【課題】屈折率差の小さいベース樹脂上の光透過性膜を形成してなる被測定物における光透過性コート膜の膜厚を、非接触、非破壊で確実にかつ精度よく測定する膜厚測定方法、この方法を実施するための膜厚測定装置を提供すること。
【解決手段】所望波長領域のスペクトル光を放射する光源からの光を照明領域を制限した顕微鏡光学系を介した対物レンズにより集光し、集光光束をベース樹脂上の光透過性コート膜に垂直入射させ、前記光透過性コート膜表面とベース樹脂表面とにより反射して互いに干渉した反射光を、前記対物レンズを介して顕微鏡光学系に戻し、検出光伝送用ファイバにより分光手段に導いて分光し、分光した分光スペクトル強度から反射率を演算する際に、前記反射率を任意の大きさに拡大することにより前記反射率が極小及び極大となる波長を求め、前記極小と極大を与える各波長と、前記膜の屈折率とに基づき前記光透過性コート膜の膜厚を演算算出することを特徴とする薄膜コート層膜厚測定方法。 （もっと読む）

【課題】撮像領域内に局所的に高輝度又は低輝度の部位が存在しても、画像全体として鮮明な２次元画像及び３次元画像を撮像できる共焦点顕微鏡を実現する。
【解決手段】本発明による共焦点顕微鏡は、フレーム画像信号を高ゲイン及び低ゲインで交互に増幅する増幅手段（３２，３３）と、一連の高ゲイン増幅画像及び低ゲイン増幅画像から全焦点画像をそれぞれ形成する手段（３６，３７，３８，３９）を有する。２つの全焦点画像から適正輝度範囲の画素を抽出して画素合成を行う（４３）。増幅手段のゲイン情報と画素合成手段（４３）からの出力信号とに基づいて、増幅率補正された全焦点画像を形成し（４４）、増幅補正された全焦点画像についてγ補正等の輝度補正を行い（４５）、全ての画素が適正輝度範囲内の２次元画像情報を出力する。 （もっと読む）

【課題】パターンの画像を測定しているパターン付き基板上の位置を正確に決定する方法および装置を提供することである。
【解決手段】基板特性の測定方法は、放射ビームＢがマスクＭＡを通過するように構成されたパターン付きマスクを生成してパターンを取得すること、マスクを使用してパターンが与えられたパターン付き放射ビームでの基板Ｗの照射をシミュレーションしてシミュレーションパターンを獲得すること、パターニングの誤差が発生しやすいシミュレーションパターンの少なくとも１つの位置を決定すること、および、リソグラフィプロセスを使用して前記パターン付き放射ビームで前記基板を照射することを含む。方法は、パターニングの誤差が発生しやすいとして決定された基板上のパターンの少なくとも１つの位置の少なくとも１つの特性の精度を測定し、測定に従ってリソグラフィプロセスを調整することも含む。 （もっと読む）

【課題】顕微鏡観察下における微粒子の３次元位置を、速やかに高精度で検出する。
【解決手段】３次元位置検出装置１０においては、対物レンズ１２と第２対物レンズ１５の間の瞳面に、平行光束を分割・偏向する偏向光学部材１３および分割・偏向される前の平行光束の偏向光学部材１３への透過を制限するマスク１４が設けられている。マスク１４は、偏向光学部材１３で分割された各々の光束に対し、結像光学系の瞳面における光束断面形状を所定の形状にするために設けられている。マスク１４は、所定値以上の透過率を有する開口２１を有する。本発明は、顕微鏡観察下における微粒子３次元位置を検出する光学系に適用することができる。 （もっと読む）

