査台に関する第２のデータとを記憶する記憶装置と、第１のデータと第２のデータとの相違を求めて記憶装置に記憶する制御装置とを備える。 （もっと読む）

【課題】２次元画像生成時にＺ軸真直度の機械的な誤差に基づく画素のずれを補正し、２次元画像の２点間の幅測定を正確に行える次元測定装置を提供する。
【解決手段】共焦点顕微鏡１０は、Ｚステージ２１によりＺ軸方向に移動可能に設けられ、試料１６に対して異なるＺ位置での焦点画像を測定カメラ１８で撮像し、制御ユニット２０へ出力する。制御ユニット２０は、Ｚステージ２１のＺ軸真直度のずれに基づく画素のずれを補正する補正テーブル２０１を備えている。制御ユニット２０は、カメラ画像取込時にＺ軸の高さ位置をリニアスケール２３から読取り、補正テーブル２０１に記憶されている補正データに基づいてカメラ画素の位置を補正し、最大値メモリに保持されている最大輝度値と比較して２次元画像を生成し、Ｚ軸真直度のずれに起因する画素の位置ずれを防止する。 （もっと読む）

【課題】ジョイスティックやトラックボールを使った煩雑な作業を簡易化することが出来、操作性を大幅に向上し得る試料検査装置を提供する。
【解決手段】試料検査装置は、ＣＣＤカメラ及び照明装置を備えた顕微鏡１、この顕微鏡１を制御する画像処理装置８、被検査対象３を検査位置に移動する検査ステージ２、この検査ステージ２を駆動・制御するステージ駆動・制御装置４及び検査システム全体を制御するシステム制御装置６で構成される。画像処理装置８は、マウス等の入力装置８ａ及び処理画像を表示するモニタ９を備え、モニタ画面上に表示された目標画像が入力装置８ａにより指定され、且つ目標画像の移動先が画面上で指定された際に、前記指定された２個所の座標の差分を求め、該差分だけ検査ステージ２を移動させて目標画像を指定位置に移動表示する。 （もっと読む）

【課題】観察環境の変化にかかわらず、精度よく観察する。
【解決手段】観察対象を撮影する撮影部２と、該撮影部２により取得された画像から１以上の特徴量を抽出する特徴量抽出部４と、該特徴量抽出部４により抽出された特徴量に基づいて、撮影部２による観察対象の撮影条件を調節する撮影条件調節部６と、該撮影条件調節部６により撮影条件が調節された後に、撮影部２により取得された画像に基づいて、観察対象における位相差の分布を抽出する位相差分布抽出部３とを備える観察装置１を提供する。 （もっと読む）

試料の画像データを処理する方法が開示されている。当該方法は、前記試料の少なくとも一部が重なっている複数の空間領域の第1画像と第2画像とのレジストレーションを行う手順、及び、前記のレジストレーションされた画像からのデータを処理することで、前記第1画像と第2画像から得られる画像に加えられる前記試料についての情報を有する合成画像データを取得する手順を有する。
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