【課題】小型化した透明なシリンダ上で安定浮上する磁気ヘッドスライダの浮上量を測定する装置及び方法を提供する。
【解決手段】中空の石英シリンダ３の内側に、貫通穴３２あるいは溝３２´が形成されたシリンダ状のハブ４を装着し、石英シリンダ３に対向させて磁気ヘッドスライダ１を配置する。ハブ４及びシリンダ３をモータ５２により回転させ、磁気ヘッドスライダ１が配置されている側と反対側から光源６３からの光を照射し、石英シリンダ３及びハブ４の貫通穴３２あるいは溝３２´を通過した光により、磁気ヘッドスライダ１の浮上面に発生する干渉縞からの干渉光の強度を光学装置９により測定し、この干渉光強度から磁気ヘッドスライダ１の石英シリンダ３からの浮上量を求める （もっと読む）

【課題】画像全体にランダムな背景情報を含む２次元的な輝度情報に基づいて、３次元形状情報を精度よく測定する。
【解決手段】測定対象の複数の２次元的な輝度情報を取得する２次元情報取得部２と、該２次元情報取得部２により取得された各輝度情報に基づいて３次元形状情報を生成する３次元形状情報生成部３と、測定対象Ａの種類または輝度情報の取得条件と関連づけて補正に用いるパラメータを記憶するパラメータ記憶部５と、該パラメータ記憶部５に記憶されているパラメータを測定対象Ａの種類または輝度情報の取得条件に基づいて選択するパラメータ選択部６と、該パラメータ選択部６において選択されたパラメータに基づいて、３次元情報生成部３において生成された３次元形状情報を補正することにより、該３次元形状情報に含まれる背景情報を除去する補正部４とを備える３次元形状測定装置１を提供する。 （もっと読む）

【課題】試料に対する走査光の選択性を向上させる。
【解決手段】表面形状測定装置１００は、共焦点光学系と非共焦点光学系とを切換え可能であって、試料１０１を照明する照明光の波長を切替える波長切替手段１７と、非共焦点光学系に切換えられた状態で、照明光から参照光を生成すると共に、照明光を試料に照射させ、その反射光と参照光を合成して干渉光を生成する干渉光学系（干渉型対物レンズ１３）と、干渉光学系からの干渉光を受光する光センサ（ＣＣＤカメラ３６）と、共焦点光学系に切換えた状態において、試料１０１と共焦点光学系の光学的な距離を変化させる距離変化手段（顕微鏡ステージ１）と、光センサが干渉光を受光したときの測定結果と、距離変化手段によって光学的な距離を変化させたときの測定結果とに基づいて、試料の表面形状を算出する演算処理部（コンピュータ６）と、を有する。 （もっと読む）

【課題】自動的に自己校正を行うことができる座標測定装置を提供すること。
【解決手段】基板２の自動配向装置３４が関連した座標測定装置１であり、さらに制御及び計算ユニット１６が関連し、自動的にセットされる２以上の異なる基板２の配向に基づいて、自動校正が行われる。 （もっと読む）

【課題】
安定した測定を簡便に行うことができる光学測定装置、及び基板保持装置を提供する。
【解決手段】。
本実施の形態にかかる光学測定装置は、試料を透過した透過光を用いて測定を行う光学測定装置であって、試料５０の端部が載置される載置台１２と、試料５０の下側においてＹ方向に移動可能に設けられ、試料を吸着する吸着口を有する吸着台１８と、吸着台１８に設けられ、前記試料を下側から照明光を出射する照明光源４１と、照明光源４１から試料を透過した透過光を試料５０の上側で受光する測定ヘッド２２と、試料５０の下側に設けられ、載置台１２よりも内側において試料５０を支持する複数の支持部材１６と、吸着台１８に設けられ、支持部材１６と当接することによって一部の支持部材１６の上端を試料５０から離間させる当接部４８と、を備えるものである。 （もっと読む）

【課題】干渉像を有する干渉画像と干渉像が重畳されていない明視野画像を容易、且つ確実に選択可能に取得できる干渉対物レンズと、その干渉対物レンズを備える干渉顕微鏡装置を提供する。
【解決手段】本発明は、切換環５２を枠５３に対して光軸２２の周りに沿って回動させ、第１のビームスプリッタ１２は光軸２２に沿って対物レンズ１０に対して相対移動させる。切換環５２を回動させ、目盛５４ａが目盛５４ｂを選択すると、参照面１３が第１のビームスプリッタ１２を介して対物レンズ１０の物体側焦点位置と光学的に共役な位置に配置され、干渉画像が取得される。また切換環５２を回動させ、目盛５４ａが目盛５４ｃを選択すると、参照面１３が共役な位置から離れた位置に配置され、明視野画像が取得される。 （もっと読む）

【課題】 干渉光学系以外の光学系における観察光学系によって、干渉光学系と干渉光学系以外の光学系におけるサンプルの高さ情報の取得範囲を設定でき、サンプルの３次元形状画像を短時間に容易に取得することができる３次元形状観察装置を提供する。
【解決手段】 フィルタ切換機構１９は、バンドパスフィルタ２１を光軸上に配置し、第１の撮像素子１６は、可視光による光学顕微鏡観察像を撮像し、制御本体部５１は、光学顕微鏡観察画像を用いてサンプル１７の観察位置の調整と、フォーカス位置の調整と、干渉光学系と光学顕微鏡光学系の両方の高さ情報の取得範囲（取得範囲Ｄ１，Ｄ２）を設定する。 （もっと読む）

【課題】 共焦点レーザ走査型顕微鏡における全焦点画像と顕微干渉計測法における高さ画像を効率よく取得することで、試料の３次元形状画像を短時間に取得することができる３次元形状観察装置を提供する。
【解決手段】 本発明は、試料１７を載置するステージ２００と、試料１７の上方に配置される干渉対物レンズ３００と、共焦点レーザ走査型顕微鏡における光学系４００ａと、顕微干渉計測法における光学系４００ｂと、ステージ２００と、干渉対物レンズ３００を搭載する顕微鏡本体４００と、試料１７の３次元形状を観察する際に画像処理や顕微鏡本体４００を制御する制御部５００と、を有し、例えば干渉対物レンズ３００を連続して光軸に沿って移動させ、相対距離を連続的に変え、レーザ用受光素子１１と撮像素子１６から出力される出力信号を最適なタイミングで取得する。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で共焦点レーザ走査型顕微鏡によって取得される表面光学像情報と顕微干渉計測法によって取得される高さ情報を関連付けて管理し、広い倍率範囲に渡って高精細、高分解能な試料の３次元形状を容易に取得し、効率的にこの３次元形状を測定、表示する３次元形状測定装置を提供する。
【解決手段】共焦点レーザ走査型顕微鏡の光学系４００ａと、顕微干渉計測法の光学系４００ｂを組み合わせ、光学系４００ａから表面光学像情報（全焦点画像８１）を取得する際の視野と光学系４００ｂから高さ情報（高さ画像８２）を取得する際の視野を、光学系４００ａと光学系４００ｂの両方に用いられる対物レンズ３１によって同一にし、全焦点画像８１と高さ画像８２を関連付け、試料１７の３次元空間座標を管理する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、死角領域をできるだけ少なくした対象物体全体の３次元形状データを得ることができる３次元形状復元処理装置及び方法並びにプログラムを提供することを目的とするものである。
【解決手段】対象物体Ｓに対して反射ミラー２４及び２５を介して撮像素子Ｄにより撮影を行う。反射ミラー２５を光軸Ａを中心とする円周Ｃ上に周回移動させて異なる角度位置から撮影を行い、各角度位置において焦点距離を変化させて撮影した複数の撮影画像の合焦領域に基づいて各角度位置の立体形状データを生成する。そして、立体形状データの死角領域を除去する編集処理を行った後、編集形状データを共通座標系に変換処理して統合することで死角領域の少ない３次元形状データを復元することができる。 （もっと読む）

媒体上にパターンを撮像するための方法を提供する。反復するサブ領域パターンの間隔が求められ、個々にアドレス指定可能なチャネル・アレイを有する撮像ヘッドは、媒体上に帯状画像片を形成するよう撮像ビームを誘導するよう動作させる。個々にアドレス指定可能なチャネルは反復する特徴パターンを撮像するよう制御され、反復する特徴パターンの間隔は反復するサブ領域パターンの間隔にほぼ等しくなるよう調節される。
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【課題】測定時間を短縮することができる共焦点顕微鏡を提供する。
【解決手段】光源２２の光からライン状の輝線を取り出し、輝線から放射された白色光を、色収差発生レンズ３４で連続した波長成分に色分散した後、対物レンズ３６を介してステージ３７上の試料２１に照射する。色分散されたライン状の輝線は、光軸４１上に波長ごとに連続して高さ方向に結像し、試料２１の表面のある１つの点に１つの波長の光が焦点を結ぶ。試料２１表面に焦点を結んだ波長の光の反射光を、対物レンズ３６を介して色収差発生レンズ３４で集光した後、スリット５２で焦点を結ぶように構成する。スリット５２を通過した光を、分光素子６２で分光して２次元アレイ光検出器８２に結像する。 （もっと読む）

【課題】反射率の異なる部分を有する被測定物上の被測定面の高さを高速で測定することができる表面測定装置を提供する。
【解決手段】共焦点光学系２を有した表面測定装置１であって、この共焦点光学系２の対物レンズ２７と結像レンズ２５との間に、この対物レンズ２７と同軸に設けた遮光板２６と、この対物レンズ２７と同軸に、被測定面６ａにレーザ光を照射するレーザ発振器２０と、前記対物レンズ２７を介して前記被測定面６ａの像の輝度を検出する光検出手段２１と、この共焦点光学系２の焦点面を被検物に垂直に相対移動させるピエゾ素子２５ａとを有することを特徴としている。 （もっと読む）

照射光を片持ち梁に投射して、片持ち梁から反射又は透過した干渉縞を検出し、干渉縞の少なくとも一部分における強度変動を測定することにより片持ち梁の変形を算出することによって、固定型又は非固定型片持ち梁の変形を測定するための装置及び方法。
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【課題】撮像手段によって撮像される画像にズレが生ずることがない加工装置を提供する。
【解決手段】被加工物を保持するチャックテーブルと、チャックテーブルに保持された被加工物を撮像するための光学系と撮像素子を備えた撮像手段と、チャックテーブルに保持された被加工物を加工する加工手段と、チャックテーブルを該撮像手段の撮像領域を含む加工送り方向に移動せしめる移動手段と、撮像手段と該加工手段および該移動手段を制御する制御手段とを具備する加工装置であって、撮像素子に電力を供給する電源回路に開閉スイッチが配設されており、制御手段は撮像手段による撮像工程を実施する際に開閉スイッチを閉路し、撮像手段による撮像工程が終了したら開閉スイッチを開路する。 （もっと読む）

【課題】テーパ状光ファイバを用いることなく、高い測定分解能を与え、光学ペンに接続された光ファイバの互換性を与える。
【解決手段】検出器アパーチャ要素１９０、４９０が、クロマティック共焦点センサ３００、６００に接続される光ファイバ１１２の光伝達コア１１６の直径Ｄ１より小さなアパーチャ１９５、４９５を与える、クロマティック共焦点センサ用のファイバ・インターフェース構造１００、４００が与えられる。検出器アパーチャ要素１９０、４９０は、クロマティック共焦点センサ３００、６００の色分散光学系３５０、６５０に対して固定され、光ファイバ１１２はアパーチャ要素１９０、４９０に接し、光ファイバコア１１６はアパーチャ１９５、４９５に整列される。アパーチャ要素１９０、４９０とファイバ端部は、ファイバ軸に対して傾けられ、偽の反射を光信号通路から逸らせることができる。 （もっと読む